基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质技术方案

本发明专利技术提供一种基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质，提高每个基板的处理均匀性。所涉及的技术具有：对基板进行处理的多个基板处理装置；分别设于多个基板处理装置且控制基板处理装置的第1控制部；从第1控制部接收多种数据的中继部；和从中继部接收数据的第2控制部，中继部按数据的种类和第1控制部中的某一方或双方变更向第2控制部发送数据的发送间隔。

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质
本专利技术涉及基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质。
技术介绍
作为在半导体器件的制造工序中使用的基板处理装置的一个方式，例如具有如下装置，该装置具备具有电抗器的模块(例如参照专利文献1)。在这样的基板处理装置中，将装置运转信息等显示于由显示器等构成的输入输出装置，而能够供装置管理者进行确认。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2017-103356号公报
技术实现思路
本专利技术提供一种用于针对基板处理装置实现高效的管理的技术。根据一个方案，提供一种技术，具有：对基板进行处理的多个基板处理装置；分别设于多个基板处理装置且控制基板处理装置的第1控制部；从第1控制部接收多种数据的中继部；和从中继部接收数据的第2控制部，中继部按数据种类和第1控制部中的某一方或双方变更向第2控制部发送数据的发送间隔。专利技术效果根据本专利技术的技术，能够针对基板处理装置进行高效的管理。附图说明图1是基板处理系统中的网络的概略结本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理系统，其特征在于，构成为具有：/n对基板进行处理的多个基板处理装置；/n分别设于所述多个基板处理装置且控制所述基板处理装置的第1控制部；/n从所述第1控制部接收多种数据的中继部；和/n从所述中继部接收所述数据的第2控制部，/n所述中继部按所述数据的种类和所述第1控制部中的某一方或双方变更向所述第2控制部发送数据的发送间隔。/n

【技术特征摘要】
20190704 JP 2019-1252021.一种基板处理系统，其特征在于，构成为具有：
对基板进行处理的多个基板处理装置；
分别设于所述多个基板处理装置且控制所述基板处理装置的第1控制部；
从所述第1控制部接收多种数据的中继部；和
从所述中继部接收所述数据的第2控制部，
所述中继部按所述数据的种类和所述第1控制部中的某一方或双方变更向所述第2控制部发送数据的发送间隔。


2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述中继部以规定间隔接收所述多种数据，
基于所述第2控制部的负荷级别、和所述中继部与所述第2控制部之间的网络负荷级别中的某一方或双方的级别，按所述数据的种类变更发送间隔后向所述第2控制部发送所述数据。


3.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述中继部按所述数据的种类和所述第1控制部中的某一方或双方，使从所述第1控制部接收的接收间隔与向所述第2控制部发送的发送间隔不同。


4.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，
所述第2控制部的负荷级别和所述网络负荷级别中的某一方或双方的级别由所述中继部和所述第2控制部中的某一方或双方判定。


5.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
所述中继部基于多种所述数据中的、数据的重要度数据，变更所述发送间隔。


6.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述中继部基于所述数据的种类，向所述第2控制部及其他控制部分别发送数据。


7.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述中继部记录所接收的多种所述数据。


8.如权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述中继部在负荷级别成为规定值以内后发送所记录的数据。


9.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述第2控制部具有记录了所述数据的种类和所述第1控制部所发送的数据的发送目的地的表数据，
基于所述表数据，所述第2控制部更新所述第1控制部的发送目的地设定。


10.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述第2控制部具有多个记录了所述数据的种类和所述第1控制部所发送的数据的发送目的地的表数据，基于所述负荷级别，选择所述表数据。


11.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，
构成为，所述第2控制部具有记录了所述数据的种...

【专利技术属性】
技术研发人员：水口靖裕，松井俊，高崎唯史，大桥直史，
申请(专利权)人：株式会社国际电气，
类型：发明
国别省市：日本;JP