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本发明提供一种可高精度地制造衍射光学元件、可实现衍射效率提高的衍射光学元件的制造方法。使用掩模来反复进行使涂布有抗蚀剂（２）的基板（１）曝光、显影、形成抗蚀剂图形并对该抗蚀剂图形进行蚀刻的一系列的处理，制造具有周期性的阶梯形状的衍射光学元件...
该专利属于冲电气工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过冲电气工业株式会社授权不得商用。

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