信息记录介质制造技术

本发明专利技术涉及一种利用光射束照射的信息记录介质，包括：一个具有一个设有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个跟踪轨迹并在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其中凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的一边更短，并且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于存储和/或重放信息的信息记录介质。近年来，作为具有高记录密度的信息记录介质，例如象光盘，光卡等等这样的光记录介质的研究和开发已经被广泛地进行。这些光记录介质的例子包括象致密盘(CD)这样的只重放型的介质，和象CD—R和磁光盘这样的能够附加地写入和/或删除信息的介质。在只重放型光记录介质的情况下，通过在一个衬底中形成的信息的结构能够影响信息的质量。例如，在以凹形和凸形的形式记录信息和利用它们的相位差重放该信息的光记录介质的情况下，待检测的信息信号受到凹形和凸形的三维形状的影响。能够附加地写入和/或删除信息的光记录介质在一个衬底上也具有用于记录、删除和重放信息的跟踪槽，和象用于数据管理和同步信号这样的与用于格式的信息对应的预坑(此后将把在衬底中预成形的信息，包括跟踪槽和预坑称为＂预成型＂)。作为用于形成这样一种光记录介质的记录层的方法，已经公知了一种利用汽相淀积过程的方法，例如真空沉积或溅射，和一种涂覆一种涂覆液的方法(此后称为＂湿涂法＂)。特别是利用湿涂法形成记录层的方法是一种引人注意的方法，因为能够以低成本来形成记录层。然而，在利用湿涂法在一个在其上已形成了象跟踪槽和预坑这样的预成型的衬底上设置记录层的情况下，在凹形中聚集了涂覆液，并由此导致涂覆层在厚度上变为不均匀。在利用湿涂法在一个衬底上设置包括一种着色剂的记录层的情况下，该衬底的表面和该衬底中的凹形在记录介质的厚度上相互有差别，并因此在某些情况下它们具有不同的反射率。在具有一个常规的预成型的衬底上设置记录层，该预成型以记录层被形成为前提被设置以便能够在凹形和凸形上获得相同反射率的情况下，不能够获得充分的对比度。为了解决这种问题，本专利技术的申请人在日本专利申请公开号1—23434和2—257444中已经公开了甚至当利用湿涂法形成记录层时能够提供极好对比度的信息记录介质。特别是本专利技术的申请人在后一个申请中已经公开了一种能够达到高对比度的信息记录介质，它是利用由湿涂法形成的记录层的特征，即在预成型的凹形上形成的记录层比在与其相邻的凸形上形成的记录层更厚，如在图5A中所示，和改进凹形预成型的截面形状来获得高对比度的。然而，这种信息记录介质能够引起在它的记录区域的中心部分和周边部分之间存储的信息的重放信号的对比度的分散。特别是，当重放记录区域的周边部分的预成型时，可以获得一种如在图5A和5B中所示具有W型形状的波形的重放信号。这样一种型式使对比度更坏。虽然观察到这种信号型式的原因不能清楚地理解，但是它被认为是由于下面原因造成的，即在记录区域的周边部分上形成的记录层比在记录区域的中心部分上形成的记录层更薄的情况下，在预成型的凹形中没有填满用于光反射层的足够量的材料，因此预成型凹形底部的记录层的厚度变得比在预成型凹形中光反射层表现最小反射率的厚度更薄。虽然这个问题在某种程度上能够被解决，例如，通过严格地控制干燥条件，但是由干燥条件中的细微变化可以引起重放信号中对比度的变化。此外，这种干燥条件的严格控制也构成了使这种信息记录介质的成本增加的原因。考虑到上述的现有技术，本专利技术的一个目的是提供一种信息记录介质，该信息记录介质在它的整个记录区域上能够提供均匀和极好对比度的信号，和一种用于在记录介质上记录和重放的方法。根据本专利技术的一个方面，提供一种用光辐射束照射的信息记录介质，包括一个具有一个设置有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个跟踪轨迹并在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的一边更短，并且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。根据本专利技术的另一个方面，提供一种信息记录—重放方法，包括利用波长为λ的光辐射束照射信息记录介质来实现信息的记录或重放；所述信息记录介质包括一个具有一个设置有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个轨迹并且在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的一边更短，并且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。根据本专利技术的又一个方面，提供一种用光辐射束照射的信息记录介质，包括一个具有一个设有跟踪槽的表面的衬底，这些跟踪槽由一个记录轨迹相互被分离开，该记录轨迹具有一个平的表面，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面的形成的光反射层，其特征是每个跟踪槽在横截跟踪槽的方向上具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的一边更短，并且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。本专利技术人对在现有技术中存在的上述的问题进行了调查研究。其结果是，已经发现当一个凹形预成型的截面形状是具有一个矩形部分的开口梯形这样的形状，梯形部分是一个其上边大于其下边的倒梯形，和矩形部分与梯形部分的底边邻接时，能够提供一种高质量的信息记录介质，甚至当干燥条件波动时，其中对比度的变化量是小的。虽然这种截面形状提供上述的效果的原因不能清楚地被理解，但是它被认为是由于在横截记录轨迹的方向上通过设置矩形部分确确实实地设置具有在预成型的凹形中表现为最小反射率的厚度的光反射层的充足宽度，该预成型的结构至今为止依赖于用于形成光反射层的涂覆液、干燥条件等等。本专利技术的这些和其它的目的、特征和优点将通过借助于结合附图的例子来描述的本专利技术的若干实施例而变得更明显。附图说明图1是根据本专利技术的一种实施例的光记录介质在横截一个轨迹方向上的横截面图。图2是在图1中所示的光记录介质的一个局部放大的横截面图。图3是说明在用于例1中的光反射层的材料的膜厚度和反射率之间的关系曲线。图4是根据本专利技术的另一种实施例的光记录介质在横截一个轨迹方向上的横截面图。图5A是现有技术的光记录介质在横截轨迹的方向上的一个横截面图；图5B是说明在图5A中所示的光记录介质在横截轨迹的方向上的信号波形图。图6是说明根据例1的一个光卡的记录区域的中心部分和周边部分的视图。图7是说明在例13中用于光反射层的材料的膜厚度和反射率之间的关系曲线。图8是用于根据本专利技术的实施例的光记录介质的一个衬底的透视图。图9A是一个沿图8中线B—B截取的截面图。图9B是一个沿图8中线C—C截取的截面图。图1和图2是根据本专利技术的一种实施例的光记录介质在横截轨迹的方向上的横截面图。参考图1，标号1和2分别代表一个光记录介质和一个透明的衬底。在衬底2的表面上形成了一个包括凹形跟踪轨迹7等的预成型。利用湿涂法在已形成预成型的表面上形成一个光反射层3，在该光反射层3上叠加一个保护衬底5，和在光反射层3和保护衬底5之间设置一个粘合层4。参考图2，光记录介质1的凹形跟踪轨迹7在横截轨迹的方向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用光辐射束照射的信息记录介质，包括：一个具有一个设置有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个跟踪轨迹并在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的边更短，而且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。

【技术特征摘要】
JP 1994-7-25 172482/941.一种用光辐射束照射的信息记录介质，包括一个具有一个设置有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个跟踪轨迹并在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的边更短，而且矩形部分与构成梯形部分的底部的边邻接。2.根据权利要求1的介质，其特征是所述光反射层在衬底的凹形上的厚度大于在凸形上的厚度。3.根据权利要求2的介质，其特征是光反射层具有一个在凸形上实际表现为最大反射率的厚度和一个在凹形上实际表现为最小反射率的厚度。4.根据权利要求1的介质，其特征是凹形在横截轨迹方向上具有一个预定的宽度(b)，而矩形部分在横截轨迹的方向上具有一个宽度(c)，并且宽度之比(c/b)大于0但是不大于1。5.根据权利要求4的介质，其特征是预定宽度(b)满足下列不等式0.5＜(b/φ)＜1.5，其中φ代表光辐射束的直径。6.根据权利要求4的介质，其特征是所述的宽度比是在0.14至0.96的范围内。7.根据权利要求6的介质，其特征是所述的宽度比是在0.2至0.9的范围内。8.根据权利要求1的介质，其特征是光反射层包括有机着色剂。9.根据权利要求8的介质，其特征是有机着色剂是聚甲炔染料。10.根据权利要求9的介质，其特征是聚甲炔染料是1，1，5，5—四(对-二乙氨基苯基)戊二烯鎓高氯酸盐。11.根据权利要求1的介质，其特征是在每个斜边和衬底的表面的延伸部分之间形成的一个角(θ)大于0度但不大于60度。12.根据权利要求11的介质，其特征是角(θ)是在10度至40度的范围内。13.根据权利要求12的介质，其特征是角(θ)是在15度至35度的范围内。14.根据权利要求1的介质，其特征是预成型的凹形具有一个大于λ/4n的深度(d)，其中λ代表光辐射束的波长和n代表衬底的折射率。15.根据权利要求14的介质，其特征是凹形的矩形部分具有一个在5至80nm范围内的深度(d2)。16.根据权利要求15的介质，其特征是深度(d2)是在8至60nm的范围内。17.一种信息记录一重放方法，包括利用波长为λ的光辐射束照射一种信息记录介质来实现信息的记录或重放；所述信息记录介质包括一个具有一个设置有预成型的表面的衬底，该预成型包括一个轨迹并且在横截轨迹的方向上形成一种截面形状，该截面形状包括一个设置在两个凸形之间的凹形，每个凸形有一个平顶，和一个通过把一种涂覆液施加在该衬底的表面所形成的光反射层，其特征是凹形具有一个开口梯形的截面形状，该开口梯形具有一个矩形部分，梯形部分具有一对平行相对的边和一对构成该梯形部分的壁的斜边，构成梯形部分的底部的一个平行边比相对的边更短，关且矩形部分与构形梯形部分的底部的边邻接。18.根据权利要求17的方法，其特征是所述在其上待记录的或待重放的信息记录介质的光反射层在衬底的凹形上的厚度大于在凸形上的厚度。19.根据权利要求17的方法，其特征是光反射层具有一个在凸形上实际表现为最大反射率的厚度和一个在凹形上实际表现为最小反射率的厚度。20.根据权利要求17的方法，其特征是凹形在横截轨迹的方向上具有一个预定的宽度(b)，而矩形部分在横截轨迹的方向上具有一个宽度(c)，并且宽度之比(c/b)大于0但不大于1。21.根据权利要求20的方法，其特征是预定宽度(b)...

【专利技术属性】
技术研发人员：今泷宽之，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]