抗反射光学多层薄膜制造技术

一种抗反射光学多层薄膜，具有五层结构，且由离基板最远的层开始算起为第一层、第二层、第三层、第四层及第五层。此多层薄膜包含材料为ＩＴＯ的第一层、材料为ＳｉＯ↓［２］的第二层、材料为ＮｂＯ的第三层、材料为ＳｉＯ↓［２］的第四层及材料为ＮｂＯ的第五层。本发明专利技术的抗反射光学多层薄膜具有能屏蔽ＥＭＩ的良好的导电性、可用作触摸式感测面板材料的高透明度、符合视觉效果的低反射率、抗刮伤特性及低成本。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于塑料或是玻璃基板的光学多层薄膜，特别是涉及一种最外层为高折射率透明导电膜的高抗反射光学多层薄膜。美国专利US 4,921,790揭示一种多层抗反射膜，具有在CeO2及合成树脂之间有优异的附着力。此多层膜系统包含CeO2，Al2O3，ZrO2，SiO2，TiO2及Ta2O5。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有3到5层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有5层结构，总厚度为3580埃。此薄膜系统的表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,105,310揭示一种多层抗反射膜，可以藉由反应溅镀法而于连续式真空镀膜机械中生产。此多层膜系统包含TiO2，SiO2，ZnO，ZrO2及Ta2O5。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有4到6层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有6层结构，总厚度为4700埃。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,091,244及US 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有透明导电膜为最外层的抗反射光学多层薄膜，此抗反射光学多层薄膜具有五层结构且在一基板上形成，此５层结构包含由远离基板方向算起之第一层、第二层、第三层、第四层及第五层多层结构；其特征在于该第一层位于该第二层上，为具有高折射率的氧化物 ，其实体厚度为１０－６０ｎｍ；该第二层位于该第三层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为１０－７０ｎｍ；该第三层位于该第四层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为３０－１００ｎｍ；该第四层位于该第五层上，为具有低折射率的氧化 物，其实体厚度为１０－７０ｎｍ；该第五层位于该基板上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为１０－６０ｎｍ...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱兆杰，
申请(专利权)人：冠华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]