一种LED阵列光源曝光系统技术方案

本实用新型专利技术实施例公开了一种LED阵列光源曝光系统，该LED阵列光源曝光系统包括LED阵列光源，包括多个呈矩阵式排列的单组光源，每个单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片；光束整形镜片组，设置于聚光镜片远离LED芯片的一侧；反射镜，与光束整形镜片组远离LED阵列光源的一侧对应设置；DMD芯片，与反射镜上下对应设置；投影镜片组，与DMD芯片上下对应设置。本实用新型专利技术的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本，延长了设备的使用寿命，通过阵列的摆放方式，在一开始就得到均匀的出光，简化了光束整形镜片组的结构，同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减，减小了曝光机的空间压力。

【技术实现步骤摘要】
一种LED阵列光源曝光系统
本技术涉及一种直写式曝光系统，尤其涉及一种LED阵列光源曝光系统。
技术介绍
目前市场上的曝光机普遍采用紫外激光二极管、汞氙灯作为光源，这两种光源缺点都比较明显，紫外激光二极管成本较高，同时衰减也比较严重；而汞氙灯使用寿命较短，需要经常更换光源，影响生产，维护成本高。
技术实现思路
本技术实施例所要解决的技术问题在于，针对目前市场上的曝光机的光源成本高，使用过程中衰减严重，并且寿命短，维护成本高的问题，提出了一种LED阵列光源曝光系统。为了解决上述技术问题，本技术实施例提供了一种LED阵列光源曝光系统，该LED阵列光源曝光系统包括：LED阵列光源，包括多个呈矩阵式排列的单组光源，每个单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片；光束整形镜片组，设置于聚光镜片远离LED芯片的一侧；反射镜，与光束整形镜片组远离LED阵列光源的一侧对应设置；DMD芯片，与反射镜上下对应设置，光束整形镜片组将从LED阵列光源获取的光斑缩小到DMD芯片的大小，然后通过反射镜反射到DMD芯片上；投影镜片组，与DMD芯片上下对应设置，DMD芯片上的光斑反射到投影镜片组，最终成像到曝光面。其中，单组光源为15-20个，呈横竖矩阵式排列。其中，每两个单组光源之间的间距均为12mm。其中，LED阵列光源与光束整形镜片组一体化设置。其中，光束整形镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第一镜片。其中，投影镜片组包括多个尺寸不同且依次设置的第二镜片。实施本技术实施例，具有如下有益效果：本技术的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本，延长了设备的使用寿命，提高了生产效率，通过阵列的摆放方式，在一开始就得到均匀的出光，简化了光束整形镜片组的结构，同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减，极大的减小了曝光机的空间压力。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术提供的LED阵列光源曝光系统的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供了一种LED阵列光源曝光系统，请参见图1，图1是本技术提供的LED阵列光源曝光系统的结构示意图。该LED阵列光源曝光系统包括：LED(LightEmittingDiode，发光二极管)阵列光源10、单组光源11、LED芯片12、半球镜片13、聚光镜片14、光束整形镜片组20、反射镜30、DMD(DigitalMicromirrorDevice，聚酯薄膜聚酯纤维非织布柔软复合箔)芯片40以及投影镜片组50。LED阵列光源10包括15-20个呈矩阵式排列的单组光源11，在本实施例中，单组光源11为15个，呈3×5的矩阵排列。每个单组光源11包括依次设置的LED芯片12、半球镜片13以及聚光镜片14。每两个单组光源11之间的间距均为12mm。光束整形镜片组20设置于聚光镜片14远离LED芯片12的一侧。LED阵列光源10与光束整形镜片组20一体化设置。光束整形镜片组20包括多个尺寸不同且依次设置的第一镜片。反射镜30与光束整形镜片组20远离LED阵列光源10的一侧对应设置。DMD芯片40与反射镜30上下对应设置，光束整形镜片组20将从LED阵列光源10获取的光斑缩小到DMD芯片40的大小，然后通过反射镜40反射到DMD芯片40上。投影镜片组50与DMD芯片40上下对应设置，DMD芯片40上的光斑反射到投影镜片组50，最终成像到曝光面。投影镜片组50包括多个尺寸不同且依次设置的第二镜片。该LED阵列光源曝光系统通过LED阵列光源10中的半球镜片13和聚光镜片14收集LED芯片12的光，以阵列摆放的方式获得均匀化的光斑，然后通过光束整形镜片组20缩小光斑到DMD芯片40的大小，用反射镜30反射到DMD芯片40上，再由DMD芯片40反射到投影镜片组50，最终成像到曝光面。在不改变以前的曝光投影镜头的基础上，将LED光源与光束整形部分一体化，再结合以前的镜头形成新的曝光光路，替换掉体积大成本高的紫外激光光源，大大缩减了设备的光源成本；使用紫外波长的LED阵列光源，与激光光源相比，在输出光功率相同时，使用LED的成本大幅降低，使用寿命大大增加；通过阵列的摆放方式，在一开始就得到均匀的出光，简化了光束整形镜片组的结构，同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减，极大的减小了曝光机的空间压力。通过阵列的摆放方式，简化了光束整形镜片组的结构，缩减了光学引擎的尺寸，减小了整个曝光机的空间压力，延长了光源寿命，降低了生产和维护成本，同时出光更加均匀稳定，提高了出光质量。实施本技术实施例，具有如下有益效果：本技术的LED阵列光源曝光系统大大缩减了设备的光源成本，延长了设备的使用寿命，通过阵列的摆放方式，在一开始就得到均匀的出光，简化了光束整形镜片组的结构，同时整体光学引擎的尺寸得到大幅缩减，极大的减小了曝光机的空间压力。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种LED阵列光源曝光系统，其特征在于，所述LED阵列光源曝光系统包括：LED阵列光源，包括多个呈矩阵式排列的单组光源，每个所述单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片；光束整形镜片组，设置于所述聚光镜片远离所述LED芯片的一侧；反射镜，与所述光束整形镜片组远离所述LED阵列光源的一侧对应设置；DMD芯片，与所述反射镜上下对应设置，所述光束整形镜片组将从所述LED阵列光源获取的光斑缩小到所述DMD芯片的大小，然后通过所述反射镜反射到所述DMD芯片上；投影镜片组，与所述DMD芯片上下对应设置，所述DMD芯片上的光斑反射到所述投影镜片组，最终成像到曝光面。

【技术特征摘要】
1.一种LED阵列光源曝光系统，其特征在于，所述LED阵列光源曝光系统包括：LED阵列光源，包括多个呈矩阵式排列的单组光源，每个所述单组光源包括依次设置的LED芯片、半球镜片以及聚光镜片；光束整形镜片组，设置于所述聚光镜片远离所述LED芯片的一侧；反射镜，与所述光束整形镜片组远离所述LED阵列光源的一侧对应设置；DMD芯片，与所述反射镜上下对应设置，所述光束整形镜片组将从所述LED阵列光源获取的光斑缩小到所述DMD芯片的大小，然后通过所述反射镜反射到所述DMD芯片上；投影镜片组，与所述DMD芯片上下对应设置，所述DMD芯片上的光斑反射到所述投影镜片组，最...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志国，龚田，李小明，
申请(专利权)人：湖北凯昌光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42