【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射真空镀膜机
本专利技术涉及镀膜设备
,具体为一种磁控溅射真空镀膜机。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类在较高真空下进行镀膜,需要镀膜的被称为基片,镀的材料称为靶材,两者都在真空腔内,磁控溅射镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。现有的真空镀膜机在使用过程中,在申请号201810009708.1的专利中,解决了不同镀膜时间的工件不能够混合镀膜,但其真空腔内工件镀膜完成后,更换下一个工件时,会在取出工件的通道处,向真空腔内进入空气,进入的空气会携带沙子等赃物,从而造成真空腔内的其余工件镀膜后合格率差,且夹板夹持工件滑动到真空腔内,滑动是沿着滑架滑动的,滑架在真空腔内,同样会被镀膜,在长时间镀膜后,滑架表面膜变厚,夹板滑动变困难,同时固定在真空腔内的滑架会导致工人对真空腔清洗困难。
技术实现思路
本专利技术提供了一种磁控溅射真空镀膜机,具备工件镀膜效果好,滑动方便,设备清洗简单的优点,解决了提高工件 ...
【技术保护点】
1.一种磁控溅射真空镀膜机,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的上表面固定安装有箱盖(2),所述箱盖(2)的顶部固定套装有抽真空管(3),所述箱体(1)内腔的顶部固定安装有靶材(4),所述箱体(1)内腔上部的一侧固定安装有电子喷头(5),所述箱体(1)的外表面一体成型有凸管(6),所述凸管(6)的内孔活动套装有滑柱(7),所述滑柱(7)的外端活动安装有推杆(8),所述滑柱(7)内腔表面固定安装有定子(9),所述滑柱(7)的内腔且与定子(9)配合活动套装有转子(10),所述转子(10)的中部固定安装有伸出的转杆(11),所述转杆(11)的中部固定套装有导电套(12), ...
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射真空镀膜机,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的上表面固定安装有箱盖(2),所述箱盖(2)的顶部固定套装有抽真空管(3),所述箱体(1)内腔的顶部固定安装有靶材(4),所述箱体(1)内腔上部的一侧固定安装有电子喷头(5),所述箱体(1)的外表面一体成型有凸管(6),所述凸管(6)的内孔活动套装有滑柱(7),所述滑柱(7)的外端活动安装有推杆(8),所述滑柱(7)内腔表面固定安装有定子(9),所述滑柱(7)的内腔且与定子(9)配合活动套装有转子(10),所述转子(10)的中部固定安装有伸出的转杆(11),所述转杆(11)的中部固定套装有导电套(12),所述滑柱(7)的内表面且与导电套(12)配合固定安装有导线(13),所述凸管(6)的内表面固定安装有导电片(14),所述转杆(11)的一端固定安装有料架(15),所述料架(15)的一端固定安装有密封板(16),所述料架(15)的上表面固定安装有弹簧(17),所述弹簧(17)的一端固定安装有夹板(18),所述箱体(1)的外表面固定安装有抽气管(19),所述抽气管(19)的侧面固定安装有阀门(20),所述阀门(20)的侧面且与凸管(6)连通有连接管(21),所述滑柱(7)的外表面...
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