【技术实现步骤摘要】
遮挡装置
本专利技术涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种遮挡装置。
技术介绍
目前,在砷化镓(GaAs)薄膜太阳能电池中,背金属(BacksideMetallization,BM)电极膜层结构是由多层金属层构成,其根据需求不同,往往各层金属层的厚度也不同,通常需要通过物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)方式生产制造。在国内外的同类PVD设备中,多采用磁控溅射的方式来实现背金属电极镀膜。PVD设备中,通常采用控制基片走速和溅射速度来控制溅射的金属层的厚度。基片走速降低将会影响设备的产能。因此,在基片走速一定情况下,多采用控制溅射速度达到控制金属层厚度的目的,即,通过控制溅射阴极电源功率调整溅射速率,从而控制金属层的厚度。但是,在实际生产过程中,溅射阴极电源功率不能无限制调低,最低功率应该高于溅射阴极的启辉功率,因此,在遇到某一金属层的厚度需求很薄时,溅射阴极功率无法再调低情况下,只能牺牲设备产能降低基片走速。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存 ...
【技术保护点】
1.一种遮挡装置,其特征在于,包括至少一个弹性遮挡板(11)和调节组件(4),所述弹性遮挡板(11)弹性方向一端固定,所述调节组件(4)与所述弹性遮挡板(11)弹性方向的另一端连接,所述调节组件(4)用于调整弹性遮挡板(11)的弹性状态,使所述弹性遮挡板(11)处于不同程度遮挡靶材(2)的溅射表面。/n
【技术特征摘要】
1.一种遮挡装置,其特征在于,包括至少一个弹性遮挡板(11)和调节组件(4),所述弹性遮挡板(11)弹性方向一端固定,所述调节组件(4)与所述弹性遮挡板(11)弹性方向的另一端连接,所述调节组件(4)用于调整弹性遮挡板(11)的弹性状态,使所述弹性遮挡板(11)处于不同程度遮挡靶材(2)的溅射表面。
2.根据权利要求1所述的遮挡装置,其特征在于,所述遮挡装置还包括两个连接板(5),两个所述连接板(5)相对底板(3)平行设置,两个所述连接板(5)分别包括滑槽(51),所述弹性遮挡板(11)弹性方向的两端设置在所述滑槽(51)内,且弹性方向的一端相对所述两个连接板(5)固定。
3.根据权利要求2所述的遮挡装置,其特征在于,所述弹性遮挡板(11)为波浪形结构,所述弹性遮挡板(11)的弹性方向为波浪延伸方向,所述遮挡装置还包括多个移动连接件(6),每个所述弹性遮挡板(11)中至少一个波峰内设置了贯穿两个连接板(5)的移动连接件(6)。
4.根据权利要求2所述的遮挡装置,其特征在于,所述弹性遮挡板(11)包括两个,两个所述弹性遮挡板(11)为拉伸弹性的遮挡板,两个所述弹性遮挡板(11)远离另一个所述弹性遮挡板(11)的弹性方向相对所述连接板(5)固定。
5.根据权利要求4所述的遮挡装置,其特征在于,所述调节组件(4)包括卷轴(412)和调节绳(43),所述卷轴(412)设置在所述底板(3)上,并能够相对于所述底板(3)转动,所述调节绳(43)绕所述两个...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏艳波,
申请(专利权)人:东泰高科装备科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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