一种抛光盘的水冷结构制造技术

技术编号:30587681 阅读:12 留言:0更新日期:2021-11-03 22:51
本实用新型专利技术公开一种抛光盘的水冷结构,包括冷却盘,还包括进水口、出水口和冷却水路,所述进水口设置在所述冷却盘的中心位置处,所述出水口为多个,且所述出水口环绕所述进水口均匀分布,冷却水通过所述进水口流入所述冷却水路,然后通过出水口流出,冷却水路为曲线回路并设置有狭小流动口,所述冷却水路中的挡水处都设置有坡度。该水冷结构增加了大盘的冷却面积,加快了冷却水流速度,冷却效果得到了提升。冷却效果得到了提升。冷却效果得到了提升。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光盘的水冷结构


[0001]本技术属于半导体加工制造
,尤其涉及一种抛光盘的水冷结构。

技术介绍

[0002]抛光加工过程中,抛光用的大盘在旋转加工过程中产生大量的热量,会导致大盘温度升高,进而对工件和设备都有带来一定伤损,此时就需要在加工过程中对抛光盘进行持续的水冷降温,市面上现有的与抛光盘配合的冷却盘大都存在大盘冷却面积不够和冷却水流速度慢的缺点。
[0003]本技术为了克服上述缺陷,进行了有益的改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于解决现有技术中的上述不足,提供了一种抛光盘的水冷结构。该水冷结构增加了大盘的冷却面积,加快了冷却水流速度,冷却效果得到了提升。
[0005]为了实现上述目的,本技术采用以下技术方案:
[0006]一种抛光盘的水冷结构,包括冷却盘,其特殊之处在于:还包括进水口、出水口和冷却水路,所述进水口设置在所述冷却盘的中心位置处,所述出水口为多个,且所述出水口环绕所述进水口均匀分布,冷却水通过所述进水口流入所述冷却水路,然后通过出水口流出。
[0007]优选地:所述冷却水路为曲线回路并设置有狭小流动口,所述冷却水路中的挡水处都设置有坡度。
[0008]优选地:所述出水口的数量为六个。
[0009]与现有技术相比,本技术的有益效果如下:
[0010]1.本技术通过设置冷却盘、冷却水路、进水口和出水口,增加冷却水流过面积和水流速度,从而起到抛光盘增加抛光盘降温速度的优点,值得推广。
[0011]2.本技术通过设置冷却水路为曲线回路设计并设有狭小流动口,且冷却水路中挡水处都设有坡度,冷却水进入冷却水路中小空间充满后经狭小流动口流向下一个小空间,增加冷却水在冷却盘中冷却面积和冷却水流动速度,促进冷却水流动。
附图说明
[0012]图1是本技术实施例水冷结构的俯视图。
[0013]图2是本技术实施例水冷结构的仰视图。
[0014]图3是本技术实施例水冷结构的整体结构图。
[0015]附图标记:1、冷却盘、2、冷却水路、3、进水口、4、出水口。
具体实施方式
[0016]为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合
附图详细说明如下。
[0017]下面结合附图对本技术的结构作详细的描述。
[0018]如图1至图3所示,本技术实施例提供的一种抛光盘的水冷结构,包括冷却盘1,冷却水路2,进水口3和出水口4,所述进水口3设置在冷却盘1中心处,六个出水口4均匀分布在进水口3。
[0019]参考图1至图3,冷却水路2为曲线回路设计并设有狭小流动口,且冷却水路2中挡水处都设有坡度。
[0020]采用上述方案:通过设置曲线回路设计并设有狭小流动口,且冷却水路2中挡水处都设有坡度,冷却水进入冷却水路2中小空间充满后经狭小流动口流向下一个小空间,增加冷却水在冷却盘1中冷却面积和冷却水流动速度,促进冷却水流动。
[0021]本技术的工作原理:
[0022]在使用时,冷却水通过进水口3进入冷却盘1中的冷却水路2,冷却水路2为曲线回路设计并设有狭小流动口,且冷却水路2中挡水处都设有坡度,冷却水进入冷却水路2中小空间充满后经狭小流动口流向下一个小空间,增加冷却水在冷却盘1中冷却面积和冷却水流动速度,促进冷却水流动,冷却水后充满整个冷却水路2经出水口4流出冷却盘1。
[0023]综上所述:该抛光盘水路设计,通过设置冷却盘1,冷却水路2,进水口3,和出水口4,具有增加冷却水流过面积和水流速度,从而起到抛光盘增加抛光盘降温速度的优点,值得推广。
[0024]需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
[0025]尽管已经示出和描述了本技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光盘的水冷结构,包括冷却盘,其特征在于:还包括进水口、出水口和冷却水路,所述进水口设置在所述冷却盘的中心位置处,所述出水口为多个,且所述出水口环绕所述进水口均匀分布,冷却水通过所述进水口流入所述冷却水路,然后通过出水口流出。...

【专利技术属性】
技术研发人员:寇明虎刘泳沣
申请(专利权)人:北京特思迪半导体设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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