本发明专利技术提供的一种电脑壳体表面处理工艺，包括如下步骤：(1)根据所需要的图形调整振镜的参数；(2)确定振镜的第一参数对壳体的第一表面进行第一次激光，得到第一深度刻痕；(3)确定振镜的第二参数，在第一次深度刻痕的部分区域进行第二次激光，得到第二深度刻痕；(4)将壳体浸入电解液进行阳极氧化处理；(5)将阳极氧化过的壳体浸入染料溶液中进行染色处理。其让壳体经过激光表面处理之后，有激光图形产生，整体表面局部颜色有深有浅的现象产生，阳极后激光区域能呈现发亮且雾状般的效果。激光区域能呈现发亮且雾状般的效果。激光区域能呈现发亮且雾状般的效果。
【技术实现步骤摘要】
一种壳体表面处理工艺及其装置
[0001]本专利技术涉及壳体表面处理领域，特别是涉及一种壳体表面处理装置及其工艺。
技术介绍
[0002]阳极氧化是指金属或合金的电化学氧化，铝及其合金在相应的电解液和特定的工艺条件下，由于外加电流的作用下，在铝制品(阳极)上形成一层氧化膜的过程，阳极氧化不但可以解决铝表面硬度、耐磨损性等方面的缺陷，更能延长铝的使用寿命并增强美观度，已成为铝表面处理不可缺少的一环，是目前应用最广且非常成功的工艺。
[0003]现今的计算机壳体表面工艺大部分都是铝皮表面进行阳极氧化染色，也有部分电脑壳体表面先喷砂处理再进行阳极染色，壳体表面颜色根据客户定义的颜色范围制作，往往整体表面颜色单一。
[0004]表面颜色处理工艺缺乏多样化，一个面呈现的颜色只能出现一种，比方说壳体颜色想要红色，红色效果还是能分出深红色浅红色，阳极是将一整片电脑壳体泡浸阳极槽染色，所以染色后的壳体整体颜色效果都是同一种红色，无法实现一个面的颜色有数种红色深浅上的差异，或者是无法实现两种或两种以上颜色的渐变。
技术实现思路
[0005]为解决壳体表面阳极后效果呈现单一颜色，本专利技术提供了一种壳体表面处理工艺，让壳体经过激光表面处理之后，有激光图形产生，整体表面局部颜色有深有浅的现象产生，阳极后激光区域能呈现发亮且雾状般的效果。
[0006]具体地，一方面，本专利技术提供了一种壳体表面处理工艺，包括如下步骤：
[0007](1)根据所需要的图形调整振镜的雕刻参数；
[0008](2)确定振镜的第一雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第一次激光，得到第一深度刻痕；
[0009](3)确定振镜的第二雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹在第一次深度刻痕的部分区域进行第二次激光，得到第二深度刻痕；
[0010](4)将壳体浸入电解液进行阳极氧化处理；
[0011](5)将阳极氧化过的壳体浸入染料溶液中进行染色处理。
[0012]优选地，本专利技术提供的雕刻参数指的是功率、速度、脉冲宽度和频率，其中，第一雕刻参数的功率为70％，速度为1000毫米/秒，脉冲宽度为1ns，频度为50KHz,第二雕刻参数的功率为85％，速度为1200毫米/秒，脉冲宽度为1ns，频度为50KHz。
[0013]由上述方法提供的壳体表面处理工艺使得可以同一颜色的两种不同深浅度，而其本专利技术因为第二雕刻轨迹是在第一雕刻轨迹上进行，即可使得同一颜色的两种深浅度过渡自然，顺滑，可保证其美观性，尤其是阳极染色呈发亮且雾状般的效果。
[0014]另一方面，本专利技术提供了一种壳体表面处理工艺，包括如下步骤：
[0015](1)根据所需要的图形调整振镜的参数；
[0016](2)确定振镜的第一雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第一次激光，得到第一深度刻痕；
[0017](3)确定振镜的第二雕刻参数，沿着第二雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第二次激光，得到第二深度刻痕；其中第一深度刻痕和第二深度刻痕部分重叠；
[0018](4)确定振镜的第三雕刻参数，沿着第三雕刻轨迹对非与第一深度刻痕重叠的第二深度刻痕的区域上进行第三次激光，得到第三次深度刻痕；
[0019](5)将壳体浸入电解液进行阳极氧化处理；
[0020](6)将阳极氧化过的壳体浸入染料溶液中进行染色处理；
[0021]其中，第一深度刻痕上未进行第二次激光的区域作为第一区域，第一区域的刻痕深度为h1，第一次深度刻痕和第二深度重叠的区域作为第二区域，第二区域的刻痕深度为h1+h2；
[0022]相邻第一次深度刻痕和第二深度重叠的区域的壳体的第一表面进行第二次激光和第三次激光后的区域作为第三区域，第三区域的刻痕深度为h2+h3，其中，第一区域、第二区域和第三区域是依次相连的，其中，h1<h3。
[0023]由上述方法提供的壳体表面处理工艺使得可以同一颜色的三种深浅度，而其本专利技术因为第二雕刻轨迹是在第一雕刻轨迹上进行，第三雕刻轨迹是在第二雕刻轨迹上进行，即可使得同一颜色的三种深浅度过渡自然，顺滑，可保证其美观性，尤其是阳极染色呈发亮且雾状般的效果。
[0024]优选地，还包括将染色处理后的壳体进行封孔处理。
[0025]优选地，步骤(1)中根据所需要的图形调整振镜的参数具体为：对存储的图形进行分析，若图形为同一颜色的深浅渐变，先采集颜色最浅的图形，生成第一雕刻轨迹，依次根据颜色由浅入深程度生成第二雕刻轨迹、第三雕刻轨迹...第N雕刻轨迹，其中第一雕刻轨迹、第二雕刻轨迹、第三雕刻轨、第N雕刻轨迹根据颜色深浅程度确定第一雕刻参数、第二雕刻参数、第三雕刻参数...第N雕刻参数，第一雕刻参数、第二雕刻参数、第三雕刻参数...第N雕刻参数，存储在于存储模块中。
[0026]优选地，阳极氧化处理时，电解液为硫酸溶液，硫酸溶液的浓度为160
‑
240g/L，电解液温度为18
‑
20℃。
[0027]优选地，其中，第一雕刻轨迹、第二雕刻轨迹和第三雕刻轨迹后形成第一区域、第二区域和第三区域。
[0028]另一方面，一种壳体表面处理装置，包括底座、振镜、移动平台、X移动轴、Y移动轴、Z移动轴、摄像模块、显示器和控制装置；
[0029]所述移动平台用于放置待加工产品，所述移动平台与X移动轴、Y移动轴连接，通过X移动轴、Y移动轴使移动平台在X方向偏移和Y方向偏移；
[0030]所述振镜与所述Z移动轴连接，用于调整振镜的高度；
[0031]所述X移动轴、Y移动轴、Z移动轴均与电机连接，所述控制装置与所述电机电连接；
[0032]所述摄像模块用于当振镜对移动平台的待加工产品进行激光雕刻时，用于拍摄视频，所述摄像模块与所述控制装置连接，将拍摄的视频传输于所述控制装置；
[0033]所述显示器包括存储模块、雕刻轨迹生成模块、显示屏，所述存储模块用于存储用户所要雕刻的图形；
[0034]所述显示屏与所述存储模块、所述雕刻轨迹生成模块和摄像模块连接，用于显示存储模块存储的图形，雕刻轨迹生成模块生成的振镜所需雕刻的轨迹和所述摄像模块拍摄的激光实际雕刻轨迹；
[0035]所述雕刻轨迹生成模块用于根据所述存储模块存储的图形生成振镜所需雕刻的轨迹，并将此振镜所需雕刻的轨迹传输于所述控制装置，所述控制装置控制振镜按照雕刻轨迹生成模块生成所需雕刻的轨迹进行激光雕刻。
[0036]优选地，所述控制装置还包括比较模块，所述比较模块用于实时比较摄像模块拍摄的实际的振镜雕刻轨迹与所述雕刻轨迹生成模块生成的振镜所需雕刻的轨迹是否重合，若摄像模块拍摄的实际的振镜雕刻轨迹偏离所需雕刻的轨迹，则控制装置控制振镜停止，并根据所需雕刻的轨迹调整控制振镜的参数。
[0037]优选地，所述雕刻轨迹生成模块用于根据所述存储模块存储的图形生成振镜所需雕刻的轨迹，其具体为，对存储的图形进行分析，若图形为同一颜色的深浅渐本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种壳体表面处理工艺，其特征在于，包括如下步骤：(1)根据所需要的图形调整振镜的雕刻参数；(2)确定振镜的第一雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第一次激光，得到第一深度刻痕；(3)确定振镜的第二雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹在第一深度刻痕的部分区域进行第二次激光，得到第二深度刻痕；(4)将壳体浸入电解液进行阳极氧化处理；(5)将阳极氧化过的壳体浸入染料溶液中进行染色处理。2.如权利要求1所述的壳体表面处理工艺，其特征在于，雕刻参数分别为功率、速度、脉冲宽度和频率，其中，第一雕刻参数的功率为70％，速度为1000毫米/秒，脉冲宽度为1ns，频度为50KHz,第二雕刻参数的功率为85％，速度为1200毫米/秒，脉冲宽度为1ns，频度为50KHz。3.一种壳体表面处理工艺，其特征在于，包括如下步骤：(1)根据所需要的图形调整振镜的参数；(2)确定振镜的第一雕刻参数，沿着第一雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第一次激光，得到第一深度刻痕；(3)确定振镜的第二雕刻参数，沿着第二雕刻轨迹对壳体的第一表面进行第二次激光，得到第二深度刻痕；其中第一深度刻痕和第二深度刻痕部分重叠；(4)确定振镜的第三雕刻参数，沿着第三雕刻轨迹对非与第一深度刻痕重叠的第二深度刻痕的区域上进行第三次激光，得到第三深度刻痕；(5)将壳体浸入电解液进行阳极氧化处理；(6)将阳极氧化过的壳体浸入染料溶液中进行染色处理；其中，第一深度刻痕上未进行第二次激光的区域作为第一区域，第一区域的刻痕深度为h1，第一次深度刻痕和第二深度重叠的区域作为第二区域，第二区域的刻痕深度为h1+h2；相邻第一次深度刻痕和第二深度重叠的区域的壳体的第一表面进行第二次激光和第三次激光后的区域作为第三区域，第三区域的刻痕深度为h2+h3，其中，第一区域、第二区域和第三区域是依次相连的，其中，h1<h3。4.如权利要求1或3所述的壳体表面处理工艺，其特征在于，还包括将染色处理后的壳体进行封孔处理。5.如权利要求1或3所述的壳体表面处理工艺，其特征在于，步骤(1)中根据所需要的图形调整振镜的参数具体为：对存储的图形进行分析，若图形为同一颜色的深浅渐变，先采集颜色最浅的图形，生成第一雕刻轨迹，依次根据颜色由浅入深程度生成第二雕刻轨迹、第三雕刻轨迹...第N雕刻轨迹，其中第一雕刻轨迹、第二雕刻轨迹、第三雕刻轨、第N雕刻轨迹根据颜色深浅程度确定第一雕刻参数、第二雕刻参数、第三雕刻参数...第N雕刻参数，第一雕刻参数、第二雕刻参数、第三雕刻参数...第N雕刻参数，存储在于存储模块中。6...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪楠周，
申请(专利权)人：广泰精密科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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