高反射镜膜系制造技术

高反射镜膜系，包括基体，其特征在于有沉积在基体上的Ａｌ层，沉积在Ａｌ层上的ＳｉＯ↓［２］层，沉积在ＳｉＯ↓［２］层上的ＴｉＯ↓［２］层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术与反射镜有关，特别与高反射镜膜系有关。
技术介绍
申请号00130782的专利公开了一种反射镜，在抛光的玻璃基体上依次沉积Al、MgF2、TiO2层来形成反射膜。众所周知，氟化美(MgF2)的靶材制作十分困难，成本很高，同时因氟化美(MgF2)为绝缘材料，只能采用射频溅射工艺方法沉积，由于射频电源的功率不可能大(目前最大限度为10KW)，且对人体危害较大，元器件匹配也很难，因此射频溅射沉积速度低，生产效率低，成本高，不能实现大规模生产。
技术实现思路
鉴于上述情况，本专利技术的目的是为了克服以上不足，提供一种沉积速度快、易于实现大规模生产、降低生产成本的高反射镜膜系。本专利技术的目的是这样来实现的本专利技术高反射镜膜系，包括基体，其特征是有沉积在基体上的Al层，沉积在Al层上的SiO2层，沉积在SiO2层上的TiO2层。上述的基体是玻璃或塑料。上述的Al层的厚度为40～120nm。上述的SiO2层、TiO2层的厚度为λ/4，其中的λ为设计主波长。本专利技术反射膜系沉积速度快、能采用中频电源以磁控溅射方式和等离子体发射谱强度监测器闭环平衡控制装置(PEM)控制在基体上依次沉积有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：甘国工，
申请(专利权)人：甘国工，
类型：发明
国别省市：