放射线敏感性树脂组合物、树脂膜、和电子部件制造技术

本发明专利技术提供放射线敏感性树脂组合物，其含有粘结剂树脂(A)、放射线敏感性化合物(B)、和由下述通式(1)表示的交联剂(C)，相对于上述粘结剂树脂(A)100重量份，上述交联剂(C)的含量为3～25重量份。(上述通式(1)中，R1～R3各自独立地为碳原子数为1～10的烃基。)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及放射线敏感性树脂组合物和使用该放射线敏感性树脂组合物得到的树脂膜以及电子部件，更详细地，涉及能够给予曝光感度高、吸水率低、利用显影的图形形成性和耐UV臭氧处理性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物以及使用该放射线敏感性树脂组合物得到的树脂膜和电子部件。
技术介绍
在显示元件、集成电路元件、固体摄像元件、滤色器、薄膜晶体管和黑矩阵等电子部件中，作为用于防止其劣化、损伤的保护膜、用于将具有元件、配线的基板的来自元件、配线的凹凸平坦化的平坦化膜、以及用于保持电绝缘性的电绝缘膜等，设置了各种树脂膜。在薄膜晶体管型液晶显示元件、集成电路元件等元件中，为了将以层状配置的多个配线之间绝缘，设置了作为层间绝缘膜的树脂膜。另外，就有机EL元件而言，作为发光体部的构成，一般为包含阳极/空穴注入传输层/有机发光层/电子注入层/阴极的构成，在该发光体部的周围，为了与其他元件、配线电绝缘，设置有像素分离膜(也称为像素定义膜、元件分离膜)，在晶体管等有源元件与阳极之间设置有平坦化膜。以往，作为用于形成这些树脂膜的材料，使用了各种放射线敏感性树脂组合物。例如，专利文献1中公开了含有碱可溶性树脂、具有三嗪环结构并且具有羟甲基或烷氧基烷基的交联剂、和放射线敏感性产酸剂的放射线敏感性树脂组合物。根据专利文献1，公开了该放射线敏感性树脂组合物的绝缘性、平坦性、耐热性、透明性和耐化学品性等各性能优异。但是，对于该专利文献1中公开的放射线敏感性树脂组合物，利用显影的图形形成性未必充分，进而，利用显影的图形形成后，进行采用了UV臭氧处理的清洗时的劣化大，因此，不适于需要采用了UV臭氧处理的清洗的用途，例如有机EL元件的像素分离膜用途。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2002-249646号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于提供能够给予曝光感度高、吸水率低、利用显影的图形形成性和耐UV臭氧处理性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物。另外，本专利技术的目的还在于提供使用这样的放射线敏感性树脂组合物得到的树脂膜、和具有该树脂膜的电子部件。用于解决课题的手段本专利技术人等为了实现上述目的进行了深入研究，结果发现通过对于粘结剂树脂、与放射线敏感性化合物一起以特定的配合比例配合特定的含有尿烷键的三嗪系化合物，从而能够实现上述目的，完成了本专利技术。即，根据本专利技术，提供[1]放射线敏感性树脂组合物，其含有粘结剂树脂(A)、放射线敏感性化合物(B)和由下述通式(1)表示的交联剂(C)，相对于上述粘结剂树脂(A)100重量份，上述交联剂(C)的含量为3～25重量份，[化学式1](上述通式(1)中，R1～R3各自独立地为碳原子数为1～10的烃基。)[2]上述[1]所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述通式(1)中，R1～R3为甲基和/或正丁基，[3]上述[1]或[2]所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，还含有交联剂(D)，交联剂(D)具有三嗪环结构或甘脲结构，并且具有选自羟甲基和烷氧基烷基中的1种以上的官能团，[4]上述[3]所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，上述交联剂(D)为由下述通式(6)表示的具有三聚氰胺结构的化合物、和/或由下述通式(7)表示的具有胍胺结构的化合物，[化学式2](上述通式(6)中，R9～R14各自独立地为氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、羟甲基、或烷氧基烷基，R9～R14中的至少一个为羟甲基、或烷氧基烷基。)[化学式3](上述通式(7)中，R15～R18各自独立地为氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基、羟甲基、或烷氧基烷基，R15～R18中的至少一个为羟甲基、或烷氧基烷基。X为氢原子、可具有取代基的烷基、或可具有取代基的芳基。)[5]上述[3]或[4]所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，相对于上述粘结剂树脂(A)100重量份，上述交联剂(D)的含量为15～45重量份，[6]上述[1]～[5]的任一项所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，还含有环氧化合物(E)，[7]上述[6]所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，相对于上述粘结剂树脂(A)100重量份，上述环氧化合物(E)的含量为3～70重量份，[8]树脂膜，其使用上述[1]～[7]的任一项所述的树脂组合物而得到，以及[9]电子部件，其具有上述[8]所述的树脂膜。专利技术的效果根据本专利技术，能够提供能够给予曝光感度高、吸水率低、利用显影的图形形成性和耐UV臭氧处理性优异的树脂膜的放射线敏感性树脂组合物、使用这样的放射线敏感性树脂组合物得到的树脂膜、和具有这样的树脂膜的电子部件。具体实施方式本专利技术的放射线敏感性树脂组合物含有粘结剂树脂(A)、放射线敏感性化合物(B)、和由后述的通式(1)表示的交联剂(C)，使相对于上述粘结剂树脂(A)100重量份，上述交联剂(C)的含量为3～25重量份的范围。(粘结剂树脂(A))作为本专利技术中使用的粘结剂树脂(A)，并无特别限定，优选为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)、丙烯酸树脂(A2)、卡多(Cardo)树脂(A3)、聚硅氧烷(A4)或聚酰亚胺(A5)，这些中，特别优选具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)。这些粘结剂树脂(A)可以各自单独地使用，或者也可将2种以上并用。作为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)(以下简称为“环状烯烃聚合物(A1)”。)，可列举出1或2个以上的环状烯烃单体的聚合物、或者、1或2个以上的环状烯烃单体与可与其共聚的单体的共聚物，本专利技术中，作为用于形成环状烯烃聚合物(A1)的单体，优选至少使用具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)。其中，质子性极性基团是指包含在属于周期律表第15族或第16族的原子上氢原子直接键合的原子的基团。属于周期律表第15族或第16族的原子中，优选属于周期律表第15族或第16族的第1或第2周期的原子，更优选为氧原子、氮原子或硫原子，特别优选为氧原子。作为这样的质子性极性基团的具体例，可列举出羟基、羧基(羟基羰基)、磺酸基、磷酸基等具有氧原子的极性基团；伯氨基、仲氨基、伯酰氨基、仲酰氨基(酰亚胺基)等具有氮原子的极性基团；硫醇基等具有硫原子的极性基团等。这些中，优选具有氧原子的极性基团，更优选为羧基。本专利技术中，对与具有质子性极性基团的环状烯烃树脂结合的质子性极性基团的数并无特别限定，另外，可含有不同种类的质子性极性基团。作为具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)(以下适宜地称为“单体(a)”。)的具体例，可列举出2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羧基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-甲氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-乙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丁氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-戊氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-环己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-苯氧基羰基甲基双环[2.本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种放射线敏感性树脂组合物，含有粘结剂树脂(A)、放射线敏感性化合物(B)、和由下述通式(1)表示的交联剂(C)，相对于所述粘结剂树脂(A)100重量份，所述交联剂(C)的含量为3～25重量份，上述通式(1)中，R1～R3各自独立地为碳原子数为1～10的烃基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.22 JP 2014-0879941.一种放射线敏感性树脂组合物，含有粘结剂树脂(A)、放射线敏感性化合物(B)、和由下述通式(1)表示的交联剂(C)，相对于所述粘结剂树脂(A)100重量份，所述交联剂(C)的含量为3～25重量份，上述通式(1)中，R1～R3各自独立地为碳原子数为1～10的烃基。2.根据权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述通式(1)中，R1～R3为甲基和/或正丁基。3.根据权利要求1或2所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，还含有交联剂(D)，所述交联剂(D)具有三嗪环结构或甘脲结构，并且具有选自羟甲基和烷氧基烷基中的1种以上的官能团。4.根据权利要求3所述的放射线敏感性树脂组合物，其中，所述交联剂(D)为由下述通式(6)表示的具有三聚氰胺结构的化合物和/或由下述通式(7)表示的具有胍胺结构的化合物，上述通式(6)中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：新藤宽明，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP