Ⅳ型凹面全息光栅的制作方法技术

Ⅳ型凹面全息光栅的制作工艺流程，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅的制作工艺流程。本发明专利技术要解决的技术问题是提供一种Ⅳ型凹面全息光栅的制作工艺流程，解决技术问题的技术方案包括：基底处理、涂胶、前烘、全息曝光、显影、后烘、热熔、离子束刻蚀、清洁处理、镀膜。该Ⅳ型凹面全息光栅制作工艺流程是新颖的、低成本的、易于实现的，特别是使用光刻胶热熔法代替了传统的反应离子刻蚀，大大地节约了成本、缩短了制作周期，该种光栅在光学系统中的应用能够减少系统的零部件，可消除光学系统的象散和彗差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光谱
中涉及的一种iv型凹面全息光栅的制作工艺 流程。二
技术介绍
在真空紫外、特别是软X射线波段，所有物质对光辐射都有强烈的吸 收，而传统的平面光栅光谱仪由于引入了准直镜和聚光镜，所以存在由准 直镜和聚光镜造成的附加损失，这对于提高整个光谱仪系统的集光效率是 不理想的。而凹面光栅则较为优越，由于凹面光栅具有自聚焦特性，在成 像时不需要准直光学系统和聚焦光学系统即能形成谱线。按照像差校正的 种类和程度的不同，凹面全息光栅已从I型发展到iv型采用两束平行光作光源，在平面或凹面光栅基坯上记录两平面波前的 干涉条纹，可以得到与平面或凹面等栅距刻划光栅相当的全息光栅。这种 凹面全息光栅称为i型凹面全息光栅，和刻划凹面等栅距光栅一样，具有 较大的残余象差。制作ii型凹面全息光栅可用两相干球面波来记录，两球面波中心即记录点都在罗兰圆上，n型凹面全息光栅通常被用作制造罗兰圆摄谱仪。ni型凹面全息光栅通常也被称作平像场光栅，用于制作平像场光谱仪， 此类光谱仪所成的像在一个平面上，这样有利于使用ccd阵列接收。在设计拍摄iv型凹面全息光栅的光路时，要考虑到使用它的单色仪的 结构参本文档来自技高网...

【技术保护点】
Ⅳ型凹面全息光栅的制作工艺流程，其特征在于：包括基底处理（１）、涂胶（２）、前烘（３）、全息曝光（４）、显影（５）、后烘（６）、热熔（７）、离子束刻蚀（８）、清洁处理（９）、镀膜（１０）；详细内容如下，基底处理（１）：光栅基底应采用无气泡、无划痕、抛光好的凹面Ｋ９光学玻璃，用碳酸钙清洗凹面Ｋ９玻璃基底；涂胶（２）：在清洗好的光栅基底上涂敷光刻胶，采用旋转法涂胶，即将光刻胶滴在光栅基底上，通过离心旋转获得均匀一致的光刻胶薄膜；光刻胶采用Ｓｈｉｐｌｙ１８０５正性光刻胶，涂胶时的旋转速度控制在１７００～５０００转／分为好，其甩胶时间不少于３０秒，涂敷厚度为３００～７００ｎｍ；前烘（３）：将涂敷完光刻...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李文昊，齐向东，巴音贺希格，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]