【技术实现步骤摘要】
一种便于调节的双工位直投式光刻机
[0001]本专利技术涉及光刻机
,具体为一种便于调节的双工位直投式光刻机。
技术介绍
[0002]光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。现有双工位直投式光刻机,把CCD对位和曝光分开来做,利用输送带形式,形成流水线作业。但是现有的双工位直投式光刻机的工作台高度通常都是固定设置,不便于对用于对位的对位相机及曝光的镜筒进行调整或者更换。因此我们对此做出改进,提出一种便于调节的双工位直投式光刻机。
技术实现思路
[0003]为了解决上述技术问题,本专利技术提供了如下的技术方案:本专利技术一种便于调节的双工位直投式光刻机,包括底座,所述底座的顶端固定开设有凹槽,所述凹槽内固定设置有工作台,且工作台的顶端固定设置有传送台;所述传送台由输送带、主动轮和从动轮构成,且主动轮与从动轮通过输送带传送连接;所述传送台的顶部固定设置有第一固定架和第二固定 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种便于调节的双工位直投式光刻机,包括底座(1),其特征在于,所述底座(1)的顶端固定开设有凹槽(2),所述凹槽(2)内固定设置有工作台(3),且工作台(3)的顶端固定设置有传送台(4);所述传送台(4)由输送带(5)、主动轮(6)和从动轮(7)构成,且主动轮(6)与从动轮(7)通过输送带(5)传送连接;所述传送台(4)的顶部固定设置有第一固定架(8)和第二固定架(9),且第一固定架(8)固定设置在第二固定架(9)的一侧;所述第一固定架(8)一侧的顶端固定设置有对位相机(10),所述第二固定架(9)一侧的顶端固定设置有镜筒(11);所述工作台(3)的正面固定设置有操作口(12),且工作台(3)的两侧固定设置有开口(13)。2.根据权利要求1所述的一种便于调节的双工位直投式光刻机,其特征在于,所述底座(1)的内部固定设置有两个液压缸(14),且两个液压缸(14)的伸缩端贯穿凹槽(2)与工作台(3)的底端固定连接。3.根据权利要求1所述的一种便于调节的双工位直投式光刻机,其特征在于,所述第一固定架(8)和第二固定架(9)的底端固定设置有安装块(15),且安装块(15)的表面水平开设有...
【专利技术属性】
技术研发人员:周杰,张琪,符友银,李俊毅,
申请(专利权)人:北京新毅东科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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