【技术实现步骤摘要】
本申请涉及图像处理,尤其涉及一种光学成像装置。
技术介绍
1、在半导体晶圆检测系统中,为了获取晶圆目标区域不同形态的成像结果,如获取目标区域的明场成像,或获取目标区域的暗场成像,可以在晶圆通过物镜成像时,对物镜的曈面进行空间滤波,以获取晶圆目标区域中不同形态的成像结果。
2、而现有技术中,对晶圆进行成像的物镜一般都处于密封的结构中,从而导致无法获取到物镜的曈面,进而无法对物镜的曈面执行空间滤波。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种光学成像装置,用于获取物镜曈面的共轭曈面,并通过第一拍摄设备获取物镜曈面的图像,使得可以通过物镜曈面的像,在共轭曈面的位置对物镜曈面执行空间滤波,从而为物镜曈面的空间滤波提供了基础条件。
2、本申请实施例提供了一种光学成像装置,包括:共轴设置的物镜、中继镜、第一成像组件和第一拍摄设备,其中:
3、所述物镜,用于对检测对象进行成像;
4、所述中继镜,用于对所述物镜的曈面进行成像,以得到物镜曈面的共轭曈面;
...【技术保护点】
1.一种光学成像装置,其特征在于,包括:共轴设置的物镜、中继镜、第一成像组件和第一拍摄设备,其中:
2.根据权利要求1所述的光学成像装置,其特征在于,所述第一成像组件包括第一成像单元或第二成像单元,其中:
3.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,若所述第一成像组件包括所述定焦镜组,则所述检测对象和所述拍摄设备的靶面成像共轭;
4.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,若所述第一成像组件包括所述变焦镜组,则所述检测对象和所述拍摄设备的靶面成像共轭;
5.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,所述可
...【技术特征摘要】
1.一种光学成像装置,其特征在于,包括:共轴设置的物镜、中继镜、第一成像组件和第一拍摄设备,其中:
2.根据权利要求1所述的光学成像装置,其特征在于,所述第一成像组件包括第一成像单元或第二成像单元,其中:
3.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,若所述第一成像组件包括所述定焦镜组,则所述检测对象和所述拍摄设备的靶面成像共轭;
4.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,若所述第一成像组件包括所述变焦镜组,则所述检测对象和所述拍摄设备的靶面成像共轭;
5.根据权利要求2所述的光学成像装置,其特征在于,所述可切换管镜包括可移动管镜和可转动管镜,所述可移动管镜包括伯特兰bert...
【专利技术属性】
技术研发人员:靳丹,胡诗铭,张鹏斌,陈鲁,张嵩,
申请(专利权)人:深圳中科飞测科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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