一种用于CVD涂层设备的铝反应器制造技术

技术编号:26942646 阅读:34 留言:0更新日期:2021-01-05 20:51
本实用新型专利技术涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体,所述筒体的外侧固定安装有铝反应器固定板,铝反应器的上盖因为需要频繁拆卸添加铝颗粒,采用锁紧卡箍的方式锁紧,既能保证密封性,又能快速拆卸和安装,上盖上安装有吊环和把手,便于搬运整个铝反应器和拆卸移动上盖,上盖法兰处安装有散热片,可以一定程度上降低上盖法兰O型圈沟槽处的温度,延长了上盖法兰O型圈的使用寿命,降低了成本,同时散热片还可起到挡住筒体加热圈的作用,不让筒体加热圈滑落,出气孔板采用螺丝固定的方式固定,方便拆卸进行清洗维护,进气孔板采用卡扣方式固定,位置不会偏移,同时方便拆卸。

【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD涂层设备的铝反应器
本技术涉及金属切削刀具和工模具涂层
,具体为一种用于CVD涂层设备的铝反应器。
技术介绍
CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具、耐磨损、耐腐蚀零件等的表面上成膜的方法,尤其是薄膜形成方法,化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行,所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜,可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能,这通过排气管路来实现,经过涂层的切削刀具、工模具的使用寿命会大大提高,经过涂层的零部件更加耐腐蚀和耐磨损。在常见的技术中铝反应器的测温元件全部分布在反应器的外部,如顶盖和筒壁,上盖法兰处不带散热片,出气孔板采用焊接固定的方式,但是这些方式也是有缺陷的,测温元件分布在反应器的外部,测温点为外部,和内部的实际温度有偏差,上盖用螺丝紧固的方式锁紧,拆卸和安装不方便,同时容易将螺丝滑丝。
技术实现思路
技术方案为实现上述能准确的知晓铝反应器内部的温度,上盖能保证密封性,又能快速拆卸和安装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体(1),其特征在于:所述筒体(1)的外侧固定安装有铝反应器固定板(9),所述筒体(1)的内壁底部焊接安装有测温热电偶支架(4),所述筒体(1)的底部焊接有下封板(14),所述下封板(14)的底部固定安装有下封板加热片压板(7),所述下封板(14)的底部开设有出气口(11),所述筒体(1)的顶部焊接有上盖法兰散热片(8),所述上盖法兰散热片(8)的顶部焊接有上盖法兰(13),所述上盖法兰(13)的顶侧端开设有上盖法兰O型圈沟槽(12),所述上盖法兰(13)与上盖(2)的外侧均活动安装有锁紧卡箍(3),所述筒体(1)的顶部活动安装有上盖(2),所述筒体...

【技术特征摘要】
1.一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体(1),其特征在于:所述筒体(1)的外侧固定安装有铝反应器固定板(9),所述筒体(1)的内壁底部焊接安装有测温热电偶支架(4),所述筒体(1)的底部焊接有下封板(14),所述下封板(14)的底部固定安装有下封板加热片压板(7),所述下封板(14)的底部开设有出气口(11),所述筒体(1)的顶部焊接有上盖法兰散热片(8),所述上盖法兰散热片(8)的顶部焊接有上盖法兰(13),所述上盖法兰(13)的顶侧端开设有上盖法兰O型圈沟槽(12),所述上盖法兰(13)与上盖(2)的外侧均活动安装有锁紧卡箍(3),所述筒体(1)的顶部活动安装有上盖(2),所述筒体(1)的内部分别固定安装有进气孔板(5)、出气孔板(6)与测温热电偶套管(10)。


2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备...

【专利技术属性】
技术研发人员:王彤
申请(专利权)人:常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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