抗反射的萤幕滤镜及其制造方法技术

一种抗反射的萤幕滤镜及其制造方法。第一层镀膜最接近基板，其由溅镀方式镀成在波长５２０奈米时的折射率约在１．８５至２．１的范围内的导电氧化物；第二层镀膜是置于第一层镀膜之上为波长５２０奈米时折射率为１．４５至１．５的氧化物；第三层镀膜置于第二层镀膜之上，且由波长５２０奈米时折射率为１．９至２．２的氧化物所组成；第四层镀膜沉积在最上面，它是由波长５２０奈米时折射率为１．４５至１．５５的湿式氧化硅镀膜制程所制成。具有高导电性、低反射性和低成本的功效。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系有关于一种用于阴极射线管(CRT)玻璃基板的镀膜制造方法，此镀膜包含一光学效果层系统，具有高的抗反射以及低电阻效应。更具体地来说，本专利技术提供一种抗反射的萤幕滤镜及其结合真空溅镀及湿式镀膜的制造方法，其中真空溅镀提供高导电性氧化层，湿式镀膜形成氧化硅表面层。现有技术中，萤幕滤镜常采用蒸镀或溅镀的镀膜方法。美国专利4,921,760号揭示一种在CeO2层和合成树脂间具有良好的附著特性的多层抗反射层镀膜。这个多层膜的系统包括了下列物质CeO2、Al2O3、ZrO2、SiO2、TiO2和Ta2O5，在这个多层系统中的薄膜全都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生，并且其中有三到五层薄膜。举例来说，一个五层结构的总厚度约为3580埃，在这个五层结构中最厚的两层薄膜分别为CeO2(1360埃)以及SiO2(1220埃)。美国专利5,105,310号揭示一种藉由反应溅镀(reactive sputtering)且设计用在线上镀膜机器的多层抗反射镀膜。而这个多层膜结构包含了TiO2、SiO2、ZnO、ZrO2，和Ta2O5，在这多层系统中的薄膜全都是由真空蒸镀或是溅镀过程所产生，并且其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗反射的萤幕滤镜，包含有四层镀膜结构，其特征在于接近基板的第一层镀膜由一折射率在波长５２０奈米时为１．８５至２．１的导电氧化材料所组成，其厚度在２５至５０奈米之间；第二层镀膜位于第一层的上方，由折射率在波长５２０奈米时为１．４５至１．５的氧化物所组成，其厚度在１０至３０奈米之间；第三层镀膜位于第二层镀膜的上方，由折射率在波长５２０奈米时为１．９至２．２抗化学药品的氧化物所组成，此层的厚度在４０至６０奈米之间；第四层镀膜位于第三层镀膜的上方，由折射率在波长５２０奈米时为１．４５至１．５的氧化物所组成，此层的厚度在８５至１００奈米之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱兆杰，李昭松，
申请(专利权)人：冠华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]