【技术实现步骤摘要】
一种单晶圆搬运装置[
]本技术涉及半导体行业
,具体地说是一种单晶圆搬运装置。[
技术介绍
]中高端半导体行业内对晶圆(Wafer)在制程过程时进行直接接触(又称:无载具工艺Cassetteless,以下载具Casstte将简称CST)的应用场景较多。通常见于批次式(Batch)湿制程干燥工序或200mm直径及以上直径的单晶圆(Single)湿制程的上下货工序。对于制程初始段将晶圆从CST取出并搬运至反应槽去区域的作业(Chamber以下简称CHB),目前业内常采用SCARA型机械臂完成。此类机械臂的优点在于能在水平运动过程中具有很高的刚性及运动精度,结合伸缩式的运动特征非常适合在狭小空间内完成单片大直径晶圆的搬运。由于SCARA型机械臂属于平面型机械臂,从CST中取出晶圆至CHB的过程中(以下简称取片),采用水平式叉齿(以下简称Fork)在水平放置的CST中与晶圆直接接触并通过对其进行夹持或真空吸取的方式获得搬运的基础条件。基于水平夹持和平面运动的两项特征,此类晶圆搬运装置,在采用主动/被动式运动的CHB所属的单面单晶圆清洗中有着比较成熟的应用。但对不具备可动CHB的双面清洗制程来说(双面清洗无需CHB运动以回收清洗药液),水平式Fork难以通过平面运动绕开圆形CHB侧壁并将晶圆从CHB顶部开口中输送至CHB中心的晶圆转台之上。结合目前开发的双面清洗装置的晶圆搬运需求,若能针对上诉缺陷提出一种单晶圆搬运装置的技术方案,将具有非常重要的意义。[
技术实现思路
]本技术的目的就是要解决上述 ...
【技术保护点】
1.一种单晶圆搬运装置,其特征在于:包括CST进料单元(1)、晶圆夹爪转台单元(2)、晶圆对中单元(3)、真空吸盘单元(4),所述CST进料单元(1)上置有用于放置晶圆(5)的晶圆载体(6),所述晶圆载体(6)由CST进料单元(1)的水平输送模组运送至提升工位,并经提升机构(102)提升至晶圆夹爪转台单元(2)的取货位置,所述晶圆夹爪转台单元(2)包括转台(201)和晶圆框边夹持气爪(202),所述晶圆框边夹持气爪(202)安装在转台(201)上,所述晶圆框边夹持气爪(202)在转台(201)的带动下旋转至取货位置夹取晶圆(5),并将晶圆(5)输送至晶圆对中单元(3)正上方取片位置,所述晶圆对中单元(3)包括行程可调气缸(301)以及连接在行程可调气缸(301)活塞端的顶针(302),所述晶圆对中单元(3)通过顶针(302)托举正上方的晶圆(5)使其在垂直方向被限位,并由顶针(302)将晶圆(5)向下输送至晶圆对中单元(3)的对中位置,所述真空吸盘单元(4)用于吸取晶圆对中单元(3)上的晶圆(5),并将晶圆(5)输送至上货区域。/n
【技术特征摘要】
1.一种单晶圆搬运装置,其特征在于:包括CST进料单元(1)、晶圆夹爪转台单元(2)、晶圆对中单元(3)、真空吸盘单元(4),所述CST进料单元(1)上置有用于放置晶圆(5)的晶圆载体(6),所述晶圆载体(6)由CST进料单元(1)的水平输送模组运送至提升工位,并经提升机构(102)提升至晶圆夹爪转台单元(2)的取货位置,所述晶圆夹爪转台单元(2)包括转台(201)和晶圆框边夹持气爪(202),所述晶圆框边夹持气爪(202)安装在转台(201)上,所述晶圆框边夹持气爪(202)在转台(201)的带动下旋转至取货位置夹取晶圆(5),并将晶圆(5)输送至晶圆对中单元(3)正上方取片位置,所述晶圆对中单元(3)包括行程可调气缸(301)以及连接在行程可调气缸(301)活塞端的顶针(302),所述晶圆对中单元(3)通过顶针(302)托举正上方的晶圆(5)使其在垂直方向被限位,并由顶针(302)将晶圆(5)向下输送至晶圆对中单元(3)的对中位置,所述真空吸盘单元(4)用于吸取晶圆对中单元(3)上的晶圆(5),并将晶圆(5)输送至上货区域。
2.如权利要求1所述的单晶圆搬运装置,其特征在于:还包括静电消除模组,所述静电消除模组包含至少三组静电消除风道,所述三组静电消除风道分别安装于CST进料单元(1)、晶圆对中单元(3)上方,所述CST进料单元(1)、晶圆夹爪转台单元(2)、晶圆对中单元(3)、真空吸盘单元(4)、静电消除模组分别连接控制系统。
3.如权利要求1所述的单晶圆搬运装置,其特征在于:所述CST进料单元(1)包括定位平台(101)、提升机构(102)、水平驱动轴(103)、直线电动驱动器(104),所述定位平台(101)装在提升机构(102)的升降端,并在提升机构(102)的带动下提升或下降,所述定位平台(101)上安装有水平驱动轴(103),置有晶圆(5)的晶圆载体(6)通过滑块(105)连接在水平驱动...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄自柯,赵晗,林生海,
申请(专利权)人:冠礼控制科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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