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减反射膜的形成方法及光学元件技术
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文档序号:3889738
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本发明涉及一种在基材上形成碱处理的二氧化硅气凝胶的减反射膜的方法,该方法包含如下步骤:在碱催化剂的存在下水解和聚合烷氧基硅烷以制备碱性溶胶,将酸催化剂加入所述碱性溶胶以进行进一步的水解和聚合从而制备第一酸性溶胶,在酸催化剂的存在下水解和聚合...
该专利属于HOYA株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过HOYA株式会社授权不得商用。
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