一种制作全息双闪耀光栅的方法技术

本发明专利技术公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：（１）在光栅基片上涂布光刻胶；（２）进行第一次干涉光刻，制作符合Ａ闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；（３）对于Ａ光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ａｒ离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；（４）重新涂布光刻胶；（５）将Ｂ光栅区进行遮挡，利用已制备完成的Ａ光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合Ｂ闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；（６）通过倾斜Ａｒ离子束扫描刻蚀，将Ｂ光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；（７）清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明专利技术实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种衍射光学元件的制备方法，具体涉及一种全息双闪耀光栅的制备方法。
技术介绍
光栅是一种应用非常广泛而重要的高分辨率的色散光学元件，在现代光学仪器中 占有相当重要的地位。 众所周知，单个栅缝衍射主极大方向实际上既是光线的几何光学传播方向，也是 整个多缝光栅的零级方向，它集中着光能，而又不能把各种波长分开，而实际应用中则偏重 于将尽可能多的光能集中在某一特定的级次上。为此需要将衍射光栅刻制成具有经过计算 确定的槽形，使单个栅槽衍射的主极大方向(或光线几何光学传播方向)与整个光栅预定 的衍射级次方向一致，这样可使大部分光能量集中在预定的衍射级次上。从这个方向探测 时，光谱的强度最大，这种现象称为闪耀(blaze)，这种光栅称为闪耀光栅。闪耀使得光栅的 衍射效率得到极大的提高。 闪耀光栅虽然有着很多的优点，但是在宽波段上，如从紫外到红外波段都想获得 较高的衍射效率，还是很困难，为此，出现了全息双闪耀光栅产品，以实现宽波段内，均有较 高的，均匀的衍射效率。全息双闪耀光栅由于具有宽波段的高效率优势，具有非常广阔的市 场前景。 现有技术中，闪耀光栅的主要制作方法有以下几类 A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制作全息双闪耀光栅的方法，所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是Ａ闪耀角和Ｂ闪耀角，双闪耀光栅分为两个区，对应Ａ闪耀角的为Ａ光栅区，对应Ｂ闪耀角的为Ｂ光栅区，其特征在于，制作方法包括下列步骤：（１）在光栅基片上涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据Ａ闪耀角确定；（２）进行第一次干涉光刻，制作符合Ａ闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；（３）遮挡Ｂ光栅区，对于Ａ光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ａｒ离子束扫描刻蚀，利用光刻胶光栅掩模对离子束的遮挡效果，使基底材料的不同位置先后被刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；之后清洗基片，保留下已刻蚀完的闪耀光栅槽形；（４）在光栅基片上重新涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据Ｂ闪耀角确定；（５）...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘全，吴建宏，汪海宾，胡祖元，陈新荣，李朝明，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]