一种CVD炉用分体式进气管制造技术

本技术涉及CVD炉技术领域，且公开了一种CVD炉用分体式进气管，第一固定环套接于进气管主体的外侧，两个第一连接螺栓贯穿于第一固定环的上下两侧，两个第一弧形板分别活动连接于两个第一连接螺栓的一端，第一固定环的一侧安装有第二固定环，第二固定环的上下两侧均活动连接有第二连接螺栓，第二连接螺栓的一端活动连接有第二弧形板；本技术通过正向旋转第一连接螺栓和第二连接螺栓，使得第一连接螺栓和第二连接螺栓分别带动第一弧形板和第二弧形板的一端分别抵触在进气管主体和进气内管的外侧，即可完成进气内管的居中固定，而且能够对不同管径的进气管主体和进气内管进行固定，从而方便进气管的使用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及cvd炉，具体为一种cvd炉用分体式进气管。

技术介绍

1、化学气相沉积(以下简称为cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

2、在授权公告号为cn213203193u的专利中，公开了一种cvd炉用分体式进气管，该通过其内管通过快速真空法兰与进气管主体连接，快速真空法兰采用聚四氟乙烯密封圈密封，采用卡箍固定快速真空法兰及密封圈，此结构在保证进气管气密性的同时，既方便进气管的组装、拆卸，又方便进气管的内管和外管的清洗，提高了进气管的清洗效率，保证了进气管内部的洁净度，提高了产品质量的稳定性，同时进气管主体内部下端通过等距三爪固定圆环固定内管。这种设置方便内管1在进气管主体8内部居中设置。

3、上述中的现有技术方案存在以下缺陷：上述专利中虽然能够通过等距三爪固定圆环固定内管，但是对于不同管径的内管，需要重新更换新的等距三爪固定圆环，导致分体式进气管使用较为不便，为此，提出一种cvd炉用分体式进气管。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种CVD炉用分体式进气管，包括进气管主体(1)，其特征在于：所述进气管主体(1)的内部安装有进气内管(2)，所述进气管主体(1)的外侧设置有进气外管(3)，所述进气管主体(1)的一端设置有居中组件；

2.根据权利要求1所述的一种CVD炉用分体式进气管，其特征在于：所述第一固定环(4)的外侧固定连接有数量为两个的凸块(7)，两个所述凸块(7)的一侧均固定连接有连接杆(8)，所述第二固定环(10)的外侧固定连接有数量为两个的连接块(9)，所述连接块(9)固定连接于连接杆(8)的另一端。

3.根据权利要求1所述的一种CVD炉用分体式进气管，其特征在于：所述第一连接...

【技术特征摘要】

1.一种cvd炉用分体式进气管，包括进气管主体(1)，其特征在于：所述进气管主体(1)的内部安装有进气内管(2)，所述进气管主体(1)的外侧设置有进气外管(3)，所述进气管主体(1)的一端设置有居中组件；

2.根据权利要求1所述的一种cvd炉用分体式进气管，其特征在于：所述第一固定环(4)的外侧固定连接有数量为两个的凸块(7)，两个所述凸块(7)的一侧均固定连接有连接杆(8)，所述第二固定环(10)的外侧固定连接有数量为两个的连接块(9)，所述连接块(9)固定连接于连接杆(8)的另一端。

3.根据权利要求1所述的一种cvd炉用分体式进气管，其特征在于：所述第一连接螺栓(5)与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯磊，
申请(专利权)人：常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：