A hybrid lithography system, which comprises a light source, a beam shaper, optical modulator, reflector, optical imaging system and phase device, beam shaping device for beam shaping of light emitted from the light modulator for field; after shaping the beam generated graphics light; optical imaging system and a reflector for light field lithography to be transferred the exposure of the surface to achieve direct writing; phase device for forming interference exposure field on the surface of the interferometric lithography lithography. Hybrid lithography system of the invention has direct write lithography and interference two functions can be mixed lithography, lithography, nano lithography improves efficiency, promoting the importance of micro nano structure materials and related device application. The invention also relates to a hybrid lithography method.
【技术实现步骤摘要】
混合光刻系统及混合光刻方法
本专利技术涉及微纳制造
,涉及一种用于微纳模具制备的图形化混合光刻系统及混合光刻方法。
技术介绍
图形化光刻是微纳米制造领域的通用前端制程,目前在平板显示、集成电路、柔性电路、新材料等行业有着广泛的应用。面向各个不同的应用领域,微纳米结构的制备需求各不相同,幅面从4英寸到100英寸,微结构从10纳米到数十微米。当前的技术现状是,纳米至亚微米尺度的结构采用电子束制版,幅面无法做大,几微米至数十微米尺度的结构采用激光束制版,幅面可以做大,但是不能实现亚微米以下结构的大幅面制版要求。当前微纳米应用领域正从半导体、平板显示向超材料(人工微结构材料)领域延伸,需要亚微米以下结构大幅面制版,当前图形化制备手段无法满足此类需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供了一种混合光刻系统,具有直写光刻和干涉光刻两种功能,可进行混合光刻,提高了光刻效率,降低了光刻成本。本专利技术解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。一种混合光刻系统,包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜和位相器件,光束整形器用于整形光源发出的光线;光场调制器用于显示光刻图像,将整形后的光线经过光场调制器生成图形光;反射镜用于将图形光反射至待曝光的光刻件表面实现直写光刻;位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。在本专利技术的较佳实施例中,位相器件可移除的设置于反射镜与光刻件之间,实现直写光刻和干涉光刻的切换。在本专利技术的较佳实施例中,上述混合光刻系统还包括计算机和控制器,计算机用于提供光刻图像和位移数据,并将光刻图像和位移数据发送至控制器,所述控制器用 ...
【技术保护点】
一种混合光刻系统,其特征在于,包括:光源(11);光束整形器(12),该光束整形器(12)用于整形该光源(11)发出的光线;光场调制器(13),该光场调制器(13)用于显示光刻图像,将整形后的光线经过光场调制器(13)生成图形光;反射镜(14),该反射镜(14)用于将图形光反射至待曝光的光刻件(101)表面实现直写光刻;以及位相器件(15),该位相器件(15)用于在光刻件(101)的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。
【技术特征摘要】
1.一种混合光刻系统,其特征在于,包括:光源(11);光束整形器(12),该光束整形器(12)用于整形该光源(11)发出的光线;光场调制器(13),该光场调制器(13)用于显示光刻图像,将整形后的光线经过光场调制器(13)生成图形光;反射镜(14),该反射镜(14)用于将图形光反射至待曝光的光刻件(101)表面实现直写光刻;以及位相器件(15),该位相器件(15)用于在光刻件(101)的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。2.如权利要求1所述的混合光刻系统,其特征在于,该位相器件(15)可移除的设置于该反射镜(14)与光刻件(101)之间,实现直写光刻和干涉光刻的切换。3.如权利要求2所述的混合光刻系统,其特征在于,该混合光刻系统还包括计算机(16)和控制器(18),该计算机(16)用于提供光刻图像和位移数据,并将光刻图像和位移数据发送至该控制器(18),所述控制器(18)用于上传光刻图像至该光场调制器(13),通过位移数据控制载物台的运动。4.如权利要求3所述的混合光刻系统,其特征在于,该混合光刻系统还包括载物台(17),该载物台(17)用于承载光刻件(101),该载物台(17)可在水平面内移动,通过该控制器(18)读取位移数据,实现光刻光斑与光刻件(101)的相对运动。5.如权利要求3所述的混合光刻系统,其特征在于,该混合光刻系统还包括光电探测器(19),该光电探测器(19)用于采集光刻件(101)表面反射的光线,并将产生的形貌数据发送至该控制器(18),该控制器(18)根据形貌数据调节该位相器件(15)与光刻件(101)之间的距离,从而实现在光刻件(101)表...
【专利技术属性】
技术研发人员:浦东林,陈林森,朱鹏飞,张瑾,朱鸣,魏国军,
申请(专利权)人:苏州苏大维格光电科技股份有限公司,苏州大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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