一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备制造技术

本发明专利技术公开了一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖、沉积装置、控制器、检修门，密封盖嵌固在沉积装置内部上端，控制器安装于沉积装置侧面，检修门与沉积装置侧面采用合页配合，卡合板带动固定环内侧的活动块与挤压机构外侧挤压滑动，通过相对位置的改变，继而控制原料在喷洒口内的阻挡压力，达到对原料喷洒角度改变的作用，从而参照晶圆曲面的角度对喷洒角度进行调整，通过对原料喷洒压力的控制使原料沉积后较为均匀，避免产生曲翘力，贴合机构贴合在晶圆最上端水平位置的侧面，避免喷洒的原料在晶圆边缘活动，防止混乱漂浮的原料往晶圆边缘方向活动，避免晶圆边缘进行薄膜沉积时不均匀。进行薄膜沉积时不均匀。进行薄膜沉积时不均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备


[0001]本专利技术涉及晶圆涂膜领域，具体涉及一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备。

技术介绍

[0002]沉积薄膜的作用是将原子从原料靶材上溅射出来，利用物理过程实现物质转移，沉积形成导电电路，溅镀利用氩气电桨高速冲击镀靶材，使得镀靶材中的原料扩散性分布在晶圆表面，但是当镀靶材原料溅射完成后，溅射力耗尽，剩余的原料容易在晶圆边缘漂浮，造成原料的漂浮方向较为混乱，容易往晶圆边缘方向活动，使其晶圆边缘进行薄膜的沉积，且沉积在晶圆正面上的功能膜的张力与晶圆本身的张力不同，晶圆会发生翘曲，同时原料溅射的角度与晶圆翘曲的角度不同，晶圆中心与边缘位置产生的翘曲角度会偏差，导致真空吸附臂无法可靠地吸住晶圆。

技术实现思路

[0003]本专利技术通过如下的技术方案来实现：一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖、沉积装置、控制器、检修门，所述密封盖嵌固在沉积装置内部上端，所述控制器安装于沉积装置侧面，所述检修门与沉积装置侧面采用合页配合，所述沉积装置设有喷洒机构、固定板、放置台、阻挡机构，所述喷洒机构与放置台位于同一中心轴线上，所述阻挡机构与放置台侧面间隙配合，所述放置台嵌固在固定板上端，所述喷洒机构上端安装于密封盖内部下端，所述阻挡机构卡合在控制器内部侧面，所述放置台上表面设有橡胶材料的吸盘，具有吸附性强，贴合力大的特性。
[0004]作为本专利技术进一步改进，所述喷洒机构设有升降杆、限位机构、活动杆、支撑架，所述升降杆下端连接在限位机构上端，所述活动杆内侧与限位机构外侧滑动配合，所述支撑架中间连接在升降杆中间内侧，所述升降杆上端安装于密封盖内部下端，所述与支撑架为固定状态，且支撑架上端固定在密封盖下表面。
[0005]作为本专利技术进一步改进，所述限位机构设有连接辊、调整机构、卡合板，所述调整机构嵌固在连接辊内部，所述卡合板安装于连接辊侧面内侧，所述卡合板与活动杆内侧滑动配合，所述调整机构设有四十个，以相同的间隙均匀分布安装，所述卡合板内部连接在连接辊中。
[0006]作为本专利技术进一步改进，所述调整机构设有挤压机构、活动块、固定环，所述活动块卡合在固定环内部，所述挤压机构与活动块间隙配合，所述固定环嵌固在卡合板内部，所述活动块设有六个，以挤压机构为中心环形均匀分布。
[0007]作为本专利技术进一步改进，所述挤压机构设有挤压杆、橡胶膜、喷洒口，所述喷洒口与挤压杆位于同一中心轴线上，所述挤压杆与橡胶膜间隙配合，所述橡胶膜卡合在喷洒口侧面，所述挤压杆嵌固在活动块内部侧面，所述喷洒口为中间窄两边宽的筒状结构，所述喷洒口为环形结构。
[0008]作为本专利技术进一步改进，所述阻挡机构设有贴合机构、连接杆、平移杆、海绵块，所
述海绵块贴合在连接杆下端，所述连接杆嵌固在平移杆左侧，所述贴合机构安装于连接杆左侧，所述贴合机构与放置台侧面间隙配合，所述连接杆上端为梯形槽，且内部贯穿有圆形孔。
[0009]作为本专利技术进一步改进，所述贴合机构设有弹簧、密封槽、贴合板、定型块，所述贴合板贴合在定型块左侧，所述密封槽嵌固在定型块右侧，所述定型块安装于弹簧左侧，所述弹簧右端焊接在连接杆左侧，所述贴合板为海绵材质，具有形变效果强，压缩力小的特性，所述弹簧的弹性系数较小，所述贴合板与定型块中间为弧形结构。
[0010]有益效果
[0011]与现有技术相比，本专利技术有益效果在于：
[0012]1、支撑架内侧的活动杆与限位机构滑动配合，滑动的同时调整机构进行限位平移，使得卡合板带动固定环内侧的活动块与挤压机构外侧挤压滑动，通过相对位置的改变，从而橡胶膜变窄的位置进行移动，继而控制原料在喷洒口内的阻挡压力，达到对原料喷洒角度改变的作用，从而参照晶圆曲面的角度对喷洒角度进行调整，通过对原料喷洒压力的控制使原料沉积后较为均匀，避免产生曲翘力。
[0013]2、贴合机构贴合在晶圆外侧，使得定型块左侧的贴合板贴合在晶圆边缘，在密封槽中弹簧的微小压力下，避免弹簧的弹力过大对晶圆的沉积薄膜产生形变力，同时原料飞溅到晶圆边缘时，流淌到连接杆表面的梯形槽中，通过小孔流入下端的海绵块中收集，同时贴合机构贴合在晶圆最上端水平位置的侧面，避免喷洒的原料在晶圆边缘活动，防止混乱漂浮的原料往晶圆边缘方向活动，避免晶圆边缘进行薄膜沉积时不均匀。
附图说明
[0014]图1为本专利技术一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备的结构示意图。
[0015]图2为本专利技术一种沉积装置的侧面内部结构示意图。
[0016]图3为本专利技术一种喷洒机构的侧面结构示意图。
[0017]图4为本专利技术一种限位机构的俯视结构示意图。
[0018]图5为本专利技术一种调整机构的俯视结构示意图。
[0019]图6为本专利技术一种挤压机构的侧面结构示意图。
[0020]图7为本专利技术一种阻挡机构的侧面结构示意图。
[0021]图8为本专利技术一种贴合机构的局部h放大结构示意图。
[0022]图中：密封盖
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1、沉积装置
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2、控制器
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3、检修门
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4、喷洒机构
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21、固定板
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22、放置台
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23、阻挡机构
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24、升降杆
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21a、限位机构
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21b、活动杆
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21c、支撑架
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21d、连接辊
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b1、调整机构
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b2、卡合板
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b3、挤压机构
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b21、活动块
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b22、固定环
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b23、挤压杆
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w1、橡胶膜
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w2、喷洒口
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w3、贴合机构
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v1、连接杆
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v2、平移杆
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v3、海绵块
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v4、弹簧
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v11、密封槽
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v12、贴合板
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v13、定型块
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v14。
具体实施方式
[0023]下面结合附图对本专利技术技术做进一步描述：
[0024]实施例1：
[0025]如图1
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图6所示:
[0026]本专利技术一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖1、沉积装置2、控制器3、检修门4，所述密封盖1嵌固在沉积装置2内部上端，所述控制器3安装于沉积装置2侧面，所述检修门4与沉积装置2侧面采用合页配合，所述沉积装置2设有喷洒机构21、固定板22、放置台23、阻挡机构24，所述喷洒机构21与放置台23位于同一中心轴线上，所述阻挡机构24与放置台23侧面间隙配合，所述放置台23嵌固在固定板22上端，所述喷洒机构21上端安装于密封盖1内部下端，所述阻挡机构24卡合在控制器3内部侧面，所述放置台23上表面设有橡胶材料的吸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖(1)、沉积装置(2)、控制器(3)、检修门(4)，所述密封盖(1)嵌固在沉积装置(2)内部上端，所述控制器(3)安装于沉积装置(2)侧面，所述检修门(4)与沉积装置(2)侧面采用合页配合，其特征在于：所述沉积装置(2)设有喷洒机构(21)、固定板(22)、放置台(23)、阻挡机构(24)，所述喷洒机构(21)与放置台(23)位于同一中心轴线上，所述阻挡机构(24)与放置台(23)侧面间隙配合，所述放置台(23)嵌固在固定板(22)上端，所述喷洒机构(21)上端安装于密封盖(1)内部下端，所述阻挡机构(24)卡合在控制器(3)内部侧面。2.根据权利要求1所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述喷洒机构(21)设有升降杆(21a)、限位机构(21b)、活动杆(21c)、支撑架(21d)，所述升降杆(21a)下端连接在限位机构(21b)上端，所述活动杆(21c)内侧与限位机构(21b)外侧滑动配合，所述支撑架(21d)中间连接在升降杆(21a)中间内侧，所述升降杆(21a)上端安装于密封盖(1)内部下端。3.根据权利要求2所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述限位机构(21b)设有连接辊(b1)、调整机构(b2)、卡合板(b3)，所述调整机构(b2)嵌固在连接辊(b1)内部，所述卡合板(b3)安装于连接辊(b1)侧面内侧，所述卡合板(b3)与活动杆(21c)内侧滑动配合。4.根据权利要求3所述的一种用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁小明，
申请(专利权)人：梁小明，
类型：发明
国别省市：