升华仪及其控制方法技术

本发明专利技术涉及一种升华仪，包括：在炉体的内部分布设置若干个加热温场结构；在炉体的内部包裹炉管；在炉管的一侧通过插板阀机构连接真空系统；主控系统控制真空系统对炉管进行真空抽取控制；在炉管内的真空度达到预设值，主控系统分段控制加热温场结构对炉管进行加热，或者对炉管充入惰性气体；分段控制加热温场结构对炉管进行加热，使得在炉管内的材料进行升华和再收集；本发明专利技术采用了对炉管采用真空系统，进行真空抽取，达到真空状态，或者再进行充入惰性气体，使得待提纯的材料，在真空状态或者惰性其他保护下进行升华，解决了OLED、OPV等领域的有机光电子材料的纯度要求，解决被提纯的材料的损耗也非常大的技术问题。材料的损耗也非常大的技术问题。材料的损耗也非常大的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
升华仪及其控制方法


[0001]本专利技术的实施例涉及一种小分子材料提纯设备及其控制方法，特别涉及一种升华仪及其控制方法。

技术介绍

[0002]在现有的小分子发光材料的应用方面，对于其小分子发光材料的纯度要求很高，按照现有的提纯设备一般只是通过加热的方式进行提纯，造成了那些应用于OLED、OPV等领域的有机光电子材料的提纯的纯度、收率等，均无法跟上OLED、OPV等领域的有机光电子材料的要求，同时被提纯的材料的损耗也非常大。

技术实现思路

[0003]本专利技术的实施方式的目的在于提供一种能够自动提纯设备的升华仪，同时，能够保证提纯材料的纯度，同时减少待被提纯材料的损耗。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术的实施方式设计了一种升华仪，其特征在于，包括：
[0005]柜体，在所述的升华仪的下方设置所述的柜体；
[0006]炉体，在所述的柜体上方固定所述炉体，在所述炉体的内部分布设置若干个加热温场结构；
[0007]炉管，在所述炉体的内部包裹所述炉管；
[0008]真空系统，在所述炉管的一侧通过插板阀机构连接所述真空系统；
[0009]主控系统，所述主控系统控制所述真空系统对所述炉管进行真空抽取控制；在所述炉管内的真空度达到预设值，所述的主控系统分段控制所述加热温场结构对所述炉管进行加热，或者所述的主控系统控制对所述炉管充入惰性气体；然后，所述的主控系统分段控制所述加热温场结构对所述炉管进行加热，使得在所述炉管内的材料进行升华和再收集。
[0010]进一步，所述的炉体，还包括：
[0011]上炉体；所述的上炉体呈半圆形状，所述的上炉体沿着所述炉体的预设轴线横向设置；
[0012]下炉体，所述的下炉体呈半圆形状，所述的下炉体与所述的上炉体通过铰链结构连接；
[0013]在所述的上炉体与所述的下炉体中设置沿着所述炉体预设轴线设置若干个加热温场结构，所述的加热温场结构与所述的加热温场结构之间沿着所述预设轴线以非平均间隔横向并列设置。
[0014]所述的上炉体沿着所述的炉体的中心轴线横向沿展横向设置，在所述的上炉体上沿着所述的炉体的中心轴线处设置一半圆形状的第一空穴；
[0015]所述的下炉体沿着所述炉体沿展横向设置，在所述的下炉体上沿着所述炉体的中心轴线处设置一半圆形状的第二空穴。
[0016]所述的上炉体上的第一空穴与所述的下炉体上的第二空穴上下合并成一圆柱状
空穴，用于放置所述炉管。
[0017]进一步，在所述的上炉体与所述的下炉体沿着横向中心轴线方向并列设置不同长度的加热温场结构；任意一个所述的加热温场结构，还包括：
[0018]加热丝凹槽，沿着所述的上炉体与所述的下炉体组成所述空穴的圆周，横向平行设置若干所述的加热丝凹槽；
[0019]加热丝，在所述的加热丝凹槽内穿入所述的加热丝；所述的加热丝的一端被引出至所述的上炉体与所述的下炉体的一侧。
[0020]进一步，在所述的加热温场结构还分别设置：
[0021]保温区，在所述的上炉体与所述的下炉体的一侧设置所述的保温区；
[0022]升华区，在所述的保温区的一侧设置所述的升华区；
[0023]收集区，在所述的升华区的一侧设置并列若干个收集区；所述的升华区的长度均大于所述的保温区和所述的收集区。
[0024]进一步，所述的上炉体与所述的下炉体的圆柱体内设置隔热材料，在所述的上炉体与所述的下炉体的外侧设置外壳，在外壳上设置若干个散热孔；在所述的下炉体的下方固定炉架；在所述的上炉体与所述的下炉体的一侧固定电机开合装置；所述的电机开合装置的一端固定在所述上炉体的侧面，所述的电机开合装置的底部固定在柜体的上方。
[0025]进一步，所述的炉管，还包括：
[0026]腔室，所述的腔室呈中空状，所述的腔室呈圆筒状，所述的腔室沿着所述炉体的预设中心轴线设置；所述的腔室的边缘呈光滑状，与密封装置之间设置平面密封；所述密封装置固定在所述腔室的两端侧；在所述的密封装置内侧环状设置密封圈，设置在所述的腔体与所述的密封装置之间；
[0027]环状冷却水孔，在所述的密封装置绕所述的腔体的环状连接块中设置一环状冷却水孔；
[0028]冷却水进水接头，所述的冷却水进水接头与所述的环状冷却水孔贯穿后连接；
[0029]冷却水出水接头，所述的冷却水出水接头同样与所述的环状通孔贯穿后连接；所述的冷却水进水接头与所述的冷却水出水接头接入一组冷却水，用于冷却所述的密封圈；
[0030]所述的冷却水进水接头与所述的冷却水出水接头设置在所述的腔体的下方；所述的密封装置的一侧与连接管装置的一侧环状固定连接成一体是结构；在所述的连接管装置下部固定固定支座；
[0031]在所述的密封装置的另一侧固定连接管装置的一端；在一端的所述密封装置上沿着所述腔体的纵向轴线方向贯穿连接真空连接口；在所述的真空连接口上固定密封件；所述的密封件用于连接所述真空系统；
[0032]真空计连接口，在所述的真空连接口的一侧，沿着所述腔体的纵向轴线方向贯穿连接所述的真空计连接口；在所述的真空计连接口上方固定连接一真空计；
[0033]所述腔室的两端均伸入到连接管的一端，所述的连接管沿着所述的腔室的中心轴线对称设置；
[0034]在所述的连接管上设置一止环，所述的止环将所述的连接管在所述腔体的横向轴线方向限制；
[0035]所述的连接管与所述的腔体之间沿所述腔体的横向轴线方向贯通呈一体结构；
[0036]所述的连接管与所述的腔体之间设置密封垫，将所述的连接管与所述的腔体之间连接缝隙密封；
[0037]在另一端的所述连接管装置的侧面上贯穿连接一个与所述的腔体相同直径抽真空孔；
[0038]炉门，在所述的连接管装置的另一侧通过铰链结构活动连接所述的炉门；在所述的炉门横向轴线上设置观察镜；在所述的连接管装置的一侧上固定支架，在所述的支架上活动连接所述的固定螺栓的一端，所述的固定螺栓的另一端上设置固定螺母；若干个所述的固定螺母沿着所述的连接管装置圆周边缘平均分布，所述固定螺母和所述的固定螺栓用于固定所述炉门；
[0039]在所述的连接管装置的下方固定移动装置；在所述移动装置的底部上设置横向移动滑块，所述的横向移动滑块固定在固定支座的下方；
[0040]所述的横向移动滑块嵌入到所述的横向移动导轨上，所述的横向移动滑块在所述的横向移动导轨上滑动；
[0041]在所述的横向移动导轨的底部固定所述的纵向移动滑块；
[0042]所述的纵向移动滑块嵌入到所述的纵向移动导轨上，所述的纵向移动滑块在所述的纵向移动导轨上滑动；
[0043]所述的横向移动导轨与所述的纵向移动导轨呈十字交叉垂直固定。
[0044]进一步，所述的真空系统，还包括：
[0045]真空管，所述的真空管沿预设中心轴线，设置于所述炉管的一侧；所述的真空管与所述的炉管沿着中心轴线垂直固定连接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种升华仪，其特征在于，包括：柜体，在所述的升华仪的下方设置所述的柜体；炉体，在所述的柜体上方固定所述炉体，在所述炉体的内部分布设置若干个加热温场结构；炉管，在所述炉体的内部包裹所述炉管；真空系统，在所述炉管的一侧通过插板阀机构连接所述真空系统；主控系统，所述主控系统控制所述真空系统对所述炉管进行真空抽取控制；在所述炉管内的真空度达到预设值，所述的主控系统分段控制所述加热温场结构对所述炉管进行加热，或者所述的主控系统控制对所述炉管充入惰性气体；然后，所述的主控系统分段控制所述加热温场结构对所述炉管进行加热，使得在所述炉管内的材料进行升华和再收集。2.根据权利要求1所述的升华仪，其特征在于，所述的炉体，还包括：上炉体；所述的上炉体呈半圆形状，所述的上炉体沿着所述炉体的预设轴线横向设置；下炉体，所述的下炉体呈半圆形状，所述的下炉体与所述的上炉体通过铰链结构连接；在所述的上炉体与所述的下炉体中设置沿着所述炉体预设轴线设置若干个加热温场结构，所述的加热温场结构与所述的加热温场结构之间沿着所述预设轴线以非平均间隔横向并列设置。所述的上炉体沿着所述的炉体的中心轴线横向沿展横向设置，在所述的上炉体上沿着所述的炉体的中心轴线处设置一半圆形状的第一空穴；所述的下炉体沿着所述炉体沿展横向设置，在所述的下炉体上沿着所述炉体的中心轴线处设置一半圆形状的第二空穴。所述的上炉体上的第一空穴与所述的下炉体上的第二空穴上下合并成一圆柱状空穴，用于放置所述炉管。3.根据权利要求2所述的升华仪，其特征在于，在所述的上炉体与所述的下炉体沿着横向中心轴线方向并列设置不同长度的加热温场结构；任意一个所述的加热温场结构，还包括：加热丝凹槽，沿着所述的上炉体与所述的下炉体组成所述空穴的圆周，横向平行设置若干所述的加热丝凹槽；加热丝，在所述的加热丝凹槽内穿入所述的加热丝；所述的加热丝的一端被引出至所述的上炉体与所述的下炉体的一侧。4.根据权利要求3所述的升华仪，其特征在于，在所述的加热温场结构还分别设置：保温区，在所述的上炉体与所述的下炉体的一侧设置所述的保温区；升华区，在所述的保温区的一侧设置所述的升华区；收集区，在所述的升华区的一侧设置并列若干个收集区；所述的升华区的长度均大于所述的保温区和所述的收集区。5.根据权利要求3所述的升华仪，其特征在于，所述的上炉体与所述的下炉体的圆柱体内设置隔热材料，在所述的上炉体与所述的下炉体的外侧设置外壳，在外壳上设置若干个散热孔；在所述的下炉体的下方固定炉架；在所述的上炉体与所述的下炉体的一侧固定电机开合装置；所述的电机开合装置的一端固定在所述上炉体的侧面，所述的电机开合装置的底部固定在柜体的上方。
6.根据权利要求1所述的升华仪，其特征在于，所述的炉管，还包括：腔室，所述的腔室呈中空状，所述的腔室呈圆筒状，所述的腔室沿着所述炉体的预设中心轴线设置；所述的腔室的边缘呈光滑状，与密封装置之间设置平面密封；所述密封装置固定在所述腔室的两端侧；在所述的密封装置内侧环状设置密封圈，设置在所述的腔体与所述的密封装置之间；环状冷却水孔，在所述的密封装置绕所述的腔体的环状连接块中设置一环状冷却水孔；冷却水进水接头，所述的冷却水进水接头与所述的环状冷却水孔贯穿后连接；冷却水出水接头，所述的冷却水出水接头同样与所述的环状通孔贯穿后连接；所述的冷却水进水接头与所述的冷却水出水接头接入一组冷却水，用于冷却所述的密封圈；所述的冷却水进水接头与所述的冷却水出水接头设置在所述的腔体的下方；所述的密封装置的一侧与连接管装置的一侧环状固定连接成一体式结构；在所述的连接管装置下部固定固定支座；在所述的密封装置的另一侧固定连接管装置的一端；在一端的所述密封装置上沿着所述腔体的纵向轴线方向贯穿连接真空连接口；在所述的真空连接口上固定密封件；所述的密封件用于连接所述真空系统；真空计连接口，在所述的真空连接口的一侧，沿着所述腔体的纵向轴线方向贯穿连接所述的真空计连接口；在所述的真空计连接口上方固定连接一真空计；所述腔室的两端均伸入到连接管的一端，所述的连接管沿着所述的腔室的中心轴线对称设置；在所述的连接管上设置一止环，所述的止环将所述的连接管在所述腔体的横向轴线方向限制；所述的连接管与所述的腔体之间沿所述腔体的横向轴线方向贯通呈一体结构；所述的连接管与所述的腔体之间设置密封垫，将所述的连接管与所述的腔体之间连接缝隙密封；在另一端的所述连接管装置的侧面上贯穿连接一个与所述的腔体相同直径抽真空孔；炉门，在所述的连接管装置的另一侧通过铰链结构活动连接所述的炉门；在所述的炉门横向轴线上设置观察镜；在所述的连接管装置的一侧上固定支架，在所述的支架上活动连接所述的固定螺栓的一端，所述的固定螺栓的另一端上设置固定螺母；若干个所述的固定螺母沿着所述的连接管装置圆周边缘平均分布，所述固定螺母和所述的固定螺栓用于固定所述炉门；在所述的连接管装置的下方固定移动装置；在所述移动装置的底部上设置横向移动滑块，所述的横向移动滑块固定在固定支座的下方；所述的横向移动滑块嵌入到所述的横向移动导轨上，所述的横向移动滑块在所述的横向移动导轨上滑动；在所述的横向移动导轨的底部固定所述的纵向移动滑块；所述的纵向移动滑块嵌入到所述的纵向移动导轨上，所述的纵向移动滑块在所述的纵向移动导轨上滑动；所述的横向移动导轨与所述的纵向移动导轨呈十字交叉垂直固定。
7.根据权利要求1所述的升华仪，其特征在于，所述的真空系统，还包括：真空管，所述的真空管沿预设中心轴线，设置于所述炉管的一侧；所述的真空管与所述的炉管沿着中心轴线垂直固定连接于所述的炉管的一侧，并与所述的炉管通过所述插板阀机构进行连通和截止；在所述真空管与所述炉管之间固定连接所述插板阀机构；用于控制所述炉管与所述真空管中的真空的通断；沿所述真空管纵向中心轴线上设置所述的插板阀机构；所述的插板阀机构的插板截止所述真空管的纵向横截面；在所述的插板阀机构...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏，安学会，程进辉，高光平，徐大波，徐怀忠，张迁迁，章泽同，
申请(专利权)人：杭州嘉悦智能设备有限公司，
类型：发明
国别省市：