玻璃制作方法、玻璃及电子设备技术

本申请实施例提供了一种玻璃制作方法、玻璃及电子设备。该方法包括：提供砂带和玻璃基板；通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03‑0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05‑0.15毫米。使得玻璃基板上形成的目标纹理不易变形，并且具有较好的质感和触感。

【技术实现步骤摘要】
玻璃制作方法、玻璃及电子设备
本申请涉及通信
，具体涉及一种玻璃制作方法、玻璃及电子设备。
技术介绍
玻璃材料具有良好的透视、透光性能等，作为电子设备的外观材料等，应用广泛。目前，在玻璃基板上表面蚀刻或激光镭雕目标纹理，得到具有目标纹理的玻璃，以提供不同于光面的质感和触感。在实现本申请过程中，专利技术人发现相关技术中至少存在如下问题：上述目标纹理容易扭曲变形，使得最终成型的玻璃上的目标纹理质感和触感变差。申请内容本申请实施例提供了一种玻璃制作方法，以解决相关技术中目标纹理容易扭曲变形，使得最终成型的玻璃上的目标纹理质感和触感变差的问题。为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：第一方面，本申请实施例提供了一种玻璃制作方法，所述方法包括：提供砂带和玻璃基板；通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，所述目标纹理包括若干凹槽，每个所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。第二方面，本申请实施例提供了一种玻璃，所述玻璃通过上述第一方面中所述的玻璃制作方法制成，且所述玻璃的至少一个表面具有目标纹理，所述目标纹理包括若干凹槽，所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。第三方面，本申请实施例提供了一种电子设备，所述电子设备包括是上述第二方面中所述的玻璃。在本申请实施例中，通过提供砂带和玻璃基板；通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。使得玻璃基板上形成的目标纹理不易变形，并且具有较好的质感和触感。附图说明图1表示本申请实施例提供的一种玻璃制作方法的流程图；图2表示本申请实施例提供的一种玻璃基板的示意图；图3表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之一；图4表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之二；图5表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之三；图6表示本申请实施例提供的一种玻璃的示意图；图7表示本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图；图8表示本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图；图9表示本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之一；图10表示本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之二；图11本申请实施例提供的一种砂带研磨之后玻璃基板上形成纹理的示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。参照图1，示出了本申请实施例提供的一种玻璃制作方法的流程图。如图1所示，该方法包括：步骤101：提供砂带和玻璃基板。由于砂带的目数不同，砂带上砂子的粗细程度不同，即砂带的目数表示砂带上砂子的粗细程度。在通过砂带研磨玻璃基板时，砂带的目数过大，会对玻璃基板造成损伤，砂带的目数太小，砂带研磨玻璃基板之后，在玻璃基板上形成的纹理不明显，因此，在通过砂带研磨玻璃基板之前，先要选择合适的砂带。其中，在本申请实施例中，砂带可以为1000-2000目的砂带。例如，可以使用1500目的砂带。另外，玻璃基板可以为未进行强化的玻璃基板。由于强化之后的玻璃基板表面存在强化层，使得对玻璃基板进行加工的难度较大，因此，需要选择未进行强化的玻璃基板。步骤102：通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。其中，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。在相关技术中，通过表面蚀刻或者镭雕在玻璃基板上形成纹理，表面蚀刻是通过在玻璃基板的表面放置化学药品，通过化学药品将玻璃基板腐蚀，进行形成纹理。镭雕是通过激光照射在玻璃基板的表面，从而形成纹理。无论表面蚀刻还是镭雕时，均容易对玻璃造成额外损伤，并且纹理的深度和高度不容易控制，形成的纹理容易变形。而在本申请实施例中，在砂带的目数确定之后，砂带上砂子的粒径便确定了，在通过砂带研磨玻璃基板时，砂带上的砂子与玻璃基板的表面接触，并且砂子对玻璃基板的表面研磨。由于砂子的粒径确定，因此，研磨之后形成的凹槽的高度和深度容易控制，并且形成的凹槽的高度范围可以为0.03-1毫米，宽度范围可以为0.05-0.15毫米，使得目标纹理不易变形。需要说明的是，凹槽的高度指的凹槽沿玻璃基板的厚度方向延伸时，凹槽的底部与顶部之间的距离。凹槽的宽度指的是凹槽在玻璃基板的表面上两个侧壁之间的距离。例如，参照图2，示出了本申请实施例提供的一种玻璃基板的示意图，如图2所示，凹槽的高度为A，凹槽的宽度为B。另外，在一些实施例中，步骤102的实现方式可以为：将砂带固定在机械设备的第一转盘的第一表面。将玻璃基板固定在机械设备的第二转盘的第二表面，第一转盘和第二转盘位置相对，第一表面与第二表面相邻。旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。其中，将玻璃基板固定在机械设备的第二转盘的第二表面的固定方式可以为：第二转盘的第二表面可以设置有酚醛塑料形成的保护盒，保护盒的尺寸与玻璃基板的尺寸相同，将玻璃基板放置在保护盒中。由于保护盒可以固定在第二表面，在将玻璃基板放置在保护盒中，可以使得保护盒对玻璃基板起到固定作用，使得玻璃基板固定在第二转盘的第二表面。另外，保护盒还可以对玻璃基板起到保护作用，使得玻璃基板不容易破碎。需要说明的是，酚醛塑料还可以称为电木。另外，在将砂带固定在第一转盘转盘的第一表面，将玻璃基板固定在第二转盘的第二表面时，为了使得砂带研磨玻璃基板时，形成不同方向的纹理，砂带可以沿第一方向固定在第一转盘的第一表面，玻璃基板可以沿第二方向固定在第一转盘的第一表面，其中，第一方向和第二方向之间存在夹角。夹角的范围为0-180度。例如，参照图3，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之一。参照图4，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之二。参照图5，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玻璃制作方法，其特征在于，所述方法包括：/n提供砂带和玻璃基板；/n通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，所述目标纹理包括若干凹槽，每个所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。/n

【技术特征摘要】
1.一种玻璃制作方法，其特征在于，所述方法包括：
提供砂带和玻璃基板；
通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，所述目标纹理包括若干凹槽，每个所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。


2.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，所述通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，包括：
将所述砂带固定在机械设备的第一转盘的第一表面；
将所述玻璃基板固定在所述机械设备的第二转盘的第二表面，所述第一转盘和所述第二转盘位置相对，所述第一表面与所述第二表面相邻；
旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。


3.根据权利要求2所述的玻璃制作方法，其特征在于，所述旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，包括：
调整所述第一转盘与所述第二转盘的间距，以使所述砂带以及所述玻璃基板的厚度之和，与所述间距之间的差值处于差值范围内；
向所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个施加预设压力；
旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。


4.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，在所述旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：冷雪翔，
申请(专利权)人：维沃移动通信重庆有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆;50