一种真空内热量平衡装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种真空内热量平衡装置，包括：离子源装置、供电装置和供气装置，所述离子源装置可移动地设置在真空腔室内，用于产生等离子体；所述供电装置固定在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体所需要的电流，所述供气装置设置在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体以及散热所需要的气体。本发明专利技术能够通过一个离子源就可以实现大面积产品的镀膜或者表面修型，能够降低成本。能够降低成本。能够降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种真空内热量平衡装置


[0001]本专利技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种真空内热量平衡装置。

技术介绍

[0002]随着真空设备应用范围的扩展以及被镀产品面积的加大，设备也就相应的加大，而镀膜设备中的一些核心部件的参数性能是一致的，比如高能离子源，等离子的能量和覆盖范围是有限的，如果被镀件是覆盖范围的几倍甚至十倍大，如果用多个高能离子源的来解决，势必造成成本成倍增加，如果被镀件表面凹凸尺寸比较大，被镀件的均匀性就比较难保证，产品性能也不能保证。所以很多产品要求在真空内进行多维度的动作，这个时候就需要设计多维度的装置带动高能离子源去匹配不同方向的运动。目前主要的方式将动力，发热的电气部分都放置在真空外，降低电气零部件在真空内的耗损和不稳定性，减少真空放电的频率，但会带来工艺上的镀膜难度。还有一种应用就是大型设备中真空传片，常规的传片系统动力都会放置在真空室外部，通过磁流体或者轴封等方式将动力传送到真空室内执行机构，这样就能保证动力机构始终在大气侧，容易散热且不会产生真空放电，但对于需要多动作的真空传片机构就需要更多的动作更加灵活，如果还是把动力安装在真空室外，结构会复杂很多，密封轴也会复杂，成本高，动力到真空室的连接轴过长会造成执行机构与动力输出的误差，甚至一些高精度的动作完成不了。

技术实现思路

[0003]针对上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：
[0004]本专利技术实施例提供一种真空内热量平衡装置，包括：离子源装置、供电装置和供气装置，所述离子源装置可移动地设置在真空室内，用于产生等离子体；所述供电装置固定在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体所需要的电流，所述供气装置设置在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体以及散热所需要的气体。
[0005]本专利技术至少具有以下有益效果：
[0006]本专利技术实施例提供的真空内热量平衡装置，由于将离子源装置整体设置在真空腔室内部，并且能够在真空室内部移动，能够通过一个离子源就可以实现大面积产品的镀膜或者表面修型，能够降低成本。
附图说明
[0007]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0008]图1为本专利技术实施例提供的真空内热量平衡装置的使用状态图。
[0009]图2a和图2b为本专利技术实施例提供的离子源装置的结构示意图。
[0010]图3为本专利技术实施例提供的供电装置的结构示意图。
[0011]图4为本专利技术实施例提供的供气装置的结构示意图。
具体实施方式
[0012]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0013]图1为本专利技术实施例提供的真空内热量平衡装置的使用状态图。图2a和图2b为本专利技术实施例提供的离子源装置的结构示意图。图3为本专利技术实施例提供的供电装置的结构示意图。图4为本专利技术实施例提供的供气装置的结构示意图。
[0014]本专利技术实施例提供一种真空内热量平衡装置，主要用在真空设备中发热量大，长时间持续工作，功率大，自身发热的部件，比如高能离子源，真空电机，真空旋转装置等。在本专利技术一具体实施例中，如图1所示，提供的装置可包括：离子源装置40、供电装置50和供气装置60。其中，所述离子源装置40可移动地设置在真空腔室30内，用于产生等离子体，辅助工件盘(未图示)的产品镀膜。所述供电装置50固定在所述真空腔室30的侧壁上，用于为所述离子源装置40提供产生等离子体所需要的电流，包括射频电流和高压直流。所述供气装置60设置在所述真空腔室30的侧壁上，用于为所述离子源装置40提供产生等离子体以及散热所需要的气体，包括工艺气体和冷却气体。
[0015]真空腔室30通过前进泵10和高空真泵2实现内部真空。
[0016]进一步地，如图2a和图2b所示，所述离子源装置包括正离子发生装置、负离子发生装置和支撑板215。
[0017]其中，所述正离子发生装置包括壳体202、支撑法兰203、电容装置219、冷却罐218、电极组件208、电极固定法兰209、屏蔽盒213、第一工艺气体进气管217、压缩空气进气管212、压缩空气出气管214。其中，所述壳体202的一端通过螺钉与所述支撑法兰203的上端连接，另一端开放，用于释放正离子。
[0018]所述电容装置219与所述支撑法兰203的下端固定且密封连接，具体与O型密封圈通过固定螺钉205固定在支撑法兰203上。
[0019]所述冷却罐218设置在所述电容装置219的外部并且一端与所述支撑法兰固定且密封连接，另一端与所述电极固定法兰209的上端固定且密封连接。具体，冷却罐218的一端与O型密封圈通过连接螺钉204固定在支撑法兰203上，另一端通过连接螺钉210与电极固定法兰209固定连接，电极固定法兰和冷却罐之间设置有密封圈211。
[0020]所述电极组件208穿过并固定在所述电极固定法兰209上，所述电极组件的上端通过高压导线207和电极连接柱206与所述电容装置219连接。
[0021]所述屏蔽盒213与所述电极固定法兰209固定连接，用于对露出所述冷却罐的电极组件进行屏蔽，以防止冷却灌218外部的电极组件发生放电，所述屏蔽盒上设置有多个进电端子，所述多个进电端子与所述电极组件的下端连接。
[0022]所述支撑板215的一端与所述冷却罐218的外壁通过固定螺钉216固定连接，另一
端设置有压缩空气进气管插头、压缩空气出气管插头、第一工艺气体进气管插头、第二工艺气体进气管插头和高压电极插头，用于连接各种气管和线缆，防止整体在运动的时候，拖载受力，导致与电极固定法兰209连接的电极组件208，压缩空气出气管214，压缩空气进气管212，工艺气体管217的接头形成力，影响与电极固定法兰209之间的密封。
[0023]所述压缩空气进气管212的一端与设置在所述电极固定法兰209上的压缩空气进气管接头连接，另一端与所述压缩空气进气管插头连接，所述压缩空气出气管214的一端与设置在所述电极固定法兰上的压缩空气出气管接头连接，另一端与所述压缩空气出气管插头连接，所述第一工艺气体进气管217的一端与设置在所述电极固定法兰上的第一工艺气体进气管接头连接，另一端与所述第一工艺气体进气管插头连接。在本专利技术实施例中，压缩空气进气管接头和压缩空气出气管接头可为卡套密封接头。
[0024]所述负离子发生装置可包括安装架221、罩体222、阴极腔体(未图示)、第二工艺气体进气管223和高压线224，所述安装架221与所述支撑法兰203固定连本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空内热量平衡装置，其特征在于，包括：离子源装置、供电装置和供气装置，所述离子源装置可移动地设置在真空室内，用于产生等离子体；所述供电装置固定在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体所需要的电流，所述供气装置设置在所述真空腔室的侧壁上，用于为所述离子源装置提供产生等离子体以及散热所需要的气体。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述离子源装置包括正离子发生装置、负离子发生装置和支撑板；所述正离子发生装置包括壳体、支撑法兰、电容装置、冷却罐、电极组件、电极固定法兰、屏蔽盒、第一工艺气体进气管、压缩空气进气管、压缩空气出气管；其中，所述壳体的一端与所述支撑法兰的上端连接，另一端开放；所述电容装置与所述支撑法兰的下端固定且密封连接，所述冷却罐设置在所述电容装置的外部并且一端与所述支撑法兰固定且密封连接，另一端与所述电极固定法兰的上端固定且密封连接，所述电极组件穿过并固定在所述电极固定法兰上，所述电极组件的上端通过高压导线和电极连接柱与所述电容装置连接；所述屏蔽盒与所述电极固定法兰固定连接，用于对露出所述冷却罐的电极组件进行屏蔽，所述屏蔽盒上设置有多个进电端子，所述多个进电端子与所述电极组件的下端连接；所述支撑板的一端与所述冷却罐固定连接，另一端设置有压缩空气进气管插头、压缩空气出气管插头、第一工艺气体进气管插头、第二工艺气体进气管插头和高压电极插头；所述压缩空气进气管的一端与设置在所述电极固定法兰上的压缩空气进气管接头连接，另一端与所述压缩空气进气管插头连接，所述压缩空气出气管的一端与设置在所述电极固定法兰上的压缩空气出气管接头连接，另一端与所述压缩空气出气管插头连接，所述第一工艺气体进气管的一端与设置在所述电极固定法兰上的第一工艺气体进气管接头连接，另一端与所述第一工艺气体进气管插头连接；所述负离子发生装置包括安装架、罩体、阴极腔体、第二工艺气体进气管和高压线，所述安装架与所述支撑法兰固定连接，所述阴极腔体与所述安装架连接，所述罩体设置在所述阴极腔体的外部并与所述安装架固定连接，所述高压线的一端与所述阴极腔体连接，另一端与所述高压电极插头连接，所述第二工艺气体进气管的一端与所述阴极腔体连接，另一端与所述第二工艺气体进气管插头连接；所述多个供电端子和所述高压电极插头还与所述供电装置连接，所述压缩空气进气管插头、压缩空气出气管插头、第一工艺气体进气管插头和第二工艺气体进气管插头还与所述供气装置连接。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述电极组件包括第一电极组件和第二电极组件，所述多个进电端子包括射频电流进电端子和两个直流进电端子；所述第一电极组件包括环形的第一外环形体、第一内环形体和第一导电柱，所述第一导电柱的一端与所述射频电流进电端子连接，另一端穿过所述第一内环形体与所述电容装置连接；所述第二电极组件包括环形的第二外环形体、第二内环形体和两个第二导电柱，所述两个第二导电柱的一端分别与所述两个直流进电端子连接，另一端分别穿过所述第二内环形体与所述电容装置连接。4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述外环形体由不锈钢材料制成，所述内环形体由陶瓷材料制成，所述外环形体和所述内环形体通过焊接连接。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述供电装置包括安装法兰、密封法兰、固定板、外部壳体、内部壳体、射频电极组件、直流电极组件、第一至第四电极外部插头以及第一至第四电极内部插头；其中，所述密封法兰与所述真空腔室的侧壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亮，魏国军，张继朋，高锐峰，杨旭，鲁程龙，
申请(专利权)人：布勒莱宝光学设备北京有限公司，
类型：发明
国别省市：