真空镀多层膜结构及电子设备后盖制造技术

本实用新型专利技术提供一种真空镀多层膜结构，包括介质膜堆叠段和混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段包括相互堆叠的多层介质膜，所述混合膜堆叠段包括多层介质膜和多层金属膜，每层所述介质膜和每层所述金属膜依次相互交替堆叠形成所述混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段的介质膜与所述混合膜堆叠段的金属膜接触。通过本实用新型专利技术，提供一种简化真空镀工艺难度、提供颜色膜颜色效果和结合力的真空镀多层膜结构及电子设备后盖。

【技术实现步骤摘要】
真空镀多层膜结构及电子设备后盖
本技术属于镀膜
，具体涉及一种真空镀多层膜结构及电子设备后盖。
技术介绍
随着科技发展，功能强大的电子设备大量被生产并进入市场，例如手机、MP3、IPAD、移动硬盘、电纸书阅读器等。这些设备的正面一般为显示触摸屏，用来实现电子设备的交互功能，而后盖的材质、颜色、纹路也受到消费者的大量关注。为了提高后盖的强度、美感和科技感，设计者采用金属材质制作外壳，但随着电子设备中电流高频化，金属材质外壳无法不具备很好的电磁屏蔽性能，因此，玻璃、树脂等材质后盖成为电子设备未来的产品发展趋势。为了在电子设备后盖上形成不同的颜色，现有技术采用光学干涉原理，用真空镀膜配合油墨印刷工艺，制备电子设备的后盖颜色膜。此方式中，真空镀膜和油墨印刷是两种完全不同的工艺，需要互相配合和互相优化，达到最终的颜色膜性能要求，既增加了工艺难度，在颜色效果、结合力等问题上也存在问题，并且增加了工艺成本。
技术实现思路
因此，本技术的目的在于克服现有技术存在的不足，而提供一种简化真空镀工艺难度、提高颜色膜颜色效果和结合力的真空本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀多层膜结构，其特征在于：包括介质膜堆叠段和混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段包括相互堆叠的多层介质膜，所述混合膜堆叠段包括多层介质膜和多层金属膜(4)，每层所述介质膜和每层所述金属膜(4)依次相互交替堆叠形成所述混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段的介质膜与所述混合膜堆叠段的金属膜(4)接触。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空镀多层膜结构，其特征在于：包括介质膜堆叠段和混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段包括相互堆叠的多层介质膜，所述混合膜堆叠段包括多层介质膜和多层金属膜(4)，每层所述介质膜和每层所述金属膜(4)依次相互交替堆叠形成所述混合膜堆叠段，所述介质膜堆叠段的介质膜与所述混合膜堆叠段的金属膜(4)接触。


2.如权利要求1所述的真空镀多层膜结构，其特征在于：所述介质膜堆叠段的多层介质膜中，相邻介质膜之间的介质材料不同。


3.如权利要求2所述的真空镀多层膜结构，其特征在于：所述介质膜堆叠段的多层介质膜由第一介质膜(2)和第二介质膜(3)组成。


4.如权利要求3所述的真空镀多层膜结构，其特征在于：所述第一介质膜(2)材料为氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化铪、氧化硅、氧化铝或氟化镁，所述第二介质膜(3)材料为氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化铪、氧化硅、氧化铝或氟化镁。


5.如权利要求3所述的真空镀多层膜结构，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖畅，侯博成，李景薇，
申请(专利权)人：布勒莱宝光学设备北京有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11