【技术实现步骤摘要】
光学设备及其工作方法
本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种光学设备及其工作方法。
技术介绍
在半导体制程中,对晶圆进行检测和加工的装置通常包括光源,提供入射光,入射光通过光学元件照到晶圆的表面。晶圆检测和加工装置包括:前端装置、光源组件和真空吸盘;前端装置的阀门的开启和关闭、光源组件的保护气体、运动平台的运动等均需要供气装置提供气体。现有技术通过同一供气系统为前端装置、光源组件和真空吸盘等提供相同的气体。然而,由于晶圆检测和加工装置的不同部件对气体的要求不同,提供相同的气体很难满足各部件对气体的需求。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种光学设备及其工作方法,能够在满足光学设备的不同部件对气体不同要求的前提下,降低成本。本专利技术技术方案提供一种光学设备,包括:供气装置,用于提供清洁气体;分流单元,用于将所述清洁气体分为第一清洁气体和第二清洁气体;第一过滤装置,用于对所述第一清洁气体进行第一过滤处理,所述第一过滤装置包括酸碱过滤器,所述酸碱过滤器用于去除所述第一清洁气体中的酸性和/或碱性气体,形成第三清洁气体;与所述第三清洁气体连通的光学腔室,所述光学腔室内用于形成光路;与第二清洁气体连通的气动装置,所述第二清洁气体用于为气动装置提供力的作用。可选的,所述供气装置包括:气源,用于产生原始气体;第二过滤装置,用于对所述原始气体进行第二过滤处理,形成所述清洁气体;所述第二过滤装置用于去除原始气体中的固体颗粒、水分、油雾中的一者或多者组合。可选的 ...
【技术保护点】
1.一种光学设备,其特征在于,包括:/n供气装置,用于提供清洁气体;/n分流单元,用于将所述清洁气体分为第一清洁气体和第二清洁气体;/n第一过滤装置,用于对所述第一清洁气体进行第一过滤处理,所述第一过滤装置包括酸碱过滤器,所述酸碱过滤器用于去除所述第一清洁气体中的酸性和/或碱性气体,形成第三清洁气体;/n与所述第三清洁气体连通的光学腔室,所述光学腔室内用于形成光路;/n与第二清洁气体连通的气动装置,所述第二清洁气体用于为气动装置提供力的作用。/n
【技术特征摘要】
1.一种光学设备,其特征在于,包括:
供气装置,用于提供清洁气体;
分流单元,用于将所述清洁气体分为第一清洁气体和第二清洁气体;
第一过滤装置,用于对所述第一清洁气体进行第一过滤处理,所述第一过滤装置包括酸碱过滤器,所述酸碱过滤器用于去除所述第一清洁气体中的酸性和/或碱性气体,形成第三清洁气体;
与所述第三清洁气体连通的光学腔室,所述光学腔室内用于形成光路;
与第二清洁气体连通的气动装置,所述第二清洁气体用于为气动装置提供力的作用。
2.根据权利要求1所述的光学设备,其特征在于,所述供气装置包括:
气源,用于产生原始气体;
第二过滤装置,用于对所述原始气体进行第二过滤处理,形成所述清洁气体;所述第二过滤装置用于去除原始气体中的固体颗粒、水分、油雾中的一者或多者组合。
3.根据权利要求2所述的光学设备,其特征在于,所述第二过滤装置包括一级过滤装置和二级过滤装置;所述一级过滤装置用于对所述原始气体进行一级过滤;所述二级过滤装置用于对进行了一级过滤的气体进行二级过滤;一级过滤装置和二级过滤装置均至少用于去除原始气体中的固体颗粒;所述二级过滤装置过滤的固体颗粒的尺寸小于或等于一级过滤装置过滤的固体颗粒的尺寸。
4.根据权利要求1所述的光学设备,其特征在于,所述第一过滤装置还包括:气体清洁器,所述气体清洁器用于去除清洁气体中的固体颗粒、水分、油雾中的一者或多者组合。
5.根据权利要求1所述的光学设备,其特征在于,光学腔室的个数为多个,多个光学腔室包括:整形腔室和位于光源设备中的光源腔室;
所述光源设备用于产生出射光源,所述光源设备包括:位于光源腔室中的泵浦光源,用于发射泵浦光;谐振腔室用于提高所述泵浦光的平行性,形成出射光束;
所述整形腔室中具有:整形组件和起偏组件中的一者或两者组合,整形组件用于对到达所述整形组件的出射光束进行整形,调节出射光束形成的光斑形状;起偏组件用于调节所述出射光束的偏振态。
6.根据权利要求1或5所述的光学设备,其特征在于,还包括:探测腔室,所述探测腔室中具有:接收组件,用于收集经过待处理物形成的信号光束;探测器,用于探测所述接收组件收集的信号光束,并获取收集的信号光束的光强信息。
7.根据权利要求6所述的光学设备,其特征在于,与所述第三清洁气体连通的光学腔室的个数为一个或多个;
与所述第三清洁气体连通的光学腔室包括光源腔室、整形腔室和探测腔室中的一者或多者组合。
8.根据权利要求7所述的光学设备,其特征在于,所述信号光束为所述发射光束经过待处理物散射形成的光束;所述探测器还用于根据所述光强信息获取待处理物表面缺陷的位置信息或/和尺寸信息。
9.根据权利要求1所述的光学设备,其特征在于,形成光路的光束包括紫外光。
10.根据权利要求1所述的光学设备,其特征在于,与第二清洁气体连通的气动装置包括:气动阀门、运动台和静电消除器中的一者或多者组合;
其中,通过所述第二清洁气体为气动阀门提供动力,以移动气动阀门;所述第二清洁气体为所述运动台提供动力,使运动台带动待处理物运动;所述静电消除器通过所述第二清洁气体将大量正负离子吹出以中和静电。
11.根据权利要求10所述的光学设备,其特征在于,与所述第二清洁气体连通的气动阀门的个数为一个或多个;所述一个或多个气动阀门包括第一气动阀门和第二气动阀门中的一个或两个;
所述光学设备还包括:承载腔室,具有承载装置用于承载待处理物,以对所述待处理物进行处理;所述承载腔室侧壁具有处理窗口,待处理物通过所述处理窗口进出处理腔室...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈鲁,邓曾红,黄有为,张嵩,
申请(专利权)人:深圳中科飞测科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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