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一种掩膜制造技术

技术编号:3019440 阅读:185 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术是一种用在数码管以及和它同类的汉字显示元件上的掩膜,它能将按一定顺序排列的半导体点光源,在专用挡光筐篮的共同作用下,显示成连续笔划,同时基本不影响发光管发光强度,可替代进口掩膜。(*该技术在2000年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种遮挡在半导体发光管所组成的数字、字母、汉字表面的掩膜。目前,半导体数码管以及和它同类的汉字显示元件的掩膜,是采用一种进口掩膜,国内不能生产。对于半导体发光管所组成的数字、字母、汉字,表面如无掩膜,在字形较小,笔划较多时,裸露的繁密光点,极易误读。本技术的目的,是提供一种的新的掩膜,它与专用挡筐篮共同作用,能将按一定顺序排列的半导体点光源,显示成连续笔划,同时基本不影响发光管发光强度。该掩膜是由基体和涂料组成。基体是一种有机材料合成膜,涂料是由化学颜料、防腐剂加稀释剂制成。涂料涂在基体上,干燥后,加热熨平即可。本技术的优点在于使半导体发光管这种点光源显示成连续笔划。这样,第一,用较少的半导体发光管能显示笔划较多的数字、字母、汉字;第二,使半导体发光管能显示字形在10mm×5mm以下的数字、字母或汉字;第三,能实现同位置连续笔划多字变化显示;第四,成本低廉,代替进口掩膜。本技术的典型实例为在描图纸上均匀涂覆墨水。如说明书所示,图中1为基体,2为涂料。权利要求1.一种用于半导体数码管以及和它同类的汉字显示元件的掩膜,其特征为掩膜由在有机材料薄膜上涂覆涂料构成。2.按权利要求1所述的掩膜,其特征是掩膜材料为描图纸,涂料为墨水。专利摘要本技术是一种用在数码管以及和它同类的汉字显示元件上的掩膜,它能将按一定顺序排列的半导体点光源,在专用挡光筐篮的共同作用下,显示成连续笔划,同时基本不影响发光管发光强度,可替代进口掩膜。文档编号G09F9/33GK2064524SQ9020606公开日1990年10月24日 申请日期1990年5月7日 优先权日1990年5月7日专利技术者安瑞英 申请人:安瑞英本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于半导体数码管以及和它同类的汉字显示元件的掩膜,其特征为掩膜由在有机材料薄膜上涂覆涂料构成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:安瑞英
申请(专利权)人:安瑞英
类型:实用新型
国别省市:21[中国|辽宁]

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