带有聚焦微结构阵列的分析装置制造方法及图纸

技术编号:2743352 阅读:166 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种包括第一材料(10)和第二材料(20)的装置,其中,将所述第一材料和第二材料彼此相对地设置,从而形成至少一个聚焦微结构,所述聚焦微结构的焦点(30)位于所述第一材料之外。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带有聚焦微结构阵列的分析装置本专利技术涉及用于处理和/或检测样本中的一种或多种分析物的装置的 领域。本专利技术还涉及描绘诸如晶片分档器或晶片扫描仪的光学投影打印机的 特征或评估其质量的领域,以及描绘诸如光致抗蚀剂的感光材料的特征的 领域。本专利技术还涉及IC制造方法,其中,采用特定晶片和测试掩模来优化芯 片制造过程。本专利技术涉及样本中的分析物的处理和检测,尤其涉及溶液中的生物分 子的检测。所述检测通常以这样的方式发生,即,在衬底材料上提供待分 析的流体,其含有针对作为检测对象的分析物的结合物质(binding substance)。在分析物也是DNA链的情况下,这样的俘获探针可以是对应 的DNA链。之后,结合物质俘获流体内通常设有标签,并且优选为光学荧 光标签的分析物(就两个互补DNA链而言,将这一过程称为杂化),并使所 述分析物即使在去除了流体之后仍然保留在那里。之后,可以对所述分析 物进行检测。但是,就光学检测而言,由于样本中的分析物的体积或量非常小,信 噪比变得过低,不足以完成适当的样本分析,因而检测步骤的分辨率会在 一定程度上降低。因此,本专利技术的目的在于提供一种分析装置,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括第一材料(10)和第二材料(20)的装置(1),其中,将所述第一材料和第二材料彼此相对地设置,从而形成至少一个聚焦微结构,所述聚焦微结构的焦点(30)位于所述第一材料之外。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:P迪克森Y阿克塞诺夫FC范登赫费尔JAJM奎登
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]

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