本发明专利技术可以防止形成在棱镜上的反射膜中的微小的透射部的位置偏差。其中，使用掩模部件（４）在平板形状的透明基板（１）上形成一体地形成了缝隙图案的反射膜（２），通过沿切开线（２Ａ）切断透明基板（１）获得基板块（５）。分别将基板块（５）的没有形成反射膜（２）的面的两端研磨到刻度（２Ｃ）的位置，将这样的第１棱镜结构片（８）与第２棱镜结构片（８Ｃ）接合，然后通过沿与上述切断方向垂直的方向切断获得最终的正四棱柱棱镜（２０）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，特别涉及仅透射入射光的一部分的。
技术介绍
在玻璃基板等透明基板上形成有具有规定的光学特性的膜的光学元件可以用于各种各样的光学装置。这样的光学元件有透射或反射一定波长以上的光的元件，或者根据偏振光成分透射或反射的元件或者反射所有的入射光的元件。还有仅透射入射光的一部分，而将其他的入射光全部反射的元件。其中，作为用于例如光盘的传感器装置的光学元件中的让入射光的一部分透过的光学元件，有例如让光源射出的光的一部分透过，入射到用来取样该透射的光并将光源的发光强度保持为一定的APC(Auto Power Control，自动功率控制)的受光元件上，通过进行反馈控制使光源射出的光总是以稳定的能量射出的元件。例如，图7为表示光盘的传感器装置的一例的方框图，如该图所示，光源103射出的光被平行光透镜104变成平行光。并且变成了平行光的光入射到制成平板状形状的第1光学元件101中，在第1光学元件101中大半部分的光向着第2光学元件102反射，一部分光透过APC用光检测器107。这里，APC用光检测器107为计测光源103射出的光的强度的装置，将该光的强度作为取样信号，将与受光量相对应的电流信号输出给APC电路108。通过该APC电路108进行适当的放大，将取样信号反馈给光源驱动电路109，通过这样进行控制使光源103的发光强度为一定。接着，第1光学元件101反射的光经过第2光学元件102入射到物镜105，汇聚到光盘110的记录轨道上。从该光盘110反射回来的光从物镜105入射到第2光学元件102中，该第2光学元件102反射的光经过聚光透镜106照射到光检测器111上，变换成电气信号。这样一来，作为使入射到第1光学元件101中的光的一部分透过APC用光检测器107的光学元件，可以使用采取在玻璃基板的基板上形成光的反射部和透射部的结构的元件。这里，有关在玻璃基板等平板状的基板上形成反射膜，在该反射膜上设置作为光的透射部的缝隙结构的方法以往已经公知(例如参照专利文献1)。当像上述专利文献1那样使用在平板状的基板上形成了缝隙结构的光学元件时，必须使制成平板状形状的基板相对于光源的光轴倾斜规定的角度配置，而且该基板的倾斜角度还必须极其严格。即，由于在基板上形成了膜的光学元件的特性随入射光的入射角的不同而异，因此为了正确地分离入射光，必须极其严格地设计基板与入射光之间的角度。因此，如果用棱镜取代制成平板形状的基板更容易使光轴一致。并且，从反射膜的耐气候性这一点来讲，由于与制成平板形状的基板相比，制成正四棱柱形状的棱镜更加稳定，因此更理想。可以通过下述方法获得所希望的正四棱柱棱镜准备端面为直角等腰三角形形状的细长的三棱柱棱镜，在该细长的三棱柱棱镜的一面的一部分上形成有缝隙作为透光部的反射膜，将形状与该细长的三棱柱棱镜相同、并且没有形成反射膜的细长的三棱柱棱镜与形成有反射膜的细长的三棱柱棱镜接合，使它们的反射膜成为接合面，然后沿短的方向切断。因此，必须在上述细长的三棱柱棱镜的一面上形成具有缝隙结构的反射膜，而且此时细长的三棱柱棱镜必须在保持端面的状态下形成膜。当这样在保持端面的状态下在细长的三棱柱棱镜的一面形成膜时，由于用于保持的面积相对于整个形状来说非常小，因此存在正确定位困难的问题。特别是在形成具有缝隙的反射膜时，如果缝隙的位置沿短轴方向错位，则在例如用于APC用光检测器的情况下，存在测定的光能量分布不均等的问题，不能进行准确的光能量测定。并且，由于近年来光盘的密度不断提高，更加要求形成位置准确的缝隙。日本特开2002-6117号公报
技术实现思路
因此，本专利技术的目的就是要提供一种在细长的三棱柱棱镜上形成具有规定形状的图案的反射膜时，能够通过防止缝隙在该细长的三棱柱棱镜的短轴方向的错位准确地设置最终制成的棱镜上形成的微小的透光部的位置的。本专利技术的的特征在于包括以下工序在呈平板状形状的大块透明基板的表面上形成金属膜的工序；用掩模部件一体地形成曝光图案的复制掩模部的工序，所述掩模部件包括用来在上述透明基板上形成作为沿透明基板的一个方向切断成长方形获得多个基板块时的基准的切开线的切开线掩模部，用来形成作为研磨上述基板块时的研磨界线的刻度的刻度掩模部，用来在上述基板块上形成透射部的图案掩模部；剥离形成了上述曝光图案部分以外的金属膜的工序；在上述透明基板的整个表面形成反射膜的工序；将曝光图案区域的金属膜及反射膜从上述透明基板的表面剥离的工序；沿上述切开线切断上述透明基板获得上述基板块的工序；将上述基板块的形成了上述反射膜的面的反面的二端中的一端研磨到上述标记的工序；将上述基板块的上述反面的二端中剩下的一端研磨到上述标记获得呈细长三棱柱形状的第1棱镜结构片的工序；将形状与上述第1棱镜结构片相同并且没有形成反射膜的第2棱镜结构片与上述第1棱镜结构片接合获得棱镜母材的工序；切断上述棱镜母材获得正四棱柱棱镜的工序。本专利技术的能够获得准确地形成了微小的透射部的位置的棱镜。附图说明图1表示制造正四棱柱棱镜的工序的流程2掩模部件与大块透明基板的外观的3大块透明基板和基板块的外观的4表示第1及第2研磨工序的说明5棱镜母材和正四棱柱棱镜的外观6在棱镜母材和正四棱柱棱镜上形成的反射膜的外观7以往的光盘的传感器装置的大致结构图具体实施方式下面根据图1的流程图说明本专利技术的实施形态。最初，准备好呈平板状形状的玻璃板等大块的透明基板1，在其上均匀地形成金属膜9(步骤S1)。这里，虽然在本实施形态中用四边形的板作为透明基板1的形状进行说明，但并不局限于此，透明基板1也可以为圆板的形状。并且，此时大块的透明基板1的形成了金属膜9的一面预先进行研磨加工。然后，像图2(b)所示那样将形成了金属膜9的平板状的大块的透明基板1保持在稳定的状态，在表面涂敷光致抗蚀剂等感光剂，使用图2(a)所示的掩模部件4，通过使掩模部件4的冲孔部曝光形成曝光图案(步骤S2)。然后通过刻蚀加工除去形成了曝光图案的部分以外的金属膜9(步骤S3)，在形成曝光图案部分的下层残留金属膜9的状态下在透明基板1的表面形成反射膜2(步骤S4)。然后，剥离金属膜9及其上面的反射膜2(步骤S5)。通过这样，在透明基板1的整个表面形成具有曝光图案的反射膜2。下面说明掩模部件4。本实施形态的掩模部件4如图2(a)所示。由切开线掩模部4A、作为透射部的缝隙掩模部4S和刻度掩模部4C构成。如图2(a)所示，切开线掩模部4A、缝隙掩模部4S及刻度掩模部4C这些部分(形成透射图案的部分)被遮光，其他的部分为曝光部分(形成曝光图案的部分)。通过掩模部件4在大块的透明基板1上一体地形成没有形成反射膜2的切开线2A、缝隙2S及刻度2C的透射部分图案。这里，为了在大块的透明基板1上形成准确的透射图案，在形成金属膜9时一定要形成均匀的膜厚，并且刻蚀加工也必须高精度地进行。因此，通过将大块的透明基板1形成为大面积的平板状的部件，在该大块的透明基板1的状态下形成金属膜9、形成曝光图案以及进行刻蚀加工能够进行高精度的加工。下面说明切开线2A、缝隙2S及刻度2C。在本实施形态中，沿1个方向将呈平板状形状的大块的透明基板1切断成长方形，为了获得多个呈细长四棱柱形状的基板块5，形成成为切断大块的透明基板1时的基准的切开线2A。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学元件的制造方法，其特征在于，包括以下工序：在呈平板状形状的大块透明基板的表面上形成金属膜的工序；用掩模部件一体地形成曝光图案的复制掩模的工序，所述掩模部件包括：用来在上述透明基板上形成作为沿透明基板的一个方向切断成长 方形而获得多个基板块时的基准的切开线的切开线掩模部，用来形成作为研磨上述基板块时的研磨界限的刻度的刻度掩模部，用来在上述基板块上形成透射部的图案掩模部；剥离形成了上述曝光图案部分以外的金属膜的工序；在上述透明基板的整个表面形 成反射膜的工序；将曝光图案区域的金属膜及反射膜从上述透明基板的表面剥离的工序；沿上述切开线切断上述透明基板而获得上述基板块的工序；将上述基板块的形成了上述反射膜的面的反面的二端中的一端研磨到上述标记的工序；将 上述基板块的上述反面的二端中剩下的一端研磨到上述标记以获得呈细长三棱柱形状的第１棱镜结构片的工序；将形状与上述第１棱镜结构片相同并且没有形成反射膜的第２棱镜结构片与上述第１棱镜结构片接合获得棱镜母材的工序；切断上述棱镜母材以 获得正四棱柱棱镜的工序。...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：横山岩，关口隆史，
申请(专利权)人：富士能佐野株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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