【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及形成包含至少一层具有纳米尺寸的微孔的碱处理的二 氧化硅气凝胶涂层的减反射膜的方法，以及包含这种减反射膜的光学 元件，本专利技术特别涉及形成包含至少一层具有低折射率和优良耐划痕 性的碱处理的二氧化硅气凝胶涂层的减反射膜的方法，以及包含这种 减反射膜的光学元件。
技术介绍
传统通过如真空汽相沉积、喷镀、离子电镀等物理汽相沉积法形 成减反射膜。单层减反射膜应具有比基材更小的折射率，但即使是通过物理汽相沉积法形成的最小折射率MgF2层具有为1.38的相对较大 的折射率，也不能具有理想用于折射率为约1.5的透镜的1.2-1.25的折 射率。折射率为1.2-1.25的减反射膜在波长为400-700纳米的可见光区 域内显示1%以下的反射率，而折射率为1.38的MgF2的减反射膜具有 1%以上，而2%以下的反射率。最近使用如溶胶-凝胶法的液相法形成减反射膜。不同于物理汽相 沉积法，液相法无需大型设备，且不用将基材暴露于高温而能够形成 减反射膜。由液相法得到的减反射膜具有与由物理汽相沉积法得到的 减反射膜同一水平的接近1.37的最小折射率，且它们的减反射特性未 显著...
【技术保护点】
一种在基材上形成碱处理的二氧化硅气凝胶的减反射膜的方法，该方法包含如下步骤：在溶剂中在碱催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶，将酸催化剂加入所述碱性溶胶以进行进一步的水解和聚合从而制备第一酸性溶胶，在溶剂中在酸催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备第二酸性溶胶，混合所述第一和第二酸性溶胶，将所得混合溶胶施用至所述基材，将其干燥，并用碱处理所得二氧化硅气凝胶涂层。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：铃木峰太，塩川孝绅，山田和广，中山宽之，山口日出树，丸田彩子，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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