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本发明提供一种基板处理系统、半导体器件的制造方法及记录介质，提高每个基板的处理均匀性。所涉及的技术具有：对基板进行处理的多个基板处理装置；分别设于多个基板处理装置且控制基板处理装置的第1控制部；从第1控制部接收多种数据的中继部；和从中继部接...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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