一种MMB4 DMS纳米混悬液及其制备方法和其应用技术

技术编号:26774841 阅读:20 留言:0更新日期:2020-12-22 16:45
本发明专利技术提供了一种MMB4 DMS纳米混悬液及其制备方法和其应用。本发明专利技术所述的纳米混悬液由1.0%‑25.0%(w/w)的MMB4 DMS和分散介质组成,其中,所述混悬液的黏度为200‑650mPa.s,混悬液纳米晶颗粒的多分散系数(PDI)为0.1‑0.7,分散介质为油。本发明专利技术制剂黏度适宜,既不会黏度过大造成研磨困难,又不会黏度过小,造成沉降。本发明专利技术MMB4 DMS纳米混悬液制备工艺稳定、适宜工业化生产,且该工艺所得纳米混悬液无颗粒聚集、分层现象,稳定性好。

【技术实现步骤摘要】
一种MMB4DMS纳米混悬液及其制备方法和其应用
本专利技术属于医药
,具体涉及一种MMB4DMS纳米混悬液及其制备方法和其应用。
技术介绍
1995年3月发生在日本东京地铁沙林中毒事件,造成13人死亡及约6300人受伤,成为日本继二战结束后最严重的恐怖袭击事件。神经性毒剂是一类剧毒、高效、速杀性、无刺激性、仅有微弱臭味的致死剂。有机磷或有机磷酸酯化合物强烈抑制脑、膈肌和血液中的乙酰胆碱酯酶活性,导致中枢和外周胆碱能神经系统功能严重紊乱,并通过皮肤、粘膜、胃肠道及肺等途径吸收引起全身中毒,并具有毒性强、作用快等特点。人体接触后的主要中毒症状包括瞳孔缩小、流涎、恶心、呕吐、肌颤、痉挛、神经麻痹、大小便失禁、死亡等。MMB4DMS(1,1’-亚甲基-4-肟甲基吡啶二甲磺酸盐,结构见式I)为双吡啶双肟类广谱高效的解毒剂,在体内迅速恢复乙酰胆碱的活性,主要用于神经毒的中毒急救,且其解毒效果比上市的肟类复能剂具有更高的保护比率,显著减轻神经毒剂所致的神经系统不良反应并显著降低神经毒剂所致的中毒致死率。MMB4DMS已在捷克共和国使用,且在美国军队中用作2-PAM的替代品。MMB4DMS易溶于水,但在水、氧化、强酸、强碱条件下不稳定,易发生降解而产生降解物质,且其制备中引入的起始原料、中间体、副反应产物等,均成为影响药品质量的有关物质,故需对其加以控制,以保障药品质量和用药安全性,实现药品质量可控。因此,如何高效分离并检测MMB4及其制剂中的有关物质,以保障药品质量并实现药品质量可控成为本领域亟需解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种MMB4DMS纳米混悬液,所述的混悬液由1.0%-25.0%(w/w)的MMB4DMS和分散介质组成,其中,所述混悬液的黏度为200-650mPa.s,混悬液纳米晶颗粒的多分散系数(PDI)为0.1-0.7,分散介质为油。本专利技术的优选技术方案中,所述混悬液的黏度为250-600mPa.s,优选为300-500mPa.s。本专利技术的优选技术方案中,所述混悬液纳米晶颗粒的多分散系数为0.1-0.6,优选为0.2-0.5。本专利技术的优选技术方案中,所述的油选自大豆油、玉米油、茶油、棉籽油的任一种或其组合。本专利技术的优选技术方案中,所述MMB4DMS纳米晶的粒径≤600nm,优选为100nm-500nm,更优选为150nm-400nm。本专利技术的优选技术方案中,所述纳米混悬液中含有5.0%-15.0%(w/w)的MMB4DMS,优选为8.0%-12.0%。本专利技术的优选技术方案中,将所需量的MMB4DMS与分散介质均匀混合后,经超声均质、湿法研磨或高压均质的任一处理或其组合处理,即得。本专利技术的优选技术方案中,所述超声均质功率为50W-300W,优选为100-250W。本专利技术的优选技术方案中,所述超声频率为5000-25000rpm,优选为8000-20000rpm,更优选为10000-15000rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的初始研磨速度为800-2000rpm,优选为1000-1800rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度增加幅度为100-1000rpm/5min,优选为300-800rpm/5min,更优选为500-700rpm/5min。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度为1500-4500rpm,优选为1800-4000rpm,更优选为2000-3500rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的初始研磨速度为3-8m/s,优选为5-7m/s。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度增加幅度为0.5-2m/s/5min,优选为0.6-1.5m/s/5min,更优选为0.8-1.2m/s/5min。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度为8-15m/s,优选为9-13m/s,更优选为10-12m/s。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨温度为25-32℃,优选为28-30℃。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨时间为20min-72h,优选为40min-8h,更优选为1h-5h。本专利技术的目的在于提供一种MMB4DMS纳米混悬液的制备方法,所述的混悬液由1.0%-25.0%(w/w)的MMB4DMS和分散介质组成,其中,所述混悬液的黏度为200-650mPa.s,分散介质为油,所述方法包括下述步骤,将所需量的MMB4DMS与分散介质均匀混合后,经超声均质、湿法研磨或高压均质的任一处理或其组合处理,即得。本专利技术的优选技术方案中,超声均质功率为50W-300W,优选为100-250W。本专利技术的优选技术方案中,超声频率为5000-25000rpm,优选为8000-20000rpm,更优选为10000-15000rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的初始研磨速度为800-2000rpm,优选为1000-1800rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度增加幅度为100-1000rpm/5min,优选为300-800rpm/5min,更优选为500-700rpm/5min。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度为1500-4500rpm,优选为1800-4000rpm,更优选为2000-3500rpm。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的初始研磨速度为3-8m/s,优选为5-7m/s。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度增加幅度为0.5-2m/s/5min,优选为0.6-1.5m/s/5min,更优选为0.8-1.2m/s/5min。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨速度为8-15m/s,优选为9-13m/s,更优选为10-12m/s。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨温度为25-32℃,优选为28-30℃。本专利技术的优选技术方案中,湿法研磨中的研磨时间为20min-72h,优选为40min-8h,更优选为1h-5h。本专利技术的优选技术方案中,所述混悬液的黏度为250-600mPa.s,优选为300-500mPa.s。本专利技术的优选技术方案中,所述混悬液纳米晶颗粒的多分散系数为0.1-0.6,优选为0.2-0.5。本专利技术的优选技术方案中,所述的油选自大豆油、玉米油、茶油、棉籽油的任一种或其组合。本专利技术的优选技术方案中,所述MMB4DMS纳米晶的粒径≤600nm,优选为100nm-500nm,更优选为150nm-400nm。本专利技术的优选技术方案中,所述纳米混悬液中含有5.0%-15.0%(w/w)的MMB4DMS,优选为8.0%-12.0%。本专利技术的目的在于提供一种高效分离并检测MMB4和/或其衍生物及其有关物质的高效液相色谱法,所述方法使用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂,所述流动相由A相和B相组成,其中,A相为pH1.0-5.0的水溶液,本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种MMB4 DMS纳米混悬液,其特征在于,所述的混悬液由1.0%-25.0%(w/w)的MMB4DMS和分散介质组成,其中,所述混悬液的黏度为200-650mPa.s,混悬液纳米晶颗粒的多分散系数(PDI)为0.1-0.7,分散介质为油。/n

【技术特征摘要】
1.一种MMB4DMS纳米混悬液,其特征在于,所述的混悬液由1.0%-25.0%(w/w)的MMB4DMS和分散介质组成,其中,所述混悬液的黏度为200-650mPa.s,混悬液纳米晶颗粒的多分散系数(PDI)为0.1-0.7,分散介质为油。


2.根据权利要求1所述的纳米混悬液,其特征在于,所述混悬液的黏度为250-600mPa.s,优选为300-500mPa.s。


3.根据权利要求1-2任一项所述的纳米混悬液,其特征在于,所述混悬液纳米晶颗粒的多分散系数为0.1-0.6,优选为0.2-0.5。


4.根据权利要求1-3任一项所述的纳米混悬液,其特征在于,所述的油选自大豆油、玉米油、茶油、棉籽油的任一种或其组合。


5.根据权利要求1-4任一项所述的纳米混悬液,其特征在于,所述MMB4DMS纳米晶的粒径≤600nm,优选为100nm-500nm,更优选为150nm-400nm。


6.一种MMB4DMS纳米混悬液的制备方法,其特征在于,所述的混悬液由1.0%-25.0%(w...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑爱萍张洵李蒙张慧高静刘楠王增明高翔
申请(专利权)人:中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
类型:发明
国别省市:北京;11

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