放射线敏感性组合物、滤色器和液晶显示元件制造技术

本发明专利技术涉及放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）碱溶性树脂、（Ｃ）多官能性单体、以及（Ｄ）光自由基引发剂，且用于着色层的形成，其中所述（Ｄ）光自由基引发剂含有１－［９－乙基－６－（２－甲基苯甲酰基）－９．Ｈ．－咔唑－３－基］－乙烷－１－酮肟－Ｏ－乙酸酯等的肟，和选自联二咪唑化合物、二苯甲酮化合物、噻吨酮化合物和香豆素酮化合物的至少一种成分。该组合物即使在低曝光量和苛刻的显影条件下也可得到不发生图案边缘缺损和侧壁腐蚀，且显影时没有未溶解物的残留、图案边缘不会产生浮渣的像素和黑底。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
放射线敏感性组合物，其特征在于：该放射线敏感性组合物含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）碱溶性树脂、（Ｃ）多官能性单体、以及（Ｄ）光自由基引发剂，且用于着色层的形成，其中所述（Ｄ）光自由基引发剂含有选自下式（１）所示化合物和下式（２）所示化合物的至少一种成分，和选自联二咪唑化合物、二苯甲酮化合物、噻吨酮化合物和香豆素酮化合物的至少一种成分：＊＊＊式（１）和式（２）中，各Ｒ↑［１］相互独立，表示碳原子数为１－１２的直链、支链或环状烷基或苯基，各Ｒ↑［２］相互独立，表示氢原子 、碳原子数为１－１２的直链、支链或环状烷基或苯基，各Ｒ↑［３］相互独立，表示氢原子或碳原子数为１－１２的直链、支链或环状烷基，各Ｒ↑［４］、各Ｒ↑［５］和各Ｒ↑［６］相互独立，表示氢原子或碳原子数为１－６的直链、支链或环状烷基；Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］、Ｒ↑［４］、Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］的烷基分别可被选自碳原子数１－６的直链、支链或环状烷氧基，苯基和卤素原子的取代基取代；Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］的苯基分别可被选自碳原子数１－６的直链、支链或环状烷基，碳原子数１－６的直链、支链或环状烷氧基，苯基和卤素原子的取代基取代。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：龙恭一郎，长塚富雄，槙平勇，小原浩挥，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]