【技术实现步骤摘要】
常温双腔型气相沉积反应室
本技术涉及沉积反应室设备
，具体为常温双腔型气相沉积反应室。
技术介绍
气相沉积反应室可以帮助进行沉积工作，气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层，气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积，但是目前气相沉积反应室存在以下问题，存在不便于进行内端室体调节设置的现象，会造成一定的不便，需要进行改进。
技术实现思路
本技术的目的在于提供常温双腔型气相沉积反应室，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：常温双腔型气相沉积反应室，包括反应室主体，所述反应室主体的内端中心设有密封板，所述密封板的内端伸缩连接有调节装置，所述密封板的顶端位置固定连接有顶盖，所述调节装置包括调控部件、电动机、第一腔室、底板、套轴架、螺纹杆和第二腔室，所述底板设在调节装置的内端底部，所述底板的上端与调控部件相伸缩设置，所述调控部件的底部位置与螺纹杆相螺纹连接，所述螺纹杆的一侧与...
【技术保护点】
1.常温双腔型气相沉积反应室，包括反应室主体(1)，其特征在于：所述反应室主体(1)的内端中心设有密封板(3)，所述密封板(3)的内端伸缩连接有调节装置(2)，所述密封板(3)的顶端位置固定连接有顶盖(4)，所述调节装置(2)包括调控部件(5)、电动机(6)、第一腔室(7)、底板(8)、套轴架(9)、螺纹杆(10)和第二腔室(11)，所述底板(8)设在调节装置(2)的内端底部，所述底板(8)的上端与调控部件(5)相伸缩设置，所述调控部件(5)的底部位置与螺纹杆(10)相螺纹连接，所述螺纹杆(10)的一侧与套轴架(9)相固定设置，所述螺纹杆(10)的另一侧与电动机(6)相转动...
【技术特征摘要】
1.常温双腔型气相沉积反应室，包括反应室主体(1)，其特征在于：所述反应室主体(1)的内端中心设有密封板(3)，所述密封板(3)的内端伸缩连接有调节装置(2)，所述密封板(3)的顶端位置固定连接有顶盖(4)，所述调节装置(2)包括调控部件(5)、电动机(6)、第一腔室(7)、底板(8)、套轴架(9)、螺纹杆(10)和第二腔室(11)，所述底板(8)设在调节装置(2)的内端底部，所述底板(8)的上端与调控部件(5)相伸缩设置，所述调控部件(5)的底部位置与螺纹杆(10)相螺纹连接，所述螺纹杆(10)的一侧与套轴架(9)相固定设置，所述螺纹杆(10)的另一侧与电动机(6)相转动连接，所述调控部件(5)的前端位置与第一腔室(7)相连通，所述调控部件(5)的后端位置与第二腔室(11)相连通，所述调控部件(5)包括固定架(12)、抽拉滑块(13)、第一调节板(14)和第二调节板(15)，所述第一调节板(14)设在调控部件(5)的内端一侧，所述第二调节板(15)设在调控部件(5)的内端另一侧，所述第一调节板(14)和第二调节板(15)的下端位置处均与抽拉滑块(13...
【专利技术属性】
技术研发人员：浦招前，
申请(专利权)人：苏州派华纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。