被构图介质、该介质的制造方法以及磁记录/再现装置制造方法及图纸

一种被构图介质包括被处理成磁道图形、伺服区图形或数据区图形的磁性膜（３３），以及被填充在所述磁性膜（３３）上的磁道图形、伺服区图形或数据图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材（３４、３５）和由不组成所述基材（３４、３５）的金属构成的阻挡材料（３６）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的一个实施例涉及到被构图介质、制造被构图介质的方法以及使用这种被构图介质的磁记录/再现装置。
技术介绍
近年来，作为实现高密度磁记录/再现装置(HDD)的技术，被构图介质得到了积极的研究。在常规的HDD介质中，通过读写头在连续磁性膜上的任意位置处进行信息的记录和再现。与之相对照，被构图介质具有被构图的磁性膜，该磁性膜被提前处理成指定图形，其中，信息的记录和再现由读写头依照所述图形来进行。就处理过的图形的配置来说，研究了一种所谓的离散磁道介质(DTM、DTR)，其中，只有伺服数据和记录磁道被处理过，并依照常规方法在圆周方向上进行记录；以及一种所谓的离散比特介质(或比特被构图介质，bit patterned media)，其中，比特单元的图形连同伺服数据在圆周方向上被处理。这种离散磁道介质或离散比特介质具有下述优点。首先，提前在介质上形成伺服数据就可以减少通常磁记录伺服数据所需要的制造时间，也减少了设备成本。此外，在磁道之间或在磁化反转单元之间没有磁性膜，从而不会从这里产生噪声，这就可以提高信号质量(SNR)。这样就能够制造高密度磁记录介质和磁记录装置。另一方面，在离散磁道本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种被构图介质，其特征在于包括：被处理成用于磁道、伺服区或数据区的图形的磁性膜（３３）；以及被填充在所述磁性膜（３３）上的用于磁道、伺服区或数据区的各图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材（３４、３５）和由不组成所述基 材（３４、３５）的金属构成的阻挡材料（３６）。

【技术特征摘要】
JP 2006-5-31 152120/20061.一种被构图介质，其特征在于包括被处理成用于磁道、伺服区或数据区的图形的磁性膜(33)；以及被填充在所述磁性膜(33)上的用于磁道、伺服区或数据区的各图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材(34、35)和由不组成所述基材(34、35)的金属构成的阻挡材料(36)。2.根据权利要求1所述的被构图介质，其特征在于，所述基材(34、35)由C构成或由Si、Ta或Ti与O或N的化合物构成。3.根据权利要求1所述的被构图介质，其特征在于，所述阻挡材料(36)由从Mg、Al、Ti、V、Cu、Zn、Ga、Ge、Sr、Zr、Nb、Mo、In、Sn、Sb、Te、Ba、Hf、Ta和W构成的组中选出来的至少一种金属形成。4.根据权利要求1所述的被构图介质，其特征在于，所述阻挡材料(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：喜喜津哲，镰田芳幸，樱井正敏，白鸟聪志，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：JP[日本]