抗反射光学多层薄膜制造技术

一种抗反射光学多层薄膜，具有五层结构，且由离基板最远的层开始算起为第一层、第二层、第三层、第四层及第五层。此多层薄膜包含材料为ＩＴＯ的第一层、材料为ＳｉＯ↓［２］的第二层、材料为ＮｂＯ的第三层、材料为ＳｉＯ↓［２］的第四层及材料为ＮｂＯ的第五层。本发明专利技术的抗反射光学多层薄膜具有能屏蔽ＥＭＩ的良好的导电性、可用作触摸式感测面板材料的高透明度、符合视觉效果的低反射率、抗刮伤特性及低成本。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于塑料或是玻璃基板的光学多层薄膜，特别是涉及一种最外层为高折射率透明导电膜的高抗反射光学多层薄膜。美国专利US 4,921,790揭示一种多层抗反射膜，具有在CeO2及合成树脂之间有优异的附着力。此多层膜系统包含CeO2，Al2O3，ZrO2，SiO2，TiO2及Ta2O5。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有3到5层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有5层结构，总厚度为3580埃。此薄膜系统的表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,105,310揭示一种多层抗反射膜，可以藉由反应溅镀法而于连续式真空镀膜机械中生产。此多层膜系统包含TiO2，SiO2，ZnO，ZrO2及Ta2O5。在此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物材料，且此多层膜系统具有4到6层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有6层结构，总厚度为4700埃。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,091,244及US 5,407,733揭示一种新型的导电、光衰减及抗反射多层膜。其主要专利范围为提供一种导电、光衰减及抗反射光学多层膜材料与结构。其多层膜系统包含TiN，NbN，SnO2，SiO2，Al2O3，及Nb2O5。此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物或是氮化物材料，且此多层膜系统具有3到4层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有4层结构，总厚度为1610埃，且对于可见光之透光率低于50％。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,147,125揭示一种多层抗反射膜，具有氧化锌以提供波长小于380nm时的抗紫外线效果。此多层膜系统包含TiO2，SiO2，ZnO及MgF2。此多层膜系统的所有薄膜皆为氧化物或是氟化物材料，且此多层膜系统具有4到6层薄膜。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有5层结构，总厚度为7350埃。此薄膜系统之表面层为MgF2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.38。美国专利US 5,170,291揭示一种四层薄膜系统，具有光学作用且有高抗反射效果。此多层膜系统可以用热解法、电浆辅助化学蒸汽沉积法、溅镀方法或是化学沉积方法形成。此多层膜系统包含TiO2，SiO2，Al2O3，ZnS，MgO，及Bi2O3。依据其所列举的一个实例，其多层膜系统具有4层结构，总厚度为2480埃。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,216,542揭示一种五层薄膜系统，具有高抗反射效果。其包含一个厚度约为1nm，材料为Ni，Cr或是NiCr的附着层，另外四层材料可以包含SnO2，ZnO，Ta2O5，NiO，CrO2，TiO2，Sb2O3，In2O3，Al2O3，SiO2，TiN及ZrN。依据其所列举的一个实例，其薄膜系统具有5层结构，总厚度为2327埃，且对于可见光之透光率低于30％。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为55Onm时为1.46。美国专利US 5,541,770揭示一种四或五层薄膜系统，为光衰减及抗反射多层膜，且有一层导电层。此薄膜系统包含一个吸光高折射率金属层，例如Cr，Mo及W，此吸光高折射率金属层作为此薄膜系统中的光学作用薄膜。此薄膜系统之另外三或四层为TiO2，ITO，Al2O3，SiO2及TiN。此多层膜系统的所有薄膜大多为氧化物或是氮化物材料。依据其所列举的一个实例，其薄膜系统具有5层结构，总厚度为1495埃，且对于可见光之透光率低于60％。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材科，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,362,552揭示一种六层薄膜系统，为一抗反射多层膜，且有三层金属氧化物导电层。此薄膜系统包含SiO2，ITO，Nb2O5及Ta2O5。在此薄膜系统中最多可以包含的金属氧化物光学厚度约为一个可见光波长。此六层结构之最厚的两个薄膜为854埃的SiO2及1975埃之ITO。此薄膜系统之表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,579,162揭示一种四层抗反射多层膜，且用于如塑料之类的热敏性基板。此薄膜系统中的一层为DC反应溅镀金属氧化物层，此DC反应溅镀金属氧化物层可以快速沉积且不会带给基板过多热量。此四层结构的最厚的两个薄膜为940埃之SiO2及763埃之SnO2。此薄膜系统的表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。美国专利US 5,728,456及US 5,783,049揭示一种改良方法以在塑料上沉积出抗反射多层膜。此多层簿膜系统使用滚动条式真空镀膜系统(Roller Coater)配合溅镀工艺。此薄膜系统包含ITO，SiO2及一簿润滑层，此薄润滑层为可溶性之氟化物。依据其所列举的一个实例，其薄膜系统具有6层结构，总厚度为2630埃。此薄膜系统的表面层为SiO2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46。在上述各已知专利之中，光学系统的表面薄膜为SiO2或是MgF2，在光学设计上是一种低折射率材料，其折射率在波长为550nm时为1.46或是1.38。传统的大量制造氧化物薄膜的过程具有高可靠性，且广泛用于半导体、光盘读取头、LCD、CRT、建材玻璃、触摸式面板、屏幕护目屏及玻璃镀膜，且己有数十年的历史。传统的抗反射光学多层膜的结构具有一通则。基本原则为此抗反射光学多层膜的表面层为具有低折射率的材料，例如表面薄膜为SiO2或是MgF2，且其折射率分别为1.46或是1.38。然而在把此抗反射光学多层膜应用于显示器工业，例如计算机荧光屏的护目屏、或是平面CRT的低反射玻璃时，由于传统的抗反射光学多层膜表面层为SiO2或是MgF2，因此在大量生产时会遇到障碍。在传统的抗反射光学多层膜的一般设计原理中，镀着在基板表面第一层的薄膜为具有高折射率的薄膜材料(下称H)，接下来的第二层是具有低折射率的薄膜材料(下称L)。因此，传统的抗反射光学多层膜的结构为HLHL或是HLHLHL。举一个较为简单的例子，如果高折射率的材料H为ITO、低折射率之材料L为SiO2，则此四层结构为玻璃/ITO/SiO2/ITO/SiO2。由于ITO具有导电性，因此，此多层系统的电阻系数可以低于1000Ω/□。在此导电层接地时，此导电层可以作为EMI屏蔽层或是静电排除层。然而传统的抗反射光学多层薄膜表面层为SiO2，且其厚度为1000埃。SiO2材料的特性为高密度、化学惰性及电绝缘性，因此，在将此抗反射光学多层薄膜用于显示器时，由于ITO层被SiO2层所包覆住，因此很难与ITO层导通形成接触电极。此抗反射光学多层薄膜需要使用超声波焊接工艺来破坏该SiO2层，使焊锡可以与ITO层有良好的电气接触。在平板CRT或其它显本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有透明导电膜为最外层的抗反射光学多层薄膜，此抗反射光学多层薄膜具有五层结构且在一基板上形成，此５层结构包含由远离基板方向算起之第一层、第二层、第三层、第四层及第五层多层结构；其特征在于该第一层位于该第二层上，为具有高折射率的氧化物 ，其实体厚度为１０－６０ｎｍ；该第二层位于该第三层上，为具有低折射率的氧化物，其实体厚度为１０－７０ｎｍ；该第三层位于该第四层上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为３０－１００ｎｍ；该第四层位于该第五层上，为具有低折射率的氧化 物，其实体厚度为１０－７０ｎｍ；该第五层位于该基板上，为具有高折射率的氧化物，其实体厚度为１０－６０ｎｍ。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱兆杰，
申请(专利权)人：冠华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]