溅射镀膜设备及其固定结构制造技术

技术编号:28513764 阅读:25 留言:0更新日期:2021-05-19 23:43
本实用新型专利技术公开了一种溅射镀膜设备及其固定结构,固定结构用于将溅射镀膜设备的相互套接的第一构件和第二构件锁紧,其包括:开设在第二构件的用于套装在第一构件内的一部分上的盲孔,盲孔的开口位于所述一部分的外壁且沿着第二构件的径向朝内延伸;安置在第二构件的盲孔内且可沿第二构件的径向在盲孔内伸缩移动的定位珠,用于在第二构件与第一构件套接后紧抵住第一构件的内壁而将第二构件与第一构件锁紧。本实用新型专利技术的溅射镀膜设备及其固定结构,结构简单,拆装方便,连接快捷,锁紧可靠性高,极大提高设备的操作效率和便利性。极大提高设备的操作效率和便利性。极大提高设备的操作效率和便利性。

【技术实现步骤摘要】
溅射镀膜设备及其固定结构


[0001]本技术涉及离子溅射镀膜
,具体涉及一种应用于离子溅射仪等电子显微镜样品制备、电极制备等的设备中的固定结构及具有该固定结构的溅射镀膜设备。

技术介绍

[0002]现有技术中,常用离子溅射仪等设备进行电子显微镜样品的制备及电极制备等。
[0003]在上述这类设备中,有时需采用屏蔽罩3和上盖1(参见图1、图2),在上盖1与屏蔽罩3之间安置有密封环2,溅射靶材(图中未示出)安置在密封环2与屏蔽罩之间。当将屏蔽罩3和上盖1固定时,需屏蔽罩可靠接地,作为正极与溅射靶材上施加的负的高电压形成电场,对气体进行电离;并且,还需约束溅射发射的范围,使绝大多数溅射产生的金属原子向样品方向运动,提高溅射效率;而对应于不同厚度的溅射靶材(多用0.1mm、1mm、2mm左右),需要调节屏蔽罩的高度以确保溅射时所施加的电场强度保持不变。
[0004]此外,被镀膜的样品需放置在采用样品台和用于支撑样品台的支撑杆的结构上,样品台需可靠接地,避免样品台悬浮电位,影响镀膜效果;针对不同尺寸的样品,最佳工作距离也不同,需要通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射镀膜设备用的固定结构,用于将溅射镀膜设备的相互套接的第一构件和第二构件锁紧,其特征在于,包括:开设在第二构件的用于套装在第一构件内的一部分上的盲孔,盲孔的开口位于所述一部分的外壁且沿着第二构件的径向朝内延伸;安置在第二构件的盲孔内且可沿第二构件的径向在盲孔内伸缩移动的定位珠,用于在第二构件与第一构件套接后紧抵住第一构件的内壁而将第二构件与第一构件锁紧。2.根据权利要求1所述的固定结构,其特征在于,所述盲孔包括沿着第二构件的周向间隔布置的多个盲孔,每个盲孔内安置一个定位珠。3.根据权利要求2所述的固定结构,其特征在于,还包括开设于第一构件的用于套接第二构件的内壁上的容置槽,所述定位珠可安置于容置槽内。4.根据权利要求1所述的固定结构,其特征在于,所述盲孔包括沿第二构件的轴向间隔设置的多组盲孔,每组盲...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏国庆
申请(专利权)人:北京格微仪器有限公司
类型:新型
国别省市:

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