记录和再现设备、记录和再现方法以及确定记录介质类型的方法技术

技术编号:3078843 阅读:181 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
公开了一种有效地确定记录介质类型的方法、一种使用该方法的记录和再现方法以及一种使用该方法的记录和再现设备。因为在使用近场的记录和再现中,必须保持在透镜(136)和记录介质之间的窄距离,该记录和再现设备进一步包括调节光束聚焦位置的焦点调节器(135)。当通过调节焦点调节器而探测到在焦点扫描期间产生的信号变化时,能够确定记录介质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种记录和再现设备、 一种记录和再现方法以及一种 确定记录介质类型的方法,并且更加具体地,涉及一种有效地确定记 录介质类型的方法、 一种使用该方法的记录和再现方法以及一种使用 该方法的记录和再现设备。
技术介绍
通常,光学记录和再现设备是一种在诸如压縮盘(CD)、数字通 用盘(DVD)等的记录介质中记录数据并且再现在记录介质中记录的 数据的设备。由于需要处理高密度运动图片以满足用户不断增长的需 求和活动图片压縮技术的发展,需要一种高密度记录介质。研制高密 度记录介质所必要的基本技术中之一是与光学头即光学拾取器有关的 技术。在以上记录介质中,记录密度可以依赖于投射在记录介质的记录 层上的光束直径。换言之,投射并且聚焦在记录介质上的光束直径越 小,则记录密度增加更多。在此情形中,聚焦光束的直径主要由两个 因素确定。 一个是数值孔径(NA) , g卩,用于聚焦光束的透镜的性能, 另一个是在透镜上聚焦的光束的波长。因为记录密度随着聚焦光束波长降低而增加,具有短波长的光束 被用作增加记录密度的一种解决方案。换言之,与使用红光束的情形 相比,在使用蓝光束的情形中,能够获得更高的记录密度。然而,在 使用传统透镜的远场记录头的情形中,因为光束衍射具有极限,在光 束直径降低上也存在极限。为了解决该问题,近期的趋势是研制使用 近场光学的近场记录(NFR)设备,从而能够存储并且读出比光束波长更短的单元中的信息。通过使用具有高于物镜的折射率的透镜,使用透镜的NFR设备获得具有低于衍射极限的极限的光束,并且光束以倏逝波(evanescent wave)的形式传播到靠近界面的记录介质,从而存储高密度位信息。 图1是局部地说明在NFR设备中在记录介质上投射光束的透镜和记录 介质的示意性视图。如说明的,NFR设备的透镜单元可以被如此配置, 使得由物镜111聚焦的光束通过高折射率透镜(high-index lens) 112。 在此情形中,以等于或者大于临界角度的角度进入高折射率透镜112 的光束在发射期间被从高折射率透镜112全折射并且在透镜表面上形 成具有弱强度的光束。换言之,形成倏逝波。倏逝波使得能够获得高 分辨率,否则在使用单透镜的设备中由于波长的衍射极限而不能实现 的此高分辨率。此时,高折射率透镜112和记录介质113在lOOnm的 短距离内非常靠近地相互接近以产生近场从而能够存储由倏逝波引起 的高密度位信息。这里,为方便说明,产生如上所述的倏逝波的区域 被称作近场。然而,传统的技术具有如下缺点。因为,为了维持倏逝波,透镜与记录介质之间应该保持短的距离, 因此难以移动物镜自身以改变聚焦位置。而且,因为从存储在记录介质中的管理信息获得记录介质的结构 信息,确定记录介质是否为所需记录介质占用大量时间。
技术实现思路
技术问题因此,鉴于以上问题已经完成本专利技术,并且本专利技术的一个方面在 于提供一种其中被投射到记录介质上的光束的聚焦位置改变的记录和 再现设备,以及一种改变聚焦位置的方法。本专利技术的另一个方面在于提供一种有效地确定记录介质的结构的 方法。技术方案根据本专利技术的一个方面,能够通过提供一种光学拾取器实现以上 和其它目的,该光学拾取器包括透镜单元,其用于聚焦或者投射从 光源发射的光束;焦点调节器,其被提供于光束路径中,用于改变在 记录介质上投射的光束的位置并且用于扫描记录介质;以及光探测单 元,其用于接收被记录介质反射的光束并且产生信号。这里,焦点调 节器包括至少一个可调节透镜以改变光束的路径。根据本专利技术的一个方面,能够通过提供一种记录和再现设备实现 以上和其它目的,所述记录和再现设备包括透镜单元,其用于聚焦 或者投射从光源发射的光束;焦点调节器,其被提供于光束路径中, 用于改变在记录介质上投射的光束的位置并且用于扫描记录介质;光 探测单元,其用于接收被记录介质反射的光束并且产生信号;以及控 制器,其用于使用在扫描期间产生的信号来确定记录介质。这里,控 制器响应于变化信号的周期产生有关记录介质的记录层的数目、厚度 和位置的信息。例如,当焦点误差信号的数值变为0 (零)时,控制器 将确定光束聚焦的位置作为记录层的位置,或者当射频信号或者跟踪 误差信号的数值最大时,将光束聚焦的位置确定作为记录层的位置。根据本专利技术的一个方面,能够通过提供一种记录和再现设备实现 以上和其它目的,所述记录和再现设备包括透镜单元,其包括物镜 和高折射率透镜,所述高折射率透镜的折射率高于物镜的折射率;焦 点调节器,其被提供于从光源发射并且投射在记录介质上的光束的路 径中,以改变投射在记录介质上光束的位置并且用于扫描记录介质; 第一和第二光探测器,其用于分别地接收被记录介质反射并且被分裂 和组合单元分裂的光束;以及控制器,其用于使用在扫描期间产生的信号来确定记录介质。这里,第一光探测器产生间隙误差信号并且第 二光探测器产生焦点误差信号、跟踪误差信号或者射频信号。根据本专利技术的一个方面,能够通过提供一种确定记录和再现设备 中的记录介质的方法来实现以上和其它目的,该方法包括(a)精密 地控制在记录介质上聚焦的光束的位置;(b)以大于步骤(a)的尺度 控制在记录介质上投射的光束的位置;和(C)使用步骤(b)中的控制, 扫描在记录介质上的焦点并且确定记录介质。这里,在步骤(a)中,在记录和再现过程期间,执行在记录和再 现设备的透镜单元和记录介质之间的距离的反馈控制以防止光束偏离 记录介质的记录层,并且在步骤(b)中,通过调节记录和再现设备的 焦点调节器改变在记录介质上聚焦光束的位置。而且,在步骤(c)中, 响应于在焦点扫描期间探测到的变化信号的周期性质确定记录介质的 记录层的数目、厚度或者位置。根据本专利技术的一个方面,能够通过提供一种记录和再现设备的记 录介质确定方法实现以上和其它目的,所述记录和再现设备包括透镜 单元和被提供于进入透镜单元的光束的路径中,以改变在记录介质上 聚焦光束的位置的焦点调节器,所述方法包括当记录介质被插入记 录和再现设备中时调节焦点调节器;并且通过扫描记录介质而确定记 录介质。有利的效果根据本专利技术,独立于透镜单元的焦点调节器被调节以改变在记录 介质上投射的光束的位置。而且,能够获得在记录介质中含有的记录层的数目及其位置,并 且被投射到记录层上的一定位置处的光束的位置能够被改变和保持。进而,能够确定记录介质的类型而不用读出存储在记录介质中的 管理信息。附图说明被包括以提供对本专利技术的深入理解并且被并入和构成该申请的一 部分的附图说明了本专利技术的实施例(一个或多个)并且与说明书一起 用于解释本专利技术的原理。在图中图1是局部地说明使用近场的传统的光学记录设备的光学拾取器的示意性截面视图2是说明根据本专利技术实施例的记录和再现设备的体系的框图; 图3是说明根据本专利技术第一实施例在记录和再现设备中安装的光学拾取器的框图4是与记录介质一起说明根据本专利技术第一实施例的光学拾取器 的透镜单元的示意性截面视图5是与记录介质一起说明在光学拾取器中安装的焦点调节器的 第一实施例的示意性截面视图6是示意性的说明在光学拾取器中安装的焦点调节器的第二实 施例的侧截面视图7是与记录介质一起说明焦点调节器的第二实施例的示意性截 面视图8是说明根据本专利技术实施例在记录和再现设备本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光学拾取器,包括: 透镜单元,所述透镜单元用于聚焦或者投射从光源发射的光束; 焦点调节器,所述焦点调节器被提供于所述光束路径中,用于改变投射在记录介质上的所述光束的位置并且扫描所述记录介质;以及 光探测单元,所述光探测 单元用于接收被所述记录介质反射的所述光束并且产生信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2006-4-11 10-2006-0032802;KR 2006-7-13 10-2006-1. 一种光学拾取器,包括透镜单元,所述透镜单元用于聚焦或者投射从光源发射的光束;焦点调节器,所述焦点调节器被提供于所述光束路径中,用于改变投射在记录介质上的所述光束的位置并且扫描所述记录介质;以及光探测单元,所述光探测单元用于接收被所述记录介质反射的所述光束并且产生信号。2. 根据权利要求l所述的光学拾取器,其中所述焦点调节器包括 至少一个可调节透镜以改变所述光束的路径。3. 根据权利要求2所述的光学拾取器,其中所述焦点调节器进一 步包括具有固定位置的第一透镜;以及 在光轴移动的第二透镜。4. 一种记录和再现设备,包括透镜单元,所述透镜单元用于聚焦或者投射从光源发射的光束; 焦点调节器,所述焦点调节器被提供于所述光束路径中,用于改 变投射在记录介质上的所述光束的位置并且扫描所述记录介质;光探测单元,所述光探测单元用于接收被所述记录介质反射的所述光束并且产生信号;以及控制器,所述控制器用于使用在扫描期间产生的所述信号确定所 述记录介质。5. 根据权利要求4所述的记录和再现设备,其中所述焦点调节器 包括至少一个可调节透镜以改变所述光束的路径。6. 根据权利要求5所述的记录和再现设备,其中所述焦点调节器进一步包括具有固定位置的第一透镜;以及 在光轴移动的第二透镜。7. 根据权利要求4所述的记录和再现设备,其中所述控制器响应 于变化信号的周期产生有关所述记录介质的记录层的数目、厚度或者 位置的信息。8. 根据权利要求4所述的记录和再现设备,其中当焦点误差信号 的值变为0 (零)时,所述控制器将所述光束聚焦的位置确定作为记录 层的位置。9. 根据权利要求8所述的记录和再现设备,其中所述焦点误差信 号包括指示以散光方式形成的反射光束的对称性的信号。10. 根据权利要求4所述的记录和再现设备,其中当射频信号或 者跟踪误差信号的数值最大时,所述控制器将所述光束聚焦的位置确 定作为记录层的位置。11. 根据权利要求4所述的记录和再现设备,其中所述控制器将 焦点误差信号的值变为0 (零)并且射频信号或者跟踪误差信号的值变 得最大的位置确定作为记录层的位置。12. —种记录和再现设备,包括透镜单元,所述透镜单元包括物镜和高折射率透镜,所述高折射率透镜具有比所述物镜的折射率高的折射率;焦点调节器,所述焦点调节器被提供于从光源发射并且投射在记 录介质上的光束的路径中,用以改变投射在所述记录介质上的所述光 束的位置并且扫描所述记录介质;第一和第二光探测器,所述第一和第二光探测器用于分别地接收被所述记录介质反射并且被分裂和组合单元分裂的光束;以及控制器,所述控制器用于使用在所述扫描期间产生的信号来确定 所述记录介质。13. 根据权利要求12所述的记录和再现设备,其中所述焦点调节 器包括至少一个可调节透镜以改变所述光束的路径。14. 根据权利要求13所述的记录和再现设备,其中所述焦点调节 器进一步包括具有固定位置的第一透镜;以及 在光轴移动的第二透镜。15. 根据权利要求12所述的记录和再现设备,其中所述光探测器 中的一个产生间隙误差信号并且另一个光探测器产生焦点误差信号...

【专利技术属性】
技术研发人员:申允燮徐丁教
申请(专利权)人:LG电子株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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