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本实用新型提供一种用于镀膜反应的硅片载具，包括框架，所述框架内设有镂空部位，所述框架内设有隔离支架，所述隔离支架将框架内的镂空部位隔离成至少两个镂空区域。本实用新型设计了镂空载具，用于装载硅片，使得硅片的上下两个表面均可以露出进行镀膜生产，...
该专利属于拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拉普拉斯(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。

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