本发明专利技术公开了一种光刻机的晶片传送装置，包括密封外壳和分流密封外壳，密封外壳的左侧与分流密封外壳的右侧连接；密封外壳顶面安装有气泵，气泵右侧设置有输气管，输气管的两端分别与气泵右侧和密封外壳顶面右部连通；密封外壳底面安装有支架，支架底部安装有支撑柱，支撑柱的上下两端分别与支架底部和地面连接；密封外壳右端一侧地面上安置有氮气瓶，氮气瓶顶部与气泵顶部连通；该传送装置加装密封外壳，可有效隔绝空气，防止晶片受潮氧化，氮气瓶和气泵将氮气送入设备内对晶片吹干清理，防止落灰或受潮，分流台表面的小型旋转辊可旋转改变转动朝向，从而改变输送物的流向，可将不同类型的晶片载板分流至相应的作业传送带上，高效便利。
【技术实现步骤摘要】
一种光刻机的晶片传送装置
本专利技术属于半导体材料生产
，特别是涉及一种光刻机的晶片传送装置。
技术介绍
元素硅是一种灰色、易碎、四价的非金属化学元素。地壳成分中27.8%是硅元素构成的，仅次于氧元素含量排行第二，硅是自然界中比较富的元素。在石英、玛瑙、燧石和普通的滩石中就可以发现硅元素。硅晶片又称晶圆片，是由硅锭加工而成的，通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管，被广泛应用于集成电路的制造。硅属于半导体材料，其自身的导电性并不是很好。然而，可以通过添加适当的掺杂剂来精确控制它的电阻率。制造半导体前，必须将硅转换为晶圆片。这要从硅锭的生长开始。单晶硅是原子以三维空间模式周期形成的固体，这种模式贯穿整个材料。多晶硅是很多具有不同晶向的小单晶体单独形成的，不能用来做半导体电路。多晶硅必须融化成单晶体，才能加工成半导体应用中使用的晶圆片。加工硅晶片生成一个硅锭要花一周到一个月的时间，这取决于很多因素，包括大小、质量和终端用户要求。超过75%的单晶硅晶圆片都是通过提拉法方法生长的。半导体或芯片是由硅生产出来的。晶圆片上刻蚀出数以百万计的晶体管，这些晶体管比人的头发要细小上百倍。半导体通过控制电流来管理数据，形成各种文字、数字、声音、图象和色彩。它们被广泛用于集成电路，并间接被地球上的每个人使用。这些应用有些是日常应用，如计算机、电信和电视，还有的应用于先进的微波传送、激光转换系统、医疗诊断和治疗设备、防御系统和NASA航天飞机。半导体材料的生产技术在我国仍然处于初级阶段，对该领域的研究从未停止，其中晶片是必不可少的一种半导体材料，在生产运输过程中极易受到空气污染腐蚀，且不同型号晶片的运输十分繁琐，然而目前市场上针对晶片材料的传送装置仍然十分稀少，因此我们提出一种光刻机的晶片传送装置。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术是通过以下技术方案实现的：本专利技术为一种光刻机的晶片传送装置，包括密封外壳和分流密封外壳，所述密封外壳的左侧与分流密封外壳的右侧通过螺钉固定连接；所述分流密封外壳外壁固定安装有控制面板，所述密封外壳外壁两侧均固定设置有玻璃观察窗，且顶面安装有气泵，所述气泵右侧设置有输气管，所述输气管的两端分别与气泵右侧和密封外壳顶面右部连通；所述密封外壳底面固定安装有支架，所述支架底部固定安装有支撑柱，所述支撑柱的上下两端分别与支架底部和地面固定连接；所述密封外壳右端一侧地面上固定安置有氮气瓶，所述氮气瓶顶部与气泵顶部通过软管连通。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述密封外壳顶部设置有夹层送气管，所述夹层送气管右端顶部与输气管底端连通，且夹层送气管底部依次均匀开设有送气口，所述送气口顶部与夹层送气管底部连通。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述分流密封外壳内壁底部设置有分流台，所述分流台底面与分流密封外壳内壁底部固定连接；所述分流台顶面安装有导向转盘，所述导向转盘底部与分流台顶面转动连接。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述导向转盘中部开设有辊槽，所述辊槽内安装有小型推料辊，所述小型推料辊位于辊槽内与导向转盘中部转动连接。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述密封外壳内壁底部安装有传送带，所述传送带两侧分别与密封外壳内壁底部两侧活动连接。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述传送带左部与分流台右部对接，且其上方设置有分流隔板，所述分流隔板从传送带左部延伸至右部，且其顶部与密封外壳内壁顶面固定连接。作为本专利技术的一种优选技术方案，所述分流台和传送带顶面均设置有晶片载板，所述晶片载板均与分流台和传送带顶面可拆卸连接；所述晶片载板顶面设置有限位卡块，所述限位卡块底部与晶片载板顶面一体连接。本专利技术具有以下有益效果：该传送装置在外部加装了密封外壳，可有效隔绝空气，充分防止晶片与空气接触后受潮氧化，装置外安装了氮气瓶和气泵，通过输气管将氮气送入设备内对晶片进行吹干清理，防止落灰或受潮，传送装置由分流和输送两段组成，分流台表面的小型旋转辊可旋转改变转动朝向，从而改变输送物的流向，通过控制台编程后可智能的将不同类型的晶片载板分流至相应的作业传送带上，高效便利，且输送时可一定程度的保证晶片的质量。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的整体结构示意图；图2为本专利技术的送气管结构示意图；图3为本专利技术的传送设备结构示意图；图4为本专利技术的导向转盘结构示意图。图中：1、密封外壳；2、分流密封外壳；3、控制面板；4、玻璃观察窗；5、支架；6、支撑柱；7、氮气瓶；8、气泵；9、输气管；10、夹层送气管；11、送气口；12、分流台；13、导向转盘；14、辊槽；15、小型推料辊；16、传送带；17、分流隔板；18、晶片载板；19、限位卡块。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1所示，本专利技术为一种光刻机的晶片传送装置，包括密封外壳1和分流密封外壳2，密封外壳1的左侧与分流密封外壳2的右侧通过螺钉固定连接；分流密封外壳2外壁固定安装有控制面板3，密封外壳1外壁两侧均固定设置有玻璃观察窗4，且顶面安装有气泵8，气泵8右侧设置有输气管9，输气管9的两端分别与气泵8右侧和密封外壳1顶面右部连通；密封外壳1底面固定安装有支架5，支架5底部固定安装有支撑柱6，支撑柱6的上下两端分别与支架5底部和地面固定连接；密封外壳1右端一侧地面上固定安置有氮气瓶7，氮气瓶7顶部与气泵8顶部通过软管连通。如图2所示，密封外壳1顶部设置有夹层送气管10，夹层送气管10右端顶部与输气管9底端连通，且夹层送气管10底部依次均匀开设有送气口11，送气口11顶部与夹层送气管10底部连通。如图3所示，分流密封外壳2内壁底部设置有分流台12，分流台12底面与分流密封外壳2内壁底部固定连接；分流台12顶面安装有导向转盘13，导向转盘13底部与分流台12顶面转动连接；密封外壳1内壁底部安装有传送带16，传送带16两侧分别与密封外壳1内壁底部两侧活动连接；传送带16左部与分流台12右部对接，且其上方设置有分流隔板17，分流隔板17从传送带16左部延伸至右部，且其顶部与密封外壳1内壁顶面固定连接；分流台12和传送带16顶面均设置有晶片载板18，晶片载板18均与分流台12和传送带16顶面可拆卸连接；晶片载板18顶面设置有限位卡块19，限位卡块19底部与晶片载板18顶面一体连接。如图4所示，导向转盘13中部开设有辊槽14，辊槽14内安装有小型推料辊15，小型推料辊15位于辊槽14内与本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光刻机的晶片传送装置，其特征在于，包括密封外壳（1）和分流密封外壳（2），所述密封外壳（1）的左侧与分流密封外壳（2）的右侧通过螺钉固定连接；所述分流密封外壳（2）外壁固定安装有控制面板（3），所述密封外壳（1）外壁两侧均固定设置有玻璃观察窗（4），且顶面安装有气泵（8），所述气泵（8）右侧设置有输气管（9），所述输气管（9）的两端分别与气泵（8）右侧和密封外壳（1）顶面右部连通；所述密封外壳（1）底面固定安装有支架（5），所述支架（5）底部固定安装有支撑柱（6），所述支撑柱（6）的上下两端分别与支架（5）底部和地面固定连接；所述密封外壳（1）右端一侧地面上固定安置有氮气瓶（7），所述氮气瓶（7）顶部与气泵（8）顶部通过软管连通。/n
【技术特征摘要】
1.一种光刻机的晶片传送装置，其特征在于，包括密封外壳（1）和分流密封外壳（2），所述密封外壳（1）的左侧与分流密封外壳（2）的右侧通过螺钉固定连接；所述分流密封外壳（2）外壁固定安装有控制面板（3），所述密封外壳（1）外壁两侧均固定设置有玻璃观察窗（4），且顶面安装有气泵（8），所述气泵（8）右侧设置有输气管（9），所述输气管（9）的两端分别与气泵（8）右侧和密封外壳（1）顶面右部连通；所述密封外壳（1）底面固定安装有支架（5），所述支架（5）底部固定安装有支撑柱（6），所述支撑柱（6）的上下两端分别与支架（5）底部和地面固定连接；所述密封外壳（1）右端一侧地面上固定安置有氮气瓶（7），所述氮气瓶（7）顶部与气泵（8）顶部通过软管连通。
2.根据权利要求1所述的一种光刻机的晶片传送装置，其特征在于，所述密封外壳（1）顶部设置有夹层送气管（10），所述夹层送气管（10）右端顶部与输气管（9）底端连通，且夹层送气管（10）底部依次均匀开设有送气口（11），所述送气口（11）顶部与夹层送气管（10）底部连通。
3.根据权利要求1所述的一种光刻机的晶片传送装置，其特征在于，所述分流密封外壳（2）内壁底部设置有分流台（12），所述分流台（12）底面与分流密封外壳（2）内壁底部固定...
【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，张琪，符友银，李俊毅，
申请(专利权)人：北京新毅东科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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