【技术实现步骤摘要】
一种用于镀膜反应的硅片载具
本技术涉及太阳能电池制造领域，尤其涉及太阳能电池制造过程中，用于装载硅片的装载工具。
技术介绍
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，镀膜工艺、扩散工艺、氧化工艺等是现有的一些处理方式。真空炉作为半导体器件工艺设备的重要设备之一，广泛应用于集成电路、电力电子、太阳能电池的生产等行业，在光伏行业，高温真空炉主要用于对单晶硅片、多晶硅片进行掺杂，形成PN结。随着光伏行业的发展，人们一直在追求产能的提升。而在制作工艺过程中，会有许多热处理的工序，如热氧化、化学气相沉积(CVD)、热镀膜、金属合金化、杂质激活、介质膜致密化等。这些热处理工艺对温度非常敏感，尤其是在半导体器件的制备中，温度是影响硅晶成膜均匀性及生长速度的关键参数。等离子增强化学气相沉积系统是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利...
【技术保护点】
1.一种用于镀膜反应的硅片载具，其特征是，包括框架，所述框架内设有镂空部位；所述框架的一侧设有安装部位，所述安装部位用于将硅片载具安装固定，通过安装部位，可以将多个框架串成一列，形成整个硅片载具。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于镀膜反应的硅片载具，其特征是，包括框架，所述框架内设有镂空部位；所述框架的一侧设有安装部位，所述安装部位用于将硅片载具安装固定，通过安装部位，可以将多个框架串成一列，形成整个硅片载具。
2.根据权利要求1所述的一种用于镀膜反应的硅片载具，其特征是，所述框架内设有隔离支架，所述隔离支架将框架内的镂空部位隔离成至少一个镂空区域。
3.根据权利要求1所述的一种用于镀膜反应的硅片载具，其特征是，所述安装...
【专利技术属性】
技术研发人员：庞爱锁，林佳继，刘群，林依婷，
申请(专利权)人：拉普拉斯无锡半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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