磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法技术

本发明专利技术公开了磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，涉及真空镀膜技术领域，为解决现有的真空镀膜设备在对基材进行真空镀膜时速度较慢，容易发生损伤基材的现象，所得的基材成品薄膜附着力较弱，绕射性差的问题。步骤一：先对需要镀膜的基材进行表面处理，将基材表面借助打磨设备打磨后放入清洗池中进行除尘清洗，清洗的过程中在清洗池中滴加一些除油剂对基材表面的油渍进行去除，清洗完后捞出基材，沥干水分后进行烘干操作；步骤二：将烘干后的基材进行底涂加工，借助喷涂机将型号为SZ

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法


[0001]本专利技术涉及真空镀膜
，具体为磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜，真空镀膜是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术，真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术。
[0003]现有的真空镀膜设备在对基材进行真空镀膜时速度较慢，容易发生损伤基材的现象，所得的基材成品薄膜附着力较弱，绕射性差，影响真空镀膜基材的成品度，为此，我们提供磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的真空镀膜设备在对基材进行真空镀膜时速度较慢，容易发生损伤基材的现象，所得的基材成品薄膜附着力较弱，绕射性差的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，包括以下步骤：步骤一：先对需要镀膜的基材进行表面处理，将基材表面借助打磨设备打磨后放入清洗池中进行除尘清洗，清洗的过程中在清洗池中滴加一些除油剂对基材表面的油渍进行去除，清洗完后捞出基材，沥干水分后进行烘干操作；步骤二：将烘干后的基材进行底涂加工，借助喷涂机将型号为SZ-97T的镀膜油喷涂在基材的表面上，尺寸较小的基材可以放入盛有SZ-97T的镀膜油的浸染池中进行浸涂处理，底涂工作完成后将处理好的基材放在镂空的网架上沥干；步骤三：基材沥干到不滴油的状态后，将基材放入烘干设备内部进行镀膜油的烘干处理，将烘干设备的烘干温度调节到六十摄氏度到七十摄氏度之间，烘干两个小时后，将基材取出放在常温下冷却备用；步骤四：将常温冷却后的基材放置到真空镀膜设备的内部进行镀膜操作，先将基材放置到右侧的磁控溅射镀膜仓中进行镀膜处理，电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子，新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射,在溅射粒子中，中性的靶
原子或分子沉积在基片上形成薄膜；步骤五：将经过磁控溅射的基材取出放置到真空镀膜设备左侧的多弧离子镀膜仓中，先将真空室抽真空，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区，基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极，辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗，然后加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，部分产生离化，离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，将蒸发物或反应物沉积在基材的表面上；步骤六：将经过磁控溅射镀膜和多弧离子镀膜后的基材取出，选用910哑光油对基材的镀膜表面进行涂装加工，面涂操作完成后，将面涂后的基材沥干后放入烘干设备中进行烘干，烘干设备的温度控制在五十摄氏度至六十摄氏度之间，烘干完成后取出常温下进行冷却；步骤七：面涂烘干完成后，将面漆已经烘干的基材放进染缸里染上所需颜色，染缸中的水温控制在六十摄氏度到八十摄氏度之间，染色完成后进行冲洗晾干处理，得到真空镀膜的成品；其中，所述真空镀膜设备包括真空镀膜机，所述真空镀膜机的两侧分别设置有磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓，所述磁控溅射仓的内部设置有电极板，所述多弧离子镀膜仓的内部设置有引弧电极，所述电极板和引弧电极的上方设置有基材。
[0006]优选的，所述电极板的下端设置有极板支架，且电极板通过极板支架与磁控溅射仓固定安装，所述电极板的上端设置有磁铁，所述磁铁的上端设置有铜背板，且铜背板位于基材的下方。
[0007]优选的，所述铜背板的上端设置有靶材，所述靶材的上方设置有镀膜面层，且镀膜面层的尺寸靶材的尺寸相等，所述镀膜面层与基材的外壁贴附连接。
[0008]优选的，所述引弧电极的上端设置有绝缘支架，所述绝缘支架的上端设置有低压电弧，所述低压电弧与引弧电极一体成型设置，且低压电弧通过绝缘支架与引弧电极固定安装。
[0009]优选的，所述低压电弧的两端分别设置有阴极电机和阳极电极，且阴极电机和阳极电极与低压电弧一体成型设置，所述阴极电机和阳极电极关于引弧电极的垂直中心线对称分布。
[0010]优选的，所述磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓的进气接口位置上分别设置有氩气接入口和氮气接入口，所述氩气接入口和氮气接入口分别与磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓一体成型设置。
[0011]优选的，所述磁控溅射仓的顶端设置有接地线，且磁控溅射仓与接地线电性连接，所述多弧离子镀膜仓的两侧外壁上均设置有磁场线圈，且磁场线圈与多弧离子镀膜仓的内部连通设置。
[0012]优选的，所述磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓的外壁上均设置有抽真空口，且抽真空口与磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓一体成型设置，所述磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓通过抽真空口与真空泵密封连接。
[0013]优选的，所述引弧电极和电极板的下端均设置有供电线路，所述供电线路的一端贯穿并延伸至磁控溅射仓和多弧离子镀膜仓的外部，且引弧电极和电极板通过供电线路与
真空镀膜机的供电箱电性连接。
[0014]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、本专利技术采用磁控溅射与多弧离子镀膜相结合的真空镀膜方式，先将基材放置到右侧的磁控溅射镀膜仓中进行镀膜处理，再将经过磁控溅射的基材取出放置到真空镀膜设备左侧的多弧离子镀膜仓中，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤，在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，多弧离子镀膜薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛，克服了现有的真空镀膜设备在对基材进行真空镀膜时速度较慢，容易发生损伤基材的现象，所得的基材成品薄膜附着力较弱，绕射性差的问题。
[0015]2、通过将烘干后的基材进行底涂加工，借助喷涂机将型号为SZ-97T的镀膜油喷涂在基材的表面上，尺寸较小的基材可以放入盛有SZ-97T的镀膜油的浸染池中进行浸涂处理，底涂工作完成后将处理好的基材放在镂空的网架上沥干，基材沥干到不滴油的状态后，将基材放入烘干设备内部进行镀膜油的烘干处理，将烘干设备的烘干温度调节到六十摄氏度到七十摄氏度之间，烘干两个小时后，将基材取出放在常温下冷却备用，从而便于后续的真空镀膜工作膜层可以更好的附着在基材的表面上。
附图说明
[0016]图1为本专利技术的整体方法流程示意图；图2为本专利技术的真空镀膜机结构示意图；图3为本发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：先对需要镀膜的基材进行表面处理，将基材表面借助打磨设备打磨后放入清洗池中进行除尘清洗，清洗的过程中在清洗池中滴加一些除油剂对基材表面的油渍进行去除，清洗完后捞出基材，沥干水分后进行烘干操作；步骤二：将烘干后的基材进行底涂加工，借助喷涂机将型号为SZ-97T的镀膜油喷涂在基材的表面上，尺寸较小的基材可以放入盛有SZ-97T的镀膜油的浸染池中进行浸涂处理，底涂工作完成后将处理好的基材放在镂空的网架上沥干；步骤三：基材沥干到不滴油的状态后，将基材放入烘干设备内部进行镀膜油的烘干处理，将烘干设备的烘干温度调节到六十摄氏度到七十摄氏度之间，烘干两个小时后，将基材取出放在常温下冷却备用；步骤四：将常温冷却后的基材放置到真空镀膜设备的内部进行镀膜操作，先将基材放置到右侧的磁控溅射镀膜仓中进行镀膜处理，电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子，新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射,在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜；步骤五：将经过磁控溅射的基材取出放置到真空镀膜设备左侧的多弧离子镀膜仓中，先将真空室抽真空，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区，基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极，辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗，然后加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，部分产生离化，离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，将蒸发物或反应物沉积在基材的表面上；步骤六：将经过磁控溅射镀膜和多弧离子镀膜后的基材取出，选用910哑光油对基材的镀膜表面进行涂装加工，面涂操作完成后，将面涂后的基材沥干后放入烘干设备中进行烘干，烘干设备的温度控制在五十摄氏度至六十摄氏度之间，烘干完成后取出常温下进行冷却；步骤七：面涂烘干完成后，将面漆已经烘干的基材放进染缸里染上所需颜色，染缸中的水温控制在六十摄氏度到八十摄氏度之间，染色完成后进行冲洗晾干处理，得到真空镀膜的成品；其中，所述真空镀膜设备包括真空镀膜机（1），所述真空镀膜机（1）的两侧分别设置有磁控溅射仓（2）和多弧离子镀膜仓（3），所述磁控溅射仓（2）的内部设置有电极板（16），所述多弧离子镀膜仓（3）的内部设置有引弧电极（7），所述电极板（16）和引弧电极（7）的上方设置有基材（4）。2.根据权利要求1所述的磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，其特征在于：所述电极板（16）的下端设...

【专利技术属性】
技术研发人员：范玉山，黄桃，
申请(专利权)人：苏州德耐纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：