一种用于光刻机的晶圆载台制造技术

技术编号:27980404 阅读:26 留言:0更新日期:2021-04-06 14:15
本发明专利技术公开了一种用于光刻机的晶圆载台,包括晶圆载台本体,晶圆载台本体的底部固定连接有承载柱,晶圆载台本体的外侧固定连接有三个支撑板,支撑板的一侧固定连接有限位柱,晶圆载台本体的顶部设置有晶圆,晶圆的正下方设置有光学传感器,光学传感器的设置范围应在晶圆的圆周范围内,三个支撑板沿晶圆载台本体的圆心设置,且每个支撑板之间夹角的度数为120°,支撑板的顶面与晶圆载台本体的顶面平齐,支撑板的厚度为晶圆载台本体的厚度的二分之一。该种用于光刻机的晶圆载台,可有效的使晶圆能够平稳的放置在晶圆载台本体的上表面,使晶圆不会产生倾斜,避免晶圆被损坏,造成损失,使晶圆可轻松的从晶圆载台本体上进行拆卸。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻机的晶圆载台
本专利技术涉及晶圆载台
,具体为一种用于光刻机的晶圆载台。
技术介绍
电子产品的生产和制造离不开半导体行业,该行业利用各种先进的半导体设备,对晶圆进行多层次的复杂工艺处理,以提供符合电子产品要求的芯片。晶圆在进入半导体设备接受工艺处理时,不能被简单放置,而是需要有专门的装置对其进行定位和固持,以保证工艺效果。这样的装置,在行业中有着多种名称,通常可以被称之为晶圆载台。光刻是通过一系列生产步骤,将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程,最终在晶圆上保留的是特征图形部分。其基本原理是:利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)曝光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点,将掩模板上的图形刻制到被加工的晶片表面上。晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。目前国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主。晶圆的主要加工方式为片加工本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光刻机的晶圆载台,其特征在于,包括晶圆载台本体(1),所述晶圆载台本体(1)的底部固定连接有承载柱(5),所述晶圆载台本体(1)的外侧固定连接有三个支撑板(2),所述支撑板(2)的一侧固定连接有限位柱(3),所述晶圆载台本体(1)的顶部设置有晶圆(4),所述晶圆(4)的正下方设置有光学传感器(6),所述光学传感器(6)的设置范围应在晶圆(4)的圆周范围内。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻机的晶圆载台,其特征在于,包括晶圆载台本体(1),所述晶圆载台本体(1)的底部固定连接有承载柱(5),所述晶圆载台本体(1)的外侧固定连接有三个支撑板(2),所述支撑板(2)的一侧固定连接有限位柱(3),所述晶圆载台本体(1)的顶部设置有晶圆(4),所述晶圆(4)的正下方设置有光学传感器(6),所述光学传感器(6)的设置范围应在晶圆(4)的圆周范围内。


2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的晶圆载台,其特征在于,三个所述支撑板(2)沿晶圆载台本体(1)的圆心设置,且每个支撑板(2)之间夹角的度数为120°。


3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机的晶圆载台,其特征在于,所述支撑板(2)的顶面与晶圆载台本体(1)的顶面平齐,所述支撑板(2)的厚度为晶圆载台本体(1)的厚度的二分之一。


4.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:周杰张琪符友银李俊毅
申请(专利权)人:北京新毅东科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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