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Ⅳ型凹面全息光栅的制作工艺流程，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅的制作工艺流程。本发明要解决的技术问题是提供一种Ⅳ型凹面全息光栅的制作工艺流程，解决技术问题的技术方案包括：基底处理、涂胶、前烘、全息曝光、显影、后烘、热熔、离子束刻蚀、清洁处...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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