曝光装置用反射镜单元包括：对来自光源(61)的曝光的光进行反射的平面镜(68)；分别安装在平面镜(68)的背面并支承平面镜(68)的多个支承部件(73)；以及分别驱动多个支承部件(73)的多个驱动器(74)。在曝光装置用反射镜单元中，还设置有保持板(82)，该保持板(82)安装于多个支承部件(73)，对在该多个支承部件(73)的中间位置安装在平面镜(68)的背面的中间衬垫(72a)进行保持。由此，即使在为了能够使反射镜弯曲而采用了较薄的反射镜的情况下，也能够抑制反射镜的自重挠曲的影响，能够确保光源的性能。
Reflector unit for exposure device and exposure device
Exposure device for mirror unit includes: from the light source (61) plane mirror reflection exposure light (68); were installed in the back of the plane mirror (68) and (68) the plane mirror supporting a plurality of support members (73); and respectively drive a plurality of support members (73). A driver (74). In the exposure apparatus for mirror unit, is provided with a holding plate (82), the holding plate (82) arranged in a plurality of support members (73), of the plurality of support member (73) is installed on the middle position in the plane mirror (68) on the back of the intermediate liner (72A) to keep. As a result, the performance of the light source can be ensured even if the thin mirror is used in order to make the mirror bend and the influence of the self weight deflection of the reflector can be ensured.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置用反射镜单元及曝光装置
本专利技术涉及曝光装置用反射镜单元及曝光装置，更详细而言，涉及用于半导体用、平板显示器用的曝光装置；以及能够控制反射镜的挠曲的曝光装置用反射镜单元及曝光装置。
技术介绍
以往，专利技术了如下方案：在工件扭曲的情况下，为了能够根据工件的被曝光区域将掩模的图案精度良好地曝光转印，利用多个支承部件来支承平面镜的背面，并利用驱动装置来驱动支承部件，从而使平面镜弯曲(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2011－028122号公报
技术实现思路
本专利技术欲解决的技术问题不过，在使平面镜弯曲时，为了增大弯曲量，需要减薄平面镜。但是，当减薄平面镜时，自重挠曲的影响变大，难以确保光源的性能。另外，在专利文献1中，能够通过增加支承部件的数量来进行对应，但是，存在成本升高并且重量增加这种问题。本专利技术是鉴于上述的问题而完成的，其目的在于提供一种曝光装置用反射镜单元，即使在为了能够使反射镜能够弯曲而采用了较薄的反射镜的情况下，也能够抑制反射镜的自重挠曲的影响而确保光源的性能。用于解决问题的技术方案本专利技术的上述目的由下述的构成来达成。(1)一种曝光装置用反射镜单元，包括：反射镜，其反射来自光源的曝光的光；多个支承部件，其分别安装在该反射镜的背面，支承所述反射镜；以及多个驱动装置，其分别驱动所述多个支承部件，所述曝光装置用反射镜单元通过利用所述各驱动装置驱动所述各支承部件，从而使所述反射镜的反射面变形，其特征在于，所述曝光装置用反射镜单元设置有保持部件，所述保持部件安装于至少两个所述支承部件，对在该至少两个支承部件的中间位置安装在所述反射镜的背面的中间衬垫进行保持。(2)如(1)所述的曝光装置用反射镜单元，其特征在于，所述保持部件是安装于所述多个支承部件的单一的保持板，所述保持板与被该保持板保持的所述中间衬垫的距离构成为能够调整。(3)技术方案2所述的曝光装置用反射镜单元，其特征在于，所述保持板在将所述支承部件和所述中间衬垫连接的连接部分以外的部分具有减薄部。(4)如(2)或(3)所述的曝光装置用反射镜单元，其特征在于，所述多个支承部件构成为分别包括球面接头(balljoint)，所述保持板在比球面接头(balljoint)靠所述反射镜侧安装于所述多个支承部件。(5)一种曝光装置，其特征在于，包括：支承工件的工件支承部；支承掩模的掩模支承部；以及照明光学系统，所述照明光学系统包括对来自光源的曝光的光进行反射的(1)～(4)的任一项所述的反射镜单元，将所述来自光源的曝光的光隔着所述掩模照射到所述工件而将所述掩模的图案转印到所述工件。专利技术效果根据本专利技术的曝光装置用反射镜单元，设置有保持部件，该保持部件安装于至少两个支承部件，对在该至少两个支承部件的中间位置安装在反射镜的背面的中间衬垫进行保持，因此，即使在为了能够使反射镜弯曲而采用了较薄的反射镜的情况下，能够抑制反射镜的自重挠曲的影响，能够确保光源的性能。附图说明图1是本专利技术的曝光装置的主视图。图2是示出曝光装置的照明光学系统及曲率校正量检测系统的图。图3(a)是示出照明光学系统的曝光装置用反射镜单元的俯视图，(b)是沿着(a)的III－III线的剖视图，(c)是沿着(a)的III′－III′线的剖视图。图4是示出图3的曝光装置用反射镜单元的主要部分放大图。图5(a)是示出照明光学系统的曝光装置用反射镜单元的变形例的俯视图，(b)是沿着(a)的V－V线的剖视图，(c)是沿着(a)的V′－V′线的剖视图。图6是示出照明光学系统的曝光装置用反射镜单元的其他变形例的剖视图。图7(a)、(b)是示出照明光学系统的曝光装置用反射镜单元的又一其他变形例的剖视图。附图标记说明1掩模台(掩模支承部)2工作台(工件支承部)3照明光学系统61高压水银灯(光源)68平面镜(反射镜)72衬垫72a中间衬垫73支承部件74驱动器(驱动装置)76球面接头(balljoint)82保持板82b减薄部85高度调整机构M掩模PE接近曝光装置W工件具体实施方式以下，基于附图详细说明本专利技术的曝光装置的一个实施方式。图1是示出本专利技术的曝光装置的图。如图1所示，接近曝光装置PE使用比作为被曝光件的工件W小的掩模M，用掩模台1保持掩模M，并且，用工作台(工件支承部)2保持工件W，使掩模M与工件W接近并以预定的曝光间隙对置配置，在该状态下，从照明光学系统3朝向掩模M照射图案曝光用的光，从而将掩模M的图案曝光转印到工件W上。另外，使工作台2相对于掩模M在X轴方向和Y轴方向这两个轴向步进移动，在每步进行曝光转印。为了使工作台2在X轴方向步进移动，在装置底座4上，设置有使X轴输送台5a在X轴方向步进移动的X轴台输送机构5。在X轴台输送机构5的X轴输送台5a上，为了使工作台2在Y轴方向步进移动，设置有使Y轴输送台6a在Y轴方向步进移动的Y轴台输送机构6。在Y轴台输送机构6的Y轴输送台6a上，设置有工作台2。在工作台2的上表面，工件W在被工件卡盘等真空吸引的状态下被保持。另外，在工作台2的侧部，配置有用于测量掩模M的下表面高度的基板侧变位传感器15。因此，基板侧变位传感器15能够与工作台2一起在X、Y轴方向移动。在装置底座4上，在X轴方向配置有多条(在图所示的实施方式在为4条)X轴直线导轨的导轨51，在各个导轨51上，架设有被固定在X轴输送台5a的下表面的滑块52。由此，X轴输送台5a由X轴台输送机构5的第1直线马达20驱动，能够沿着导轨51在X轴方向往复移动。另外，在X轴输送台5a上，在Y轴方向配置有多个Y轴直线导轨的导轨53，在各个导轨53上架设有被固定在Y轴输送台6a的下表面的滑块54。由此，Y轴输送台6a由Y轴台输送机构6的第2直线马达21驱动，能够沿着导轨53在Y轴方向往复移动。在Y轴台输送机构6与工作台2之间，为了使工作台2在上下方向移动，设置有：上下粗动装置7，其比较而言定位分辨率较低但移动行程及移动速度较大；以及上下微动装置8，其与上下粗动装置7相比能够进行高分辨率的定位，使工作台2在上下微动以将掩模M与工件W的对置面间的间隙微调整为预定量。上下粗动装置7利用设置于下述的微动台6b的适当的驱动机构来使工作台2相对于微动台6b上下移动。在工作台2的底面的4个部位固定的台粗动轴14与固定于微动台6b的直动轴承14a卡合，被相对于微动台6b在上下方向引导。此外，上下粗动装置7优选即使分辨率较低，重复定位精度也较高。上下微动装置8包括：固定台9，其被固定于Y轴输送台6a；以及直线导轨的引导轨道10，其以其内端侧向斜下方倾斜的状态安装于固定台9，在经由架设于该引导轨道10的滑块11沿着引导轨道10往复移动的滑动体12上，连结有滚珠丝杠的螺母(未图示)，并且，滑动体12的上端面相对于固定于微动台6b的凸缘12a在水平方向滑动自如地接触。而且，当利用安装于固定台9的马达17将滚珠丝杠的螺纹轴旋转驱动时，螺母、滑块11及滑动体12成为一体地沿着引导轨道10在倾斜方向移动，由此，凸缘12a上下微动。此外，上下微动装置8也可以不利用马达17和滚珠丝杠来驱动滑动体12，作为代替，利用直线马达来驱动滑动体12。该上下微动装置8在Z轴输送台6a的Y轴方向的一端侧(图1的左端侧)设置有1台，在本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置用反射镜单元，包括：反射镜，其反射来自光源的曝光的光；多个支承部件，其分别安装在该反射镜的背面，支承所述反射镜；以及多个驱动装置，其分别驱动所述多个支承部件，所述曝光装置用反射镜单元通过利用各所述驱动装置驱动各所述支承部件，从而使所述反射镜的反射面变形，其特征在于，所述曝光装置用反射镜单元设置有保持部件，所述保持部件安装于至少两个所述支承部件，对在该至少两个支承部件的中间位置安装在所述反射镜的背面的中间衬垫进行保持。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.04.17 JP 2014-0857701.一种曝光装置用反射镜单元，包括：反射镜，其反射来自光源的曝光的光；多个支承部件，其分别安装在该反射镜的背面，支承所述反射镜；以及多个驱动装置，其分别驱动所述多个支承部件，所述曝光装置用反射镜单元通过利用各所述驱动装置驱动各所述支承部件，从而使所述反射镜的反射面变形，其特征在于，所述曝光装置用反射镜单元设置有保持部件，所述保持部件安装于至少两个所述支承部件，对在该至少两个支承部件的中间位置安装在所述反射镜的背面的中间衬垫进行保持。2.如权利要求1所述的曝光装置用反射镜单元，其特征在于，所述保持部件是安装于所述多个支承部件的单...
【专利技术属性】
技术研发人员：林慎一郎，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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