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一种被构图介质包括被处理成磁道图形、伺服区图形或数据区图形的磁性膜（３３），以及被填充在所述磁性膜（３３）上的磁道图形、伺服区图形或数据图形之间的非磁性填充材料，该填充材料包括基材（３４、３５）和由不组成所述基材（３４、３５）的金属构成的阻...
该专利属于株式会社东芝所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社东芝授权不得商用。

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