衍射光学元件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种可高精度地制造衍射光学元件、可实现衍射效率提高的衍射光学元件的制造方法。使用掩模来反复进行使涂布有抗蚀剂（２）的基板（１）曝光、显影、形成抗蚀剂图形并对该抗蚀剂图形进行蚀刻的一系列的处理，制造具有周期性的阶梯形状的衍射光学元件。在第１处理中，形成与阶梯宽度相同宽度的图形，在以后的处理中，增大图形宽度。在制造７级阶梯形状的衍射光学元件的情况下，当设阶梯的级差为Ｄ时，在第１处理中，以深度Ｄ对第２、４、６级部分进行蚀刻，在第２处理中，以深度２Ｄ对第９级部分进行蚀刻，在第３处理中，以深度２Ｄ对第５、６、７级部分进行蚀刻，在第４处理中，以深度２Ｄ对第３、４、５、６、７级部分进行蚀刻。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有阶梯形状的。
技术介绍
近年来，根据周期性的细微形状控制光的行进方向和相位的衍射光 学元件的需求在增加。衍射光学元件的形状有多种，其中，断面是锯齿 形状的衍射光学元件，其逻辑衍射效果高，而实际上，近似该锯齿形状 的阶梯形状的衍射光学元件容易制作而被广泛使用。 一般，作为制造具 有阶梯形状的衍射光学元件的方法，有如下述非专利文献1记载的方法，该方法通过利用半导体的微加工技术，使用m (m是自然数)张掩模来 反复进行曝光、显影、蚀刻的一系列处理，制造2"级的衍射光学元件。 例如，在8级阶梯形状的情况下，使用3张掩模来反复进行3次的曝光、 显影、蚀刻。参照图12对该制造工序进行说明。在以下说明中，设形成有阶梯形状的周期宽度为P，在最终处理中 形成的阶梯的宽度为L，级差为D。周期宽度P是所谓的光栅间距P，在 图中由点划线表示该区域。假定阶梯的宽度全部相等，设L二P/k。这里， k是级数，在例如8级阶梯形状的情况下是k=8。并且，当设阶梯整体 的高度为H时，级差D由D二H/ (k—l)表示。图12 (7)示出最终形 成的阶梯形状和上述的P、 L、 D、 H。图12是各处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衍射光学元件的制造方法，在该制造方法中，通过使用抗蚀剂图形的蚀刻对基板进行表面加工，通过反复进行多次这样的处理，制造具有７级阶梯形状的衍射光学元件，该制造方法的特征在于，该制造方法包含：第１工序，以第１深度对成为第２、４、６级的 部分进行蚀刻，其中，上述第１深度是上述阶梯的级差；第２工序，以上述第１深度２倍的深度对成为最下级的部分进行蚀刻；第３工序，以上述第１深度２倍的深度对成为第５、６、７级的部分进行蚀刻；以及第４工序，以上述第１深度２倍的 深度对成为第３、４、５、６、７级的部分进行蚀刻。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：关川亮，前野仁典，
申请(专利权)人：冲电气工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]