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公开了一种有效地确定记录介质类型的方法、一种使用该方法的记录和再现方法以及一种使用该方法的记录和再现设备。因为在使用近场的记录和再现中，必须保持在透镜（１３６）和记录介质之间的窄距离，该记录和再现设备进一步包括调节光束聚焦位置的焦点调节器（...
该专利属于LG电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG电子株式会社授权不得商用。

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