【技术实现步骤摘要】
本专利技术属信息存储材料领域,特别涉及多层磁光记录介质。80年代中期发展起来的可擦、重写光盘存储技术集光记录与磁记录于一体,具有很明显的优点,发展极为迅速。目前磁光盘的结构普遍采用的是组分调制式的多层结构。它是在经过预刻槽的盘基上依次淀积下保护层、磁光层、上保护层。盘基采用聚碳酸脂片、磁光层则用铽铁钴(FbTeCO)非晶态合金膜。磁光层中的稀土元素极易氧化使磁光层写、读、擦性能变坏,导致了氮化硅(SiNx0<X≤4/3)的上下保护层。为了保证高的载噪比和优良的光学、热学匹配,保护层一般较薄,其抗氧化性能尚不能令人满意。为了提高磁光盘的载噪比,在上保护层之上还附着了一铝反射层。上述各层均应具有均匀的特性(厚度均匀性小于±2%)、带有精细的表面以及与盘基有良好的附着特性。采用铝反射层后改善了磁光盘的读出特性,保证入射光同磁光材料具有最大的相互作用。然而铝虽然有较高的反射率和良好的散热性,却是一种很活泼的金属,一与大气接触就会在表面上形成氧化铝薄膜。而氧化铝又是一种吸湿性很强的介质,因此铝膜难于满足恶劣环境下的长期使用。另外从铝膜的真空淀积性能来看,它所形成的薄膜 ...
【技术保护点】
一种多层磁光记录介质,由盘基、下保护层、磁光层、上保护和铝反射层构成,其特征在于在铝反射层之上还有一铬附加层。
【技术特征摘要】
1.一种多层磁光记录介质,由盘基、下保护层、磁光层、上保护和铝反射层构成,其特征在于在铝反射层之上...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈小洪,张鹰,范启华,金懋昌,洪源,
申请(专利权)人:电子科技大学,
类型:发明
国别省市:51[中国|四川]
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