一种硼扩散设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硼扩散设备,包括供源装置和扩散炉，所述供源装置包括供源组件、主管道以及多组分管道，扩散炉包括石英管组件，石英管组件包括石英管、尾部匀流组件、炉口匀流组件、进气管和气路管，进气管、分管道与输气管连通，形成工艺气体流通通道，气路管与气管连通形成气路通道，尾部匀流组件和炉口匀流组件分别位于石英管内，尾部匀流组件、炉口匀流组件控制工艺气体的分布状态，本实用新型专利技术的尾排管抽气口延伸至炉口匀流板下方或超过炉口匀流板并伸至靠近炉口的位置，有效解决因尾排管在石英炉管底部抽气，导致气流偏下的问题，进一步提高了位于炉口位置硅片的均匀性，从而保证扩散方阻的一致性。从而保证扩散方阻的一致性。从而保证扩散方阻的一致性。

【技术实现步骤摘要】
一种硼扩散设备


[0001]本技术属于半导体制造及太阳能光伏电池制造领域，尤其涉及半导体制造和光伏电池片的扩散炉设备。

技术介绍

[0002]目前，硅片制造成太阳能电池的主流工序步骤都包括：制绒、扩散、刻蚀、镀膜、印刷、烧结等，扩散是制备PN结的重要工艺过程，常规扩散方法是：将硅片放入石英舟中，将在有硅片的石英舟推送入管式扩散炉罐内，将扩散炉升温至第一预设温度，向扩散炉内同如工艺气体，保持温度一定时间，进行源沉积，停止同如工艺气体，更改至第二预设温度，进行源扩。
[0003]N型单晶硅片与常规的P型单晶硅片相比，具有体少子寿命高、无光衰等优点，具有更大的效率提升空间，同时N型单晶组件具有弱光响应好、温度系数低等优点，具有发电量高和低衰减等优势，因此N型电池研发越来越受到人们的关注，常规硼扩散以液态源BBr3为源，扩散方式与POCl3磷扩散相似，使用单管单源的方式，现有扩散炉的结构与扩散工艺的互相配合，能达到一定程度的好的扩散结果，但扩散方阻的一致性，尤其是进气口和出气口位置的硅片方阻差异较明显，本技术提供了能提高扩散方阻一致性的硼扩散设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硼扩散设备,其特征在于：包括供源装置和扩散炉，所述供源装置包括供源组件、主管道以及多组分管道，扩散炉包括石英管组件，石英管组件包括石英管、尾部匀流组件、炉口匀流组件、进气管和气路管，进气管、分管道与输气管连通，形成工艺气体流通通道，气路管与气管连通形成气路通道，尾部匀流组件和炉口匀流组件分别位于石英管内，尾部匀流组件、炉口匀流组件控制工艺气体的分布状态。2.根据权利要求1所述的一种硼扩散设备，其特征在于：所述供源装置输送气态硼源至扩散炉，输气管输送氧气和氮气，氧气、氮气和气态硼源混合形成工艺气体，工艺气体通过工艺气体流通通道充入石英管。3.根据权利要求2所述的一种硼扩散设备，其特征在于：所述供源组件包括三氯化硼气柜和置于三氯化硼气柜的三氯化硼源瓶，三氯化硼源瓶与主管道连通，多组分管道分别与主管道连通，气态硼源由主管道输出，依次通过分管道与进气管输送至扩散炉内，一组扩散炉的进气管的数量设置为一组，一组分管道与一组扩散炉对应，一组主管道对应多组分管道，一组三氯化硼源瓶供给多组扩散炉或多组设备。4.根据权利要求1所述的一种硼扩散设备，其特征在于：所述石英管组件包括炉管、尾排管、TC管和炉门，尾排管和TC管位于石英管的底部，尾排管用于排出废气，TC管用于放置热电偶，工艺气体的充入方向为石英管的长度方向，石英管在长度方向进行分区，炉管的热场对石英管的各分区进行控温，多组硅片放置在石英舟上，装载硅片的石英舟通过载具放置在石英管内，载具采用桨或石英舟支撑结构，多组硅片沿工艺气体的充入方向分布。5.根据权利要求1所述的一种硼扩散设备，其特征在于：所述尾部匀流组件位于石英管的炉尾位置，尾部匀流组件包括炉尾匀流板和安装炉尾匀流板的炉尾固定件，炉尾匀流板上固设有若干贯穿的炉尾通孔，炉尾通孔采用圆孔、方孔或条形孔，尾部匀流组件用于工艺气体的匀流。6.根据权利要求1所述的一种硼扩散设备，其特征在于：所述炉口匀流组件位于石英管的炉口位置，炉口匀流组件包括炉口...

【专利技术属性】
技术研发人员：林佳继，庞爱锁，刘群，林依婷，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：